【課題】簡単な作業で、被測定物の腐食状態を把握することができる腐食検査方法を提供する。
【解決手段】
腐食検査方法では、被測定物に外装材が取り付けられた状態で、中性子水分計にて、外装材の水分量についてのカウント値を測定し、カウント値が予め設定された閾値よりも高い場合にのみ、渦電流探傷器にて、被測定物の肉厚を測定する。従って、測定速度が速い中性子水分計にて、多数の被測定物から閾値よりも高い被測定物を特定し、その特定した被測定物についてのみ肉厚測定を実施すればよいので、腐食検査に時間がかからず、簡単な作業で、被測定物の腐食状態を把握することができる。また、特定した被測定物については、肉厚を直接測定するため、簡単な作業で適切な保守管理ができる。 （もっと読む）

【課題】放射線の線量を少なくでき、簡易な方法でかつ従来と同様な精度の腐食調査が可能な腐食画像を得る方法及び装置を得る。
【解決手段】本発明に係る腐食画像取得方法は、放射線を被検査体に照射して前記被検査体を透過した放射線に基づいて前記被検査体の腐食状態を示す腐食画像を取得する腐食画像取得方法であって、前記被検査体を透過した放射線を検出する検出手段としてフォトンカウンティングセンサを用い、フォトンカウンティングセンサで得られた結果に基づいて腐食画像を形成するようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線ＣＴ装置を用いることなく、Ｘ線透視を行うことにより、アルミダイキャスト部品のボイド等の欠陥をはじめとして、透視対象物内部の特異部位の３次元位置情報を正確に知ることができ、加えて３次元の概略形状を知ることのできるＸ線透視を用いた３次元観測方法と、その方法を用いたＸ線透視装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線源１とＸ線検出器２の対と透視対象物Ｗとの相対位置を変化させ張ることにより、透視方向を少なくとも３方向に相違させた透視対象物Ｗの透視像を取得し、その各透視像上で特異部位の像を抽出し、各透視方向の透視像上で抽出された特異部位の像対応付けした後、各透視方向の透視像上の特異部位の像と、これらの各透視像を得たときのＸ線源１とＸ線検出器２の透視対象物Ｗに対する相対的な３次元位置情報を用いて、特異部位の３次元位置および／または３次元形状を算出し、表示する。 （もっと読む）

【課題】試料の構造の局所的な不均一性を評価する。
【解決手段】Ｘ線照射部１０はコヒーレントなＸ線を発生し、照射Ｘ線１１として試料１２の局所的な領域に照射する。そして、散乱Ｘ線検出部１４は試料１２からの散乱Ｘ線１１ａの散乱強度を検出する。この時検出される散乱強度の分布は、試料１２の膜厚、密度および表面・界面のラフネスや結晶方位といった構造が不均一である場合、その不均一性を反映したスペックルとなる。演算部１６は、このスペックルに基づいて、試料１２からの散乱Ｘ線１１ａの散乱強度の不均一さを表すパラメータを算出し、試料１２の構造の不均一性の指標とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、１次光学系にプレチャージの機能も持たせてプレチャージユニットの設置を省略できるとともに、試料に対するプレチャージの領域と量を制御し、試料に応じた最適なプレチャージを行うことができる電子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】試料Ｓを載置するステージ３０と、
所定の照射領域１５を有する電子ビーム生成し、該電子ビームを前記試料に向けて照射する１次光学系１０と、
前記電子ビームの前記試料への照射により発生した、前記試料の構造情報を得た電子を検出し、所定の視野領域２５について前記試料の像を取得する２次光学系２０と、
前記所定の照射領域の位置を、前記所定の視野領域に対して変更可能な照射領域変更手段１３、１４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】人為的判断が入らず、条件により値が変わるなどの不正確さがなく、かつ磁性塗膜以外も適用可能な層厚さ測定方法及び層の界面平滑度の測定方法を提供する。
【解決手段】元素組成の異なる層を有する構造物における層厚さ測定方法であって、前記構造物の断面を作製する断面作製工程１と、前記断面の断面画像を取得する画像取得工程２と、前記取得した断面画像から画像輝度データを得る画像輝度データ取得工程３とを備えており、前記断面画像の厚さ方向において、前記断面画像の前記画像輝度データの変化率が極値となる位置を前記層の界面位置とし、前記界面位置に基づいて前記層の厚さを求める。 （もっと読む）

【課題】原子炉の停止を不要とし、経済性も高く、検査回数を増やすことやリアルタイム連続監視が可能で、より安全な原子炉運転を実現する。
【解決手段】基本的な構成は、フォトンカウンティング・イメージャーを用いて、配管外部からＸ線による放射線画像を計測、濃淡によって示される放射線強度情報から金属配管の厚みを検出、異常箇所の発見をするものである。
また、フォトンカウンティング動作のエネルギー弁別機能により、低エネルギーであることを利用して、背景雑音となる散乱線を除去する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線によって高い空間分解能で被検体の表面形状を検査できるようにする。
【解決手段】Ｘ線検査装置に、真空容器５に収められたリング状の電子エミッタ６およびリング状のＸ線ターゲット７を備える。リング状のＸ線ターゲット７から放出されたＸ線は、すべて所定のＸ線照射領域１１に向かう。このＸ線は、被検体に照射され、被検体から放たれる散乱または蛍光Ｘ線１２は、反射Ｘ線コリメータ２を通って、Ｘ線二次検出器３によって検出される。リング状のＸ線ターゲット７から放出されるＸ線９は、すべて所定のＸ線照射領域１１に向かうため、Ｘ線ターゲット７の熱衝撃を大きくすることなく、Ｘ線強度を増加させ、検査精度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】精度を維持してＣＴ画像の合成を行うことができ、試料を部分的に拡大して撮影する場合等においても、複数の３次元画像を高い精度のもとに合成して試料全体の３次元情報を正確に得ることのできるＸ線ＣＴ装置を提供する。
【解決手段】回転テーブル３上に試料Ｗを収容する筒状の枠体２０を配置し、その枠体２０には、回転テーブル３上への搭載状態で回転軸Ｒに略直交する方向に伸びる少なくとも１本の溝を２１ａ，２１ｂ，２１ｃを形成しておき、各部分撮影に際しては溝２１ａ，２１ｂ，または２１ｃのいずれかを含む領域を各撮影領域の重複領域に収まるようにすることで、各３次元画像の合成に際しては各溝２１ａ，２１ｂ，または２１ｃが合致するように画像を合成することによって、合成精度を向上させることを可能とする。 （もっと読む）

【目的】本発明は、複数の被観察試料の相対位置を測定する相対位置測定方法および相対位置測定装置に関し、比較対象の複数の被観察試料の重ね合わせ位置などの相対的位置を直接に高精度に測定することを目的とする。
【構成】 相対位置の測定対象の複数の被観察試料を同時に搭載し、かつ移動可能な１つのステージと、相対位置の測定対象の複数の被観察試料について、それぞれの位置を精密測定するレーザ干渉計とを備え、レーザ干渉計で複数の被観察試料の位置をそれぞれ測定するステップと、複数の被観察試料上のパターンの画像を取得するステップと、取得した画像および測定したそれぞれの被観察試料の位置をもとに各被観察試料の画像上のパターンの相対位置をそれぞれ算出するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 高価な測定装置を使用することなく、連続Ｘ線発生源の軟線と硬線の割合を算出する方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 均一な物質に連続Ｘ線を照射して得られる透過厚と透過強度との関係を示す透過厚特性データを用いて、連続Ｘ線を単色Ｘ線の重ね合わせでモデル化して、軟線と硬線の割合を算出する。 （もっと読む）

【課題】イメージインテンシファイアを用いて配管肉厚測定を行う方法において、被測定物である配管における測定位置の特定を可能にし、また、減肉量測定の精度を向上させる目的とする。
【解決手段】放射線Ｒを発生させる放射線発生装置３及び放射線発生装置３にて発生した放射線Ｒを入射し光に変換して前記光のイメージを増幅するイメージインテンシファイア４からなる放射線検査装置２と、放射線検査装置２の位置を検出する位置検出装置８とを設け、この位置検出装置８により被測定物である配管Ａの測定位置を特定するように構成した。 （もっと読む）

【課題】検査対象の表面の電位分布を均一にし、撮像した画像のコントラストを向上させる。
【解決手段】電子銃から放出された電子ビームを対象に照射し、対象から放出された電子を検出器を用いて検出し、前記対象の画像情報の収集、対象の欠陥の検査等を行う撮像装置において、前記対象に帯電した電荷を均一化若しくは低減化する手段を有する。 （もっと読む）

【課題】電子写真感光体を破壊、加工することなく、連続して検査することのできるＥＰＭＡ法による検査装置および検査方法を提供することである。
【解決手段】試料に電子線を照射する電子線光学手段が接続され、所定の真空度に保持された試料室と、真空排気手段および給気手段とが接続され、前記試料室との間で試料の出し入れを行う第１開口部および外部との間で試料の出し入れを行う第２開口部を有する予備排気室と、前記第１開口部を開閉するための第１仕切り弁と、前記第２開口部を開閉するための第2仕切り弁と、試料を保持して外部と予備排気室と試料室との間を移動する試料台と、この試料台の移動に対応して、前記第１仕切り弁および第２仕切り弁の開閉、予備排気室の給・排気を行う制御手段とを備えたことを特徴とするＥＰＭＡ法による検査装置である。 （もっと読む）

【課題】 基板の欠陥を高感度で検出する。
【解決手段】 二次電子ビームの焦点面に、検査対象部位に応じた形状およびサイズの複数の開口絞りが設けられた可動絞り板８１を設置し、任意の検査対象部位から高い二次電子放出比で放出される二次電子ビームが可動絞り板８１を通過してＭＣＰ検出器３１の検出面で結像するように絞り８１Ｂα〜８１Ｂγ，８１Ｄα〜８１Ｄγを選択する。 （もっと読む）

【課題】
真円ではないホール形状に対しても最適な近似曲線を求めてラフネスの評価を容易に行うことのできるホールラフネス計測方法および装置を提供する。
【解決手段】
被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出し、検出したエッジについてのエッジ座標をθ−ｒ平面に変換し、θ−ｒ平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、周波数成分に基づいてθ−ｒ平面でのホールの近似ホールの近似曲線を形成し、該近似曲線を検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビーム描画装置のビーム位置補正を精度良く行う方法を実現する。
【解決手段】 メトロロジー測定を複数のマーク位置について正順および逆順でそれぞれ行ってマーク位置ごとの位置誤差とピッチング値またはヨーイング値を互いに垂直な２軸方向において求め（１０１）、位置誤差とピッチング値またはヨーイング値について正順と逆順の差をマーク位置ごとに互いに垂直な２軸方向において求め（１０１）、アッベエラーによるマーク位置ごとのビーム位置補正効果を予め仮定された複数のアッベエラーについてそれぞれシミュレーションして、位置誤差の正順と逆順の差が複数のマーク位置を通じて互いに垂直な２軸方向においてそれぞれ最小となる２種類のアッベエラーを互いに垂直な２軸方向のアッベエラーとしてそれぞれ特定し（１０３）、それらアッベエラーを用いてビーム位置を補正する（１０４）。 （もっと読む）

対象物の画像を記録する為の走査方式の放射線検知装置であって、対象物と相互作用をした後、扇形イオン化放射線ビームに暴露される一次元検知器ユニット（４１）と、前記対象物の二次元画像を作成する為に反復して検知している間、対象物に対して一次元検知器ユニット（４１）及び扇形ビームを相対移動させるデバイス（８７，８８，８９，９１）と、反復検知を制御する為の制御装置を備える。一次元検知器ユニット（４１）は、イオン化放射線感応厚さｄｔを有し、厚さｄｔは、一次元検知器ユニットを照射する時には、扇形ビームの厚さよりも大きい。各々の一次元画像の暴露時間を短くし、且つ二次元画像の空間分解能を高くする為に、扇形ビームの一次元画像は、前記移動のｎ番目の長さ単位毎に記録される。ここで、ｎは、この長さ単位において扇形ビームの厚さのほぼ半分よりも小さくはなく、この長さ単位において一次元検知器ユニット（４１）のイオン化放射線感応厚さ（ｄｔ）より小さい。
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【課題】画像を処理することにより、信号可干渉性に起因する歪みを除去した画像を得る
ことができるミリ波イメージング装置を提供する。
【解決手段】図１のミリ波イメージング装置は、受信されたミリ波により像を撮像するミリ波帯撮像器Ｃ１およびミリ波帯撮像器Ｃ２と、ミリ波帯撮像器Ｃ１に接続されるアンテナＡＮＴ１、ミリ波帯撮像器Ｃ２に接続され、アンテナＡＮＴ１からのミリ波の照射方向と同一の照射方向にミリ波を照射し反射したミリ波を受信するアンテナＡＮＴ２、を有するアンテナ送受信系とを備え、アンテナＡＮＴ１とアンテナＡＮＴ２の一方が他方に対し照射方向にオフセットされていることで、ミリ波帯撮像器Ｃ１の画像とミリ波帯撮像器Ｃ２の画像を処理することにより、信号可干渉性に起因する歪みを除去した画像を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】
設計データと実際のパターン間の位置あわせするための確たる基準がなく、設計データが示す理想パターンに対し、測定対象パターンがどの程度ずれて形成されているのか等、何らかの基準に基づいて、測定することができなかった。
【解決手段】
上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。 （もっと読む）