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【課題】粘性液体の塗布断面積を光学式変位計で測定する際に、盛り上がり部分の斜面付近で変位データが正確に得られない場合や盛り上がり部分の幅が正確に求められない場合でも、その形状に適した算出方法で比較的正確な塗布断面積を測定できるようにする。
【解決手段】光学式変位計は、対物レンズ15を光軸方向に振動させると共にその位置を検出し、受光量が最大となるときの対物レンズ15の位置情報から測定対象物16の表面の変位を測定する。対物レンズ15の光軸と測定対象物16とを相対的に所定量ずつ移動させながら取得した測定対象物16の表面の変位データと受光量データとを記憶する。塗布形状の両端を検出するためのしきい値を用いて、その形状に適した断面積計算方法を選択する判定部44を備えており、断面形状に応じた計算方法で塗布断面積を測定できる。 (もっと読む)


増分干渉計を使用することなく、移動外部再帰反射器またはそのほかの移動目標表面の1またはそれを超える次元の絶対距離測定および/または表面走査および/または座標測定が可能なレーザ・デバイスおよび方法。
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【課題】複数の被検側面が被検基面に対してそれぞれ略一定の傾斜角度となるように配された被検体の、被検基面および複数の被検側面の相対傾斜角度を簡易かつ高精度に測定することが可能な被検面傾斜測定装置を得る。
【解決手段】干渉計本体20から出射された1つの測定光束を、測定光束出射光学系30において2つの測定光束に分岐し、一方を第1の照射軸線Lに沿って被検基面61に照射し、他方を第2の照射軸線Lに沿って被検側面62に照射する。干渉計本体20において得られる干渉縞情報により、第1の照射軸線Lに対する被検基面61の傾き、および第2の照射軸線Lに対する被検側面62の傾きをそれぞれ求め、その結果に基づき、被検基面61および複数の被検側面62の相対傾斜角度を求める。 (もっと読む)


【課題】ウェーハの裏面におけるマクロ検査結果の正常あるいは異常判定は異物数を閾値としていたために、異物やチッピングそしてチャック痕を識別することが困難であった。
【解決手段】ウェーハ裏面を任意のエリアに分割して、チャック痕の対象となるエリア数S1の設定、S1における単位面積あたりの異物数PS1の規格値を設定することにより、ウェーハ裏面の異物とチャック痕の識別を迅速に行うことが可能である。
また、チッピング判定エリアおよびチッピング判定エリア内における単位面積あたりの欠陥数の閾値を設定することで、迅速に異物とチッピングを識別することが可能でるため、半導体装置の製造ロスを未然に防ぐことが可能である。 (もっと読む)


【課題】 高い精度をもって測定対象の位置情報を測定することができる干渉計システム及び干渉計システムにおける信号処理方法等を提供する。
【解決手段】 検出信号K1は測定対象に測定光を照射して得られる信号をディジタル化した信号であり、急激に周期及びパルス幅が変動しない性質を有する信号である。フラグ生成部22は検出信号K1を同期化させた同期化信号K2の立ち上がり及び立ち下がりを検出する。周期計測部23は、同期検出信号K2に含まれる各パルスの周期及びパルス幅を計測して同期検出信号K2を1周期遅らせた遅延検出信号K3を生成する。エッジ監視部25は遅延検出信号K3の立ち上がり位置等を検出し、補完カウンタ部24はエッジ監視部25から出力される補完開始終了信号STに基づいて補完信号KCを生成し、遅延検出信号KCのパルス異常が生じている箇所を補完する。 (もっと読む)


対象物の画像化のシステムと方法。
検出器アレイの画像が画像面に配設される。検出器の各アレイは内挿部を有しているタイミング回路に接続され内装器はそれが放電する時とは異なった速度で第1のキャパシタを充電する第1の回路を含む。光パルスは対処物の方に送られるので光パルスの一部分は反射パルスとして対象物から反射され光パルスがいつ対象物へ送られたかを示す第1の値が記録される。反射されたパルスは1またはそれ以上の検出器で検出されそのパルスのパルス特性とその反射パルスが検出器にいつ到達したかを表わす第2の値とが記録される。対象物との範囲はその後第1及び第2の値と反射されたパルス特性の関数として計算される。 (もっと読む)


【課題】 経験や熟練を要することなく、間口の寸法および柱の傾きや鴨居の傾斜・撓みなどの形状を測定する装置を提供すること。
【解決手段】 立設した柱21を有する架台2と、この架台2の柱21に取り付けられる寸法測定装置本体1とを具備し、この寸法測定装置本体1は、柱21に取り付けられる基台26と、この基台26に水平方向に植設された固定軸27に回動自在に設けられた回転台3と、この回転台3上に載置され、基台26に対する回転台3の回動角度を検出するロータリ・エンコーダ32と、回転台3に載置され、基台26から間口の測定点まで長さを検出するワイヤーまたはテープ38およびインクリメンタル形のリニア・エンコーダ33と、検出した角度データおよび長さデータを対応させて極座標で格納する記憶手段とを具備するものである。 (もっと読む)


【課題】透明の対象物を計測する際に、複数の山部のピーク位置又は重心位置が適切に検出されて対象物の変位や厚みが精度良く計測可能な光学式変位計を提供する。
【解決手段】対象物に光を照射するための発光素子と、対象物からの光を受光して受光量に応じた電気信号を出力するイメージセンサーと、イメージセンサーからの電気信号を増幅する増幅器を含む信号処理回路と、信号処理回路から得られた画像信号の波形における山部を検出して対象物までの距離又は対象物の変位を求める計測処理を実行する制御部とを備えた光学式変位計において、画像信号の波形に複数の山部C1,C2が存在するときに、制御部は、画像信号に基づいて発光素子の発光量及び増幅器の増幅率を含む操作量の少なくとも一つを調整するフィードバック制御と計測処理とを複数の山部C1,C2のそれぞれについて時分割で実行する。 (もっと読む)


【課題】測定対象が入射する波長の長さに近づくにつれて、測定誤差や再現率、リニアリティーが低下しない寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 画像処理において、予め作成しておいた、校正用スライステーブル及び計算式により、一度計測した測定値から、新たなスライスレベルを参照することで、測定誤差や再現率、リニアリティーが改善する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、発光素子の経年劣化に影響を与えることなく発光量を補正する人体検知装置を提供する。
【解決手段】 本発明では、被検出体からの反射光を受光レンズで集光させて受光する一次元位置検出素子と、前記一次元位置検出素子から検出される長手方向の両端より検出する電流比で被検出体までの距離を演算する距離演算手段とを備えた人体検知装置において、前記一次元位置検出素子の両端より検出する総電流量を測定する総電流量検出手段と、前記発光素子の周囲温度を検出する温度検出手段と前記発光素子の駆動電流量を可変する駆動電流設定手段とを有するとともに、前記駆動電流設定手段は、前記距離演算手段と前記総電流量検出手段と前記温度検出手段の出力を参照し、前記発光素子の駆動電流量を可変する。 (もっと読む)


一実施形態は、データ入力デバイスとある表面(304)との間の相対的な動作を、該表面での連続するフレーム内における光学的な特徴の変位を判定することによって感知するための光学変位センサに関する。前記センサは、少なくとも検出器、第1の回路構成、及び第2の回路構成を含む。前記検出器は、第1及び第2のアレイ(例えば1502及び1504)に編成された複数の感光素子を含む。前記第1の回路構成は、前記第1のアレイのM番目毎の素子からの信号を組み合わせて、Mグループ信号を生成するよう構成され、前記第2の回路構成は、前記第2のアレイのM’番目毎の素子からの信号を組み合わせて、M’グループ信号を生成するよう構成される。前記MとM’とは、互いに異なる数である。他の実施形態もまた開示した。
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本発明は人の視覚挙動を決定するための方法と装置に関する。本発明の方法は、次のステップ、即ち、被験者の頭部の動きを記録するステップ、被験者の眼球運動を記録するステップ、頭部に対する眼の相対的方位を決定するステップ、及び眼球が各方位に維持されていた時間の量を決定するステップを含む。上記時間の量は、有限区間内の方位の記録を収集し、各区間内の記録の数(頻度)を計数することによって求められる。前記方位は、頭部と眼球の両方に対して角座標を用いて特定される。データは、頭部に固定される発光素子(51)、カメラ(63)及び被験者の視線を引き付けるためのスクリーン(611、612)を備えたデバイスの援助により検知及び処理される。本方法から得られる結果は、眼鏡用レンズの設計をカスタマイズするために用いられる。

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第1に、光ファイバを備える鉄道監視システムである。光ファイバの第1の部分は、レールの軌道の組の1つに取り付け可能であり、ファイバの第1の部分の特徴は、ファイバの第1の部分が取り付けられる前述の1つの軌道の特性の変化に応じて可変である点である。システムはまた、光信号をファイバの中に放射するためのファイバに接続された光信号放射器を含み、ファイバは少なくとも第1の変更された光信号を生成し、この信号はファイバの一部の特性の変化に関係する情報を含む。システムは更に、第1変更された光信号に含まれる情報に基づいた、1つの軌道の特性の変化を確認するために、ファイバに接続されて第1の変更された光信号を受信して解析するための光信号アナライザを含む。
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本発明は、偏向器システムにおいて任意の形状のパターンの座標を決定するための方法に関する。この方法は、基本的に、前記パターンを第1の方向Xへと移動させる工程と、前記パターンのエッジの位置の計算を、垂直な方向Yに実行されるマイクロ・スイープの数を前記エッジが検出されるまでカウントすることによって行う工程と、前記座標の決定を、カウントされたマイクロ・スイープの数を前記パターンの前記移動の速さに関係付けることによって行う工程とを含む。また、本発明は、この方法を実装するソフトウェアに関する。
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