【課題】連続鋳造鋳片や厚板等の中心偏析を、定量的かつ高精度で、しかも広い領域を迅速に評価することができる中心偏析評価方法を提案する。
【解決手段】連続鋳造鋳片および厚鋼板の中心偏析を評価する方法であって、ＥＰＭＡ等を用いて中心偏析部を含む領域の濃度マッピング分析を行い、Ｎｂ等の指標元素の濃度が所定の閾値濃度以上である面積を求め、その面積をもって中心偏析を評価することを特徴とする中心偏析評価方法。 （もっと読む）

【課題】軽元素から成る微小な試料に対しても充分な高分解能、高コントラストを得ることができ、in-situの状態で試料を観察することができるＸ線顕微装置を提供する。
【解決手段】電子銃の電子源からの電子線をＸ線ターゲットに当ててＸ線を発生させるＸ線発生手段と、試料に照射されたＸ線の透過Ｘ線を撮像素子で撮像する撮像手段とを具備したＸ線顕微装置において、Ｘ線発生手段は波長０．１〜１．２ｎｍの長波長の特性Ｘ線を発生し、Ｘ線ターゲットを真空封止するＸ線透過窓基材はベリリウムで成り、Ｘ線透過窓基材の厚さが１０〜６０μｍであると共に、撮像手段の試料室が密封構成であり、試料室にガスを充填して試料の透過画像を撮像手段で得る。 （もっと読む）

【課題】数μｍ程度の電子ビームの位置の変動の影響を受けることなく、１０〜２０μｍφ程度の微小スポットの特性Ｘ線を低角度で安定して出射すること可能にしたＸ線発生装置を提供することにある。
【解決手段】内部を真空可能に構成した管本体と、該管本体内において電子ビームを発生する電子源と、前記管本体内に設けられ、前記電子源から出射される電子ビームが照射されることによりＸ線を発生するためのターゲット部材とを備えたＸ線発生装置において、
前記ターゲット部材３ａ、３ｂを、繰り返される複数の微小幅のストライプ状金属薄膜３２を基材３１、３１ａに埋め込んで形成し、前記電子ビームを前記特定のストライプ状金属薄膜に照射することにより前記特定のストライプ状金属薄膜から特性Ｘ線を低角度でＸ線窓１２を通して外部に出射するように構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
試料の欠陥を検査する装置において、装置が小型化できて省スペース，コストダウン，振動抑止と高速化，検査の信頼性が得られ、特に大口径化したウエハの場合に効果が大きい荷電ビーム検査装置を得る。
【解決手段】
少なくとも一つ以上の検査を荷電ビーム機構で行う複数の検査機構を具備し、各検査機構を概略一軸に配する共通の真空容器内に設けられた各検査機構間を一軸移動する一軸移動機構と、試料を載置し一軸移動機構上に回転軸を有した回転ステージと、試料を各検査機構間で一軸移動機構により移動させ、次に回転ステージで試料の検査位置を検査機構へ調整して合わせ、検査機構により試料の検査を行う。 （もっと読む）

【課題】 凹凸がある試料において分析不可能な領域を測定者が判断可能なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】 試料Ｓ上の任意の照射ポイントＰに放射線を照射するＸ線管球１１と、試料Ｓから放出される特性Ｘ線及び散乱Ｘ線を検出し該特性Ｘ線及び散乱Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器１２と、試料Ｓに対して照明光を出射して照明する狭域照明機構１３Ａ及び広域照明機構１３Ｂと、照明光で照明された試料Ｓの照明画像を画像データとして取得する狭域観察機構１４Ａ及び広域観察機構１４Ｂと、を備え、これら観察機構が、検出時における照射ポイントＰとＸ線検出器１２とを結んだ方向と同じ方向に照明時における照明光の光軸が照射ポイントＰに向けて設定される狭域斜め照明部１９及び広域斜め照明部２１を有している。 （もっと読む）

【課題】
電子顕微鏡を用いた欠陥のレビュー方法、および欠陥のレビュー装置において、電子ビームの自動焦点合わせの設定に要するユーザの工数を低減し、試料の観察を容易化する。
【解決手段】
観察対象の座標上に予め登録された複数個の座標位置について焦点合わせを行い、座標位置における各焦点位置に基づいて焦点合わせの基準を作成し、該基準と前記焦点位置との間のずれ量に基づいて焦点探索範囲を設定し、観察対象の欠陥検出の自動焦点合わせの範囲を、設定された焦点探索範囲に基づいて決定する。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェーハ上に非検知元素よりなる疎水性膜２を設けた、液滴状分析試料の乾固を行う全反射蛍光Ｘ線分析用試料板の改良により、空実験でＳｉピークを確実に消滅させ、気相分解法と全反射蛍光Ｘ線分析を組み合わせる高感度化手法において、Ｓｉとエレルギー値の近いＰ，Ａｌ，Ｍｇ等も高感度化させる。
【解決手段】Ｓｉの特性Ｘ線が発生するのは、膜２の表面４で全反射するＸ線５が表面下８まで侵入し、この領域には微小欠陥群が存在してＸ線の散乱９が起こり膜界面のシリコンが励起する為と考え、試料板の試料乾固域の下方に十分の広さのシリコン欠如部分（凹部）を設けて、散乱Ｘ線９がシリコンと遭遇しないようにした。凹部の天井の乾固用膜は十分に薄く出来て不純物の絶対量が減るので、Ｓｉピークの消滅と同時に分析対象元素全般の空試験値も低減させ得る。 （もっと読む）

【課題】多段サーモ・モジュールにかかる負荷を軽減する。不純線を抑制する。
【解決手段】コールドフィンガー（３）の熱伝導部材（３ａ）および蓋部材（３ｂ）をアルミニウム製とし、且つ、半導体Ｘ線検出素子（１）とＦＥＴ部（２）の間に、蛍光Ｘ線遮蔽部材（６）を設ける。
【効果】半導体Ｘ線検出装置（３０）を鉛直方向から傾けた姿勢で設置したときに多段サーモ・モジュール（４）にかかる負担を軽減でき、振動・衝撃に強くなり、輸送時の信頼性や寿命を向上できる。Ｘ線が半導体Ｘ線検出素子（１）を突き抜けて熱伝導部材（３ａ）のアルミニウムに吸収されることで発生した蛍光Ｘ線が半導体Ｘ線検出素子（１）に後方から入射することを抑制でき、不純線を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】マイクロフォーカスＸ線管のＸ線焦点の経時的なずれを低減した画像品質の高いＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】真空状態の容器内に収容された電子銃１１４と容器内にあって電子銃１１４から発生した電子の進行方向側の端部に配置されたターゲット１１５とを備え電子銃１１４及びターゲット１１５に高電圧が印加されることでターゲット１１５のＸ線焦点ＦからＸ線３を発生させるＸ線管１１ａと、このＸ線管１１ａから照射され、被検体２を透過したＸ線を検出するＸ線検出器１３と、ターゲット１１５近傍の容器外周に設けられた突片１１７と、Ｘ線焦点Ｆを一端とする方向にＸ線管１１ａを摺動可能に支持するレール１６と、レール１６よりターゲット１１５に近い位置で突片１１７を係止する係止部１４１を備えてＸ線管１１ａを所定位置に支持する支持台１４とを備える。
。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の所定の検査エリアを高速に検査することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１００は、Ｘ線を出力する走査型Ｘ線源１０と、複数のＸ線検出器２３が取り付けられ、複数のＸ線検出器２３を独立に駆動可能なＸ線検出器駆動部２２と、Ｘ線検出器駆動部２２やＸ線検出器２３からの画像データの取得を制御するための画像取得制御機構３０を備える。走査型Ｘ線源１０は、各Ｘ線検出器２３について、Ｘ線が検査対象２０の所定の検査エリアを透過して各Ｘ線検出器２３に対して入射するように設定されたＸ線の放射の起点位置の各々に、Ｘ線源のＸ線焦点位置を移動させてＸ線を放射する。Ｘ線検出器２３の一部についての撮像と他の一部についての撮像位置への移動が並行して交互に実行される。画像制御取得機構３０はＸ線検出器２３が検出した画像データを取得し、演算部７０はその画像データに基づき検査エリアの画像の再構成を行なう。 （もっと読む）

【課題】 リチウムが存在する試料を高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させ、その後、大気に曝すことなく窒素雰囲気のままＥＤＸ或いはＥＰＭＡ分析装置に導入し、窒化リチウムの窒素の分析により、定性的にリチウムの存在を確認可能な分析方法を提供することにある。
【解決手段】 グローブボックス１内に、十分な置換可能な量の乾燥空気を、乾燥空気導入口５を通して流し込み置換し、その後、連続してグローブボックス１内に、露点温度−２０度以下の純度９９．９％以上の窒素を、窒素ガス導入口６を通して流し込み置換する。試料をグローブボックス１内で、高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させる。ＥＤＸ分析装置９内の試料室へ試料を導入し、試料に電子線を照射しＥＤＸスペクトルより、窒素元素の特性Ｘ線のピークを分析することにより、リチウムの存在が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 バックグランドレベルからピークを越えてまたバックグランドレベルまで至るＸ線スペクトル波形の全体の形状を、必要最小時間の1回の測定で正確に測定し、表示するための方法を提供する。
【解決手段】
ある分光位置においてｔｏ時間計数したときの統計変動を含まないＸ線計数値Ｎカウントが持つばらつきの標準偏差ＥｏはＳｑｒｔ（Ｎ）である。Ｘ線強度の高い分光位置で、このばらつきが一定の大きさＥｒ（表示許容誤差）より大きい場合、ｔｏよりも長いｔｍ時間計数して総計数値をＮｍカウントに増やす。Ｎｍの標準偏差ＥｍはＥｒより大きいが、実際にスペクトル表示に使われるＸ線計数値Ｎｄは、ｔｏ時間の計数値に規格化されるので、そのばらつきＥｍも規格化されてＥｄになり、Ｅｒと同じか小さくなる。従って、表示されるスペクトルの全ての分光位置におけるばらつきはＥｒと同じか小さくなる。 （もっと読む）

【課題】ナノメーターオーダーの薄層を高精度で定性分析又は定量分析することを課題とする。
【解決手段】照射された電子線の散乱を小さくしうるナノメーターオーダーの厚さに調整した被分析箇所を有する試料中の被分析箇所に電子線を照射し、前記被分析箇所から発せられる特性Ｘ線中の所望元素のＸ線を波長分散型Ｘ線分光検出器にて検出することで、前記被分析箇所を定性分析又は定量分析することを特徴とするＸ線分析方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 従来のナライザによるけられ（遮蔽）を解消し、分解能に優れたデバイシェラー光学系を備えたＸ線回折測定装置とそのための方法を提供する。
【解決手段】 被測定試料Ｓに照射する特性Ｘ線を発生するＸ線源１０と；試料を中心に取り囲んで配置されたＸ線フィルム３０と；試料とＸ線フィルムとの間に配置され、試料からの散乱Ｘ線を、当該試料を中心に所定の角度で集めてＸ線フィルムの所定の位置に照射する放物面を有する人工多層膜からなるミラー１００を備えたデバイシェラー光学系を備えたＸ線回折測定装置により、散乱Ｘ線を、当該試料を中心に所定の角度で集め、当該試料を中心に取り囲んで配置されたＸ線フィルム上にデバイ環を得る。 （もっと読む）

【課題】セメント硬化体から細骨材や混和材等を分離することなく、このセメント硬化体に用いられたセメントのクリンカ品種そのものを精度良く推定することが可能であり、しかも、１ｍｍ角程度の大きさの試料からも充分推定することが可能なセメント硬化体に用いられたセメントのクリンカ品種の推定方法を提供する。
【解決手段】セメント硬化体に用いられたセメントのクリンカ品種を電子プローブマイクロアナライザを用いて推定する方法であって、セメント硬化体中に残存している未水和カルシウムシリケート相を選択し、この未水和カルシウムシリケート相の微小部分の組成分析を電子プローブマイクロアナライザを用いて行い、この組成分析の結果に基づきセメントのクリンカ品種を推定する。 （もっと読む）

【課題】ＰＢＴ組成物中の配合剤や重合触媒等、高分子材料に含まれる微量成分の分析法であって、該微量成分を検出できる高い感度、精度を有するとともに、煩雑な処理等を必要としない簡便性の高い分析法を提供する。
【解決手段】高分子材料中の微量成分の分析法であって、前記高分子材料を酸素存在下、加熱して灰化する工程、及び前記灰化後の試料に電子線を照射し、発生する特性Ｘ線による元素分析をする工程、を有することを特徴とする高分子材料中の微量成分の分析法。 （もっと読む）

【課題】高次回折の特性Ｘ線を用いる状態分析において、高次線の測定を行う条件を自動的に設定し、得られたスペクトルを１次線の値に換算して表示できるようにする。
【解決手段】 入力装置１２から状態分析を行う元素の元素名、特性Ｘ線種及び回折次数を入力する。測定制御装置１１は指定された元素の特性Ｘ線種に従って記憶装置１４から１次線の波長データを読出し、回折次数に基づいて実際の分光波長位置と測定波長範囲を求める。さらに、指定された回折次数のＸ線信号のみが選別されるように、ＷＤＳ測定系８内のＰＨＡの条件を設定する。
測定された高次回折線のスペクトルを１次線の値に換算し、表示装置１３に表示する。 （もっと読む）

【課題】 損傷及び／又は汚染が発生するまでの間に測定された特性Ｘ線強度の値に基づいて試料分析を行うことにより、適切な試料分析を実行することのできる試料分析方法及び試料分析装置を提供する。
【解決手段】 試料８に電子線９を照射し、電子線９の照射に応じて試料８から発生する特性Ｘ線１０の強度を、時間経過とともに時分割にて測定して試料８の分析を行う試料分析において、測定開始時に測定された特性Ｘ線強度の初期値と、その後の各測定タイミングで測定された特性Ｘ線強度の値（経時値）との比較を行い、時間経過に応じて順次測定された経時値が、初期値に対して所定割合の増減幅内に設定された許容値範囲から外れたときに測定を中止し、初期値及び許容値範囲内となっている各経時値に基づいて試料分析を行う。 （もっと読む）

【課題】試料のセット時に生じる試料表面の傾斜を補正する方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、試料ステージに載置された試料に電子線を照射し、試料内部から発せられる特性Ｘ線が試料表面での全反射現象により検出されない角度以下に試料ステージを傾斜させて特性Ｘ線の取出角度を設定することにより試料の表層から発せられる特性Ｘ線のみをＸ線検出器で選択的に検出する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、所定の基準面に対する試料表面の傾斜角度を求める工程と、求められた傾斜角度が相殺されるように試料ステージを傾斜させて特性Ｘ線の取出角度を設定する工程を備える。 （もっと読む）

【解決手段】各々が個々のフォトンに対応している複数のステップエッジを有するプリアンプ信号の傾きに基づいて、ＦＩＲフィルタのような、パルスプロセッサのエネルギー測定フィルタの応答を調整する方法が提供され、当該方法は、各々がデジタル値を有する連続的な複数のデジタルサンプルを含むプリアンプ信号のデジタルバージョンを受信する工程を含んでおり、プリアンプ信号は、複数のステップエッジの中の第１ステップエッジと、複数のステップエッジの第１ステップエッジの直後に続く、複数のステップエッジの中の第２ステップエッジとで規定される部分を有している。当該方法は、当該部分に関するデジタルサンプルの各々のデジタル値を用いて、当該部分の長さで規格化された当該部分の傾きの平均値を決定する工程と、エネルギー測定フィルタの応答を補正するために当該部分の長さで規格化された当該部分の傾きの平均値を用いる工程とを含んでいる。 （もっと読む）