【課題】基板検査工程の段階で、基板欠陥を検出するに限らず、その欠陥の電気的特性を取得し、検出した欠陥の要因となる原因物質を特定する。
【解決手段】ＴＦＴアレイ基板検査装置１は、ＴＦＴアレイ基板３０に電子線を照射する電子線源２と、この電子線照射によってＴＦＴアレイ基板から放出される二次電子２０を検出する二次電子検出器５と、ＴＦＴアレイ基板を撮像する撮像装置７と、電子線をＴＦＴアレイ基板上で走査し、走査で得られる二次電子を前記二次電子検出器で検出して基板の欠陥検出を行う基板欠陥検出部１１と、電子線をＴＦＴアレイ基板上の特定位置に照射し、この照射で得られる二次電子を二次電子検出器で検出して基板のＳＥＭ像を形成するＳＥＭ像処理部１２と、撮像装置で撮像した撮像信号により撮像画像を取得する撮像画像処理部１４を備える。 （もっと読む）

【課題】 電子プローブマイクロアナライザを用いる地質年代測定と年代マップの表示を効率よく行う。
【解決手段】 （ａ）の分析領域Ｒに設定されているグリッド状の分析点（白丸で示す）と（ｂ）の分析領域に対応した反射電子像（原子番号の高い部分を黒く表示）の位置を対応させた状態が（ｃ）である。（ｄ）の棒グラフは、（ｃ）の直線Ｌ上に位置する分析点Ｌ１〜Ｌ１２における反射電子強度を表す。閾値Ｈ以上の反射電子強度を持つ分析点のみを測定対象とすると、（ｅ）中のＲ１〜Ｒ３は反射電子強度が閾値Ｈ以上の条件を満たす測定対象領域である。 （もっと読む）

【課題】同一粒子線照射条件及び走査条件の下で試料上の所定の測定範囲の拡大画像の取得と同時に該範囲のスペクトル分析を行うことにより、測定時間の短縮を図るとともに測定の正確性を向上させる。
【解決手段】操作部２４から走査速度などの走査条件と測定範囲とが設定され測定開始指示が与えられると、同期制御部２２は、測定範囲内で電子線照射位置が走査されるように試料ステージ４の駆動を開始し、それと同時に、電子検出器１５による検出信号に基づく二次電子画像の作成と、Ｘ線検出器９によるＸ線パルスに基づくＸ線スペクトルの作成とを開始させる。走査の進行に伴って徐々に二次電子画像が現れ、徐々にＸ線スペクトル強度が上昇するから、表示部２５の画面上で同一ウインドウ内に両者をリアルタイムで表示する。これにより、１回の走査が終了した時点で、測定範囲の二次電子画像とＸ線スペクトルとを共に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。
【解決手段】強度と導電率とのバランスからＮｉ、Ｓｉ、Ｔｉを各々特定量含有する銅合金組織の、５０〜２００ｎｍの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるＴｉの平均原子濃度を一定範囲に制御して、一定量のＴｉ含有析出物を存在させ、このＴｉ含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を２０μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。 （もっと読む）

【課題】面分析における定量分析の精度を向上させる方法を提供する。
【解決手段】試料表面上に点分析位置と点分析位置を含むように面分析領域を指定し、点分析位置に一次エネルギー線を照射して発生した二次エネルギー線に基づいて点分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、面分析領域内を一次エネルギーで走査して発生した二次エネルギー線に基づいて面分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、次に、点分析におけるピーク強度とバックグランド強度から原子濃度を求め、面分析におけるピーク強度とバックグランド強度の内で点分析位置に対応した位置に存在する元素に対応したピーク強度とバックグランド強度と、求めた原子濃度から元素に対応した相対感度係数値を求め、この相対感度係数と面分析におけるピーク強度とバックグランド強度とに基づいて面分析領域の定量計算を行う。 （もっと読む）

【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。
【解決手段】強度と導電率とのバランスからＮｉ、Ｓｉ、Ｃｒを各々特定量含有する銅合金組織の、５０〜２００ｎｍの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるＣｒの平均原子濃度を一定範囲に制御して、一定量のＣｒ含有析出物を存在させ、このＣｒ含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を３０μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。 （もっと読む）

【課題】試料の水平移動に伴って試料表面高さを一定にするべく高さ制御を行う場合に、高さの変化が急であると高さ制御が追従しきれずに不正確な分析となり、また急な高さ変化に追従可能とすると分析時間が長くなり過ぎる。
【解決手段】試料ステージ制御部１０はＸ、Ｙ座標値に応じたＺ座標情報に基づいて試料Ｓの表面高さの変化が急である場合には、水平方向への移動速度を遅くするべく駆動機構６、７を制御する。一方、これによって水平方向への試料Ｓの移動速度が変化するため、Ｘ線パルスの計数の開始・停止を決める同期信号の時間間隔を計測するべく、クロック信号を計数する計数器２３を設け、このクロック信号の計数値でＸ線パルスの計数値を除することで単位時間当たりの値に換算する。これにより、移動速度の変化の影響を受けない正確なＸ線強度を求めることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線分光器に関し、遮蔽板の調整を確実かつ正確に行なうことができるＸ線分光器を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡に搭載されたＸ線分光器であって、試料から発生した特性Ｘ線を回折格子７に導き、該回折格子７で分光したＸ線の強さを検出してＸ線分析を行なうＸ線分光器３において、Ｘ線分光器３内に入射される分光Ｘ線の内、０次光Ｘ線１２を遮蔽する０次光遮蔽板１３と、該０次光遮蔽板１３をＸ線検出器５のＸ線分光方向に移動する移動機構と、該移動機構にＸ線分光器内の真空状態を保持するための保持手段を設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】 放射線検出器に到達する検出用放射線の量を従来の構成のものよりも増やすことができうる放射線検出装置及びそれを用いた放射線分析装置を提供する
【解決手段】 放射線を検出する放射線検出器１と、検出する放射線が入射する放射線導波系に放射線を透過させる透過機能を有する光学部材１１、１２と、放射線が入射してくる側に放射線導波系上最も近接した部位に、放射線が入射してくる側から入射される放射線を集光する集光機能を備えているキャピラリ７を設けるようにした。 （もっと読む）

【課題】ＬＭＩＳ汚染を発生させることなく、膜中の異物を正確に検出し電子顕微鏡による観察を迅速に行うことができる荷電粒子線装置、試料加工方法及び半導体検査装置を提供する。
【解決手段】他の光学式検査装置によって検出された、膜６６中に存在する欠陥の原因となる異物６５を他の光学式検査装置で取得された位置情報を基に光学式顕微鏡４３で検出し、電子顕微鏡画像やイオン顕微鏡画像による異物６５の観察やＥＤＸによる異物６５の元素分析ができるように非金属のイオンビーム２２で試料３１を加工する。 （もっと読む）

【課題】ラインスキャン方式において、電子ビームの位置ずれを補正して正確な二次元マッピング画像を得る。
【解決手段】ビーム走査部により電子ビームで試料表面の所定の領域を走査して得られた二次元画像の１つを参照画像として記憶しておき、予め設定された本数のラインスキャンごとにビーム走査部を駆動させて二次元画像を得、参照画像記憶部に記憶されている参照画像と比較して電子ビームのズレ量を算出する。その算出されたズレ量に基づいて偏向レンズにより電子ビームの位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】それぞれ異なる分光結晶を搭載する複数のＸ線分光器を装備し各Ｘ線分光器毎に検出する波長を設定して複数の元素の同時分析を行う波長分散型のＸ線分析装置において、Ｘ線分光器に対する分析対象元素の割り当てを適切に行うことで測定回数を減らしながら正確な測定を行う。
【解決手段】複数の分析対象元素の中で濃度の低い順に、より高い感度での分析が可能な分光結晶と特性Ｘ線の種類の組合せを選択し（Ｓ２、Ｓ３）、選択した分光結晶が装置に装備されているか否か、既に他の分析対象元素に割り当てられているか否か、さらには選択された特性Ｘ線に他の元素の特性Ｘ線の重畳がないかどうか、をそれぞれチェックし（Ｓ４〜Ｓ７）、問題がなければ選択された分光結晶（Ｘ線分光器）に分析対象元素を登録する（Ｓ９）。これを濃度の低い順に繰り返して、全元素をＸ線分光器に割り当てる。 （もっと読む）

【課題】特性Ｘ線の取出角度と測定深さとの相関を求めることを可能とする斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、試料内部から発せられる特性Ｘ線が試料表面での全反射現象により検出されない角度以下に特性Ｘ線の取出角度を設定することにより試料の表層から発せられる特性Ｘ線のみを選択的に検出する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、試料を試料内部としての下地と試料表層としての所定厚の上地で構成し、下地から発せられる特性Ｘ線の取出角度を所定角度から徐々に小さくして前記特性Ｘ線の消失角度を見出し、見出された消失角度を所定厚の上地の構成元素のみを選択的に分析できる取出角度として定義する。 （もっと読む）

【課題】 ミクロ分析データキューブのスペクトルミクロ分析及び統計学的分析を遂行する方法、並びにこのような方法を実施するための装置及びシステムを提供する。
【解決手段】 スペクトルミクロ分析を遂行するためのシステムは、データ収集の進行中に分析結果を与える。試料におけるピクセルからスペクトルが収集されるにつれて、このシステムは、スペクトルを周期的に分析して、提案される試料成分を表す基礎的スペクトルを統計学的に導出し（Ａ）、この導出されたスペクトルは、変化する割合で合成されて、各ピクセルにおいて測定されたスペクトルを（少なくとも近似的に）生じさせる。次いで、同じ優勢な提案される成分を有し、及び／又は提案される成分の少なくともほぼ同じ割合を含むピクセルは、それらの測定されたスペクトルを合成（即ち、加算又は平均化）することができる（Ｃ、Ｄ）。次いで、これらのスペクトルは、基準ライブラリーを経て相互参照され、実際に存在する成分を識別することができる（Ｅ）。前記分析中に、前記測定されたスペクトルは、好ましくは、その測定されたスペクトルを構成するエネルギーチャンネル／インターバルの数を減少することにより及び／又は隣接ピクセルの測定されたスペクトルを合成することにより凝縮されて、データキューブのサイズを減少すると共に、分析結果を促進させる（Ｇ）。 （もっと読む）

原子力発電所の伝熱面の表面から物質の試料を摘出し、試料の高解像度走査電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分光法と、試料の走査透過電子顕微鏡/制限視野電子線回折/スポット分析および元素マッピング分析との少なくとも1つを行うことをも含む、原子力発電所の伝熱面の表面上の堆積物中の結晶を分析する方法。
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【課題】製造されたデバイスの内部構造をテストするために薄いサンプルを準備して像形成する。
【解決手段】物体のサンプルを形成し、物体からサンプルを抽出し、真空チャンバーにおいて表面分析及び電子透過度分析を含むマイクロ分析をこのサンプルに受けさせるための方法及び装置が開示される。ある実施形態では、抽出されたサンプルの物体断面表面を像形成するための方法が提供される。任意であるが、サンプルは、真空チャンバー内で繰り返し薄くされて像形成される。ある実施形態では、サンプルは、任意のアパーチャーを含むサンプル支持体に位置される。任意であるが、サンプルは、物体断面表面がサンプル支持体の表面に実質的に平行となるようにサンプル支持体の表面に位置される。サンプル支持体に装着されると、サンプルは、真空チャンバー内でマイクロ分析を受けるか、又はロードステーションにロードされる。 （もっと読む）

【課題】２次ターゲット26の交換を容易に可能とし、複数種類の特性Ｘ線25を容易に放出できるＸ線源11を提供する。
【解決手段】Ｘ線透過窓13を有する真空容器12内に、電子ビーム15を発生する電子銃14、電子ビーム15が入射して１次Ｘ線21を放出する１次ターゲット20を設ける。１次Ｘ線21は、真空容器12のＸ線透過窓13を透過する。真空容器12のＸ線透過窓13の外側を囲って、ボックス形の２次ターゲット体23を着脱可能に取り付ける。２次ターゲット体23は、Ｘ線透過窓13を透過する１次Ｘ線21が入射して特性Ｘ線25を放出する２次ターゲット26を備える。２次ターゲット体23には、特性Ｘ線25を外部に放出する特性Ｘ線取出窓27を設ける。 （もっと読む）

【課題】波長分散型Ｘ線分析装置において状態分析のために高波長分解能でのＸ線プロファイルを取得する際の時間を短縮する。また、定量／定性分析のための広い波長範囲に亘るＸ線プロファイルの取得に並行的に状態分析用Ｘ線プロファイルの取得を可能とする。
【解決手段】分光結晶４とＸ線検出器６とを倍角の関係（θ，２θ）を保って移動させる従来の波長走査駆動部２１とは別に、分光結晶４のみを軸４ａを中心に微小角度範囲だけ高速で回動させる微小駆動部２２を設ける。例えば波長走査駆動部２１により比較的大きな波長ステップ幅で波長走査する際に目的元素のピーク位置に達すると、Ｘ線検出器６の位置を停止して分光結晶４のみを繰り返し往復回動させ、その動作に同期してデータ処理部２４はＸ線検出データを取得してＸ線プロファイルを作成する。 （もっと読む）

【課題】パイルアップの影響を抑えて最適な検出下限となるように、入射線の強度を決定して測定を行うことが可能なエネルギー分散型放射線検出システム及び対象元素の含有量測定方法を提供する。
【解決手段】エネルギー分散型放射線検出システム１は、試料Ｍに所定の強度で入射線Ｐを照射する入射系２と、入射線Ｐが照射されることで試料Ｍから放出される放射線Ｑを検出する検出系３とを備え、検出された放射線Ｑのスペクトルに基づいて試料Ｍの対象元素の含有量を特定するもので、検出された放射線Ｑのスペクトルに基づいて、対象元素の検出下限が最小となる入射線Ｐの最適強度を決定して、入射線Ｐを最適強度で照射させることが可能な制御部１０を備える。 （もっと読む）

【課題】波長分解能の高い湾曲分光結晶を用いた分光器を試料から離して配置できるようにすることで、ＥＰＭＡだけでなく走査顕微鏡等の他のＸ線分析装置にも対応可能とする。
【解決手段】点／点型のマルチキャピラリＸ線レンズ１０を、その入射側焦点Ｆ３が試料２の微小領域３に合致するように配置し、出射側焦点Ｆ４が湾曲分光結晶４の入射側焦点Ｆ１と合致するように延伸させる。電子線１の照射に応じて試料２上の微小領域３から放出された固有Ｘ線はＸ線レンズ１０で効率良く収集されて試料２から離れた位置まで案内され、焦点Ｆ４に収束するように出射される。湾曲分光結晶４にはその入射側焦点Ｆ１からＸ線が拡がりつつ到来するから、効率よく回折面に当たって特定波長のＸ線が焦点Ｆ２に集まってＸ線検出器７に入射する。 （もっと読む）