【課題】
半導体デバイスの検査装置で、欠陥検出のための画像処理のようなある領域データに対する繰り返し演算を実行する場合、繰り返し演算数分の命令・データロード、演算、データストアを繰り返す必要があり、高速化にも限界がある。また、微細画像を扱う大容量画像処理で並列コンピューティング処理を行う場合、非常に多くのプロセッサが必要となり、装置コスト引き上げる要因となっている。
【解決手段】
前記課題を解決するために、本発明は次のような構成をとる。
まず、同時にリード・ライト可能なアクセス手段を持つデータメモリと、複数の数値演算手段と、該データメモリと数値演算手段とを接続する手段と、前記複数の数値演算手段の処理内容を一括制御する制御手段と、該数値演算手段と前記一括制御手段とを接続する手段と、数値演算手段同士のデータ移動制御手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、試料の交換作業を短時間で行なえる真空搬送装置を実現し、しかも、占有面積が小さく、スループットを向上させた荷電粒子線検査装置を提供する。
【解決手段】２つの駆動源２，１０により回転および上下動作が可能なアーム１と、このアーム１の両端に、アーム１の回転に伴って回転するように支持されて試料を載置する第１のハンド２２と第２のハンド２３とを上下方向に離間させて配置して、アーム１の回転と上下動作の制御のみにより試料の搬送とその交換を可能した真空搬送装置２６を構成し、また、この真空搬送装置２６を荷電粒子線検査装置の予備排気室ではなく真空試料室内に配置した。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は物品のラベル付け、検出、および管理するための方法、およびその装置を提供する。本発明の方法は物品のラベルを定義する工程を含む。前記ラベルは、前記物品の少なくとも１つの固有の化学元素および／または付加的化学元素を有し、ラベル付けされたデータを含有するデータベースを提供する工程と、物品により送信される信号を検出して検出データを生成し、前記データを前記データベース内のデータと比較する工程と、前記比較テストにしたがって、検出される物品が前記ラベル付けされた物品であるか否かを決定する工程と、前記データベース内の前記物品の少なくとも１つのメッセージを読み込む工程とを有する。本発明の物品ラベル付けおよび検出ソリューションは、識別、物品ラベル付け、別の物品との交換の防止、ロジスティック管理、統計分析、資産の保護、および責任所在の追跡など様々な分野の社会経済的管理および経営管理に使用可能なものである。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線画像中における異物をノイズ成分と確実に分別し得る高異物検出感度のＸ線異物検出方法及び装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線画像内の任意の注目画素に対してその近傍画素を含む単位処理範囲を設定し、複数の注目画素について各単位処理範囲ごとに注目画素及び近傍画素の画像濃度レベルを平均化する平滑化処理段階と、平滑化処理がなされた画像データの濃度レベルを所定の異物候補抽出用の閾値と比較してそれを超える異物候補の画像領域を抽出する抽出処理段階と、異物候補の画像領域についてその周縁部の有効画素を減じるようにその画像領域を縮小した後に縮小画像領域内の有効画素数を増加させるように縮小画像領域を拡大する収縮・膨張処理段階と、を含み、収縮・膨張処理された画像データによって生成される画像領域中に有効画素が所定数以上集まった孤立領域が形成されるか否かで検出すべき異物の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】増強された分解能をもつＸ線散乱測定を用いた試料の検査方法を提供する。
【解決手段】その試料の検査方法は、試料に向かってＸ線ビームを誘導する段階と、試料から散乱させられたＸ線を捕捉すべく検出器素子のアレイを構成する段階とを含む。試料は、アレイのピッチの整数倍数でない増分だけ相互に分離された少なくとも第１および第２の位置との間で該アレイの軸に平行な方向にシフトされる。試料がそれぞれ少なくとも該第１および第２の位置のそれぞれにあるときに検出器素子が捕捉したＸ線に応答して、該検出器素子により少なくとも第１および第２の信号が生成される。この第１および第２の信号は、前記軸に沿った位置の関数として、試料のＸ線散乱プロファイルを決定すべく合成される。 （もっと読む）

【課題】 硬組織についてより精密な評価を行なうことを可能とする配向性の分析方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の硬組織の配向性の分析方法は、Bragg角度がa軸、ｃ軸の配向性を判断できるようにX線の入射方向と硬組織の試料表面との角度を設定し、かつ、前記ｃ軸の配向性の場合に、前記角度を2θ＝26°前後に設定するとともに、試料揺動を行う条件下で、X線で硬組織における結晶の配向性の評価を、前記a軸、c軸、及びそれ以外の方向に対する回折強度を比較することにより行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ線分析装置において、試料の位置合わせを容易にかつ正確に実現することにある。
【解決手段】 蛍光Ｘ線分析装置１は、試料が搭載される試料ステージ５を有する筐体４と、筐体４内に配置され試料にＸ線を照射するＸ線管８と、筐体４内に配置され試料からの蛍光Ｘ線を検出する検出器１１と、筐体４内に配置され試料にレーザー光を照射するレーザー９とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、被検対象物（１）の材料界面を決定するための方法及び装置に関し、透過放射線を用いて、画像データの画像値を取得することによって被検対象物（１）の三次元画像データを生成するか、或いは取得して置いた画像データの画像値によって被検対象物（１）の三次元画像データを取得し、被検対象物（１）に対して相対的に、画像データを評価するための評価線（１７）を決定し、評価線（１７）の方向における画像値の第１の部分導関数の絶対値が材料界面の位置に極大値を有するように、この評価線に沿って存在する画像値を評価することによって、被検対象物（１）の材料界面の位置を決定するものである。
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【課題】粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。
【解決手段】サンプルを基板に配置する段階、中心部分が平面に沿って延在する帯形Ｘ線ビームをＸ線放射線源により生成する段階、サンプルがビームの経路内となり、サンプルの薄片部がビームによって照射される初期位置に、基板およびサンプルを配置する段階、基板の初期位置に対する基板の以下の運動、すなわち、基板に垂直な回転軸線の周りの回転であって、所定の回転角にわたる基板およびサンプルの回転と、傾斜軸線の周りのビームの中心部分が延在する平面と回転軸線がなす角度として定義される傾斜角にわたる基およびサンプルの傾動であって、第１所定値と第２所定値の間で変化する傾斜角にわたる傾動とを実施する段階、及び基板の運動が実施される時間間隔の間にサンプルを透過し回折されたＸ線放射を前記検出器で検出する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】搬送装置によって縦向状態で搬送されるタイヤを無用に移動させることなく、または向きを変えることなく検査することのできるタイヤの非破壊検査装置を提供する。
【解決手段】タイヤＴＡを縦向状態で搬送する第１の搬送装置１から搬出されるタイヤＴＡを載置台１０に縦向状態で載置するとともに、載置台１０上のタイヤＴＡを回転支持機構２０で支持して回転させ、回転しているタイヤＴＡの透過Ｘ線像を各カメラ４１，４２によって撮像するようにしたので、第１の搬送装置１によって縦向状態で搬送されるタイヤＴＡを無用に移動させることなく、または向きを変えることなく検査することができ、タイヤＴＡを移動させ、または向きを変えるための機構を設けない分だけ装置全体の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】迅速に動作し、寿命が長いスキャナを有するＸ線画像形成装置の提供。
【解決手段】Ｘ線走査装置は、軸Ｘの周りに離間していると共に、当該軸上の対象物を通してセンサ（５２）により検出されるＸ線を放射するように配置される複数の多重焦点Ｘ線管（２５）を備える。各管（２５）は、複数の線源位置からＸ線を放射することができる。各管の線源位置それぞれが一度使用される各走査サイクルにおいて、管（２５）に対する熱負荷を最小にするように、使用される位置の順序が設定される。これは、各線源位置が前のアクティブな線源位置及び次のアクティブな線源位置と隣接しないことを確実にすることにより達成される。
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【課題】従来測定者が行っていた手作業を簡略化し、精度良く迅速に物質を同定することが可能な物質同定システムを提供する。
【解決手段】電子線装置に、電子線回折像観察用ＴＶカメラ１０によって取り込んだ回折像から格子面間隔を算出する電子線回折像解析部３、ＥＤＸ検出器９に接続され物質組成を求めるＥＤＸ分析部２、物質同定のための検索用データベースとデータベース検索機能を備えた物質同定部４を有する。物質同定部４は、電子線回折像解析部３から送信された格子面間隔データ、ＥＤＸ分析部２から送信された元素データをもとに検索用データベースを検索して物質を同定する。 （もっと読む）

【課題】 取得した投影データの再構成画像において、擬似焦点による２重画像を防止する。
【解決手段】 ターゲット上のＸ線焦点２を頂点とし、その中心軸４がカソードから放出される熱電子流と略同軸上にある円錐形状に第１照射野２ａを形成するＸ線源１の焦点２から、上記カソードより放出される熱電子流に略直交する検出面を初期姿勢とする２次元検出器へ降ろした垂線と直角に交わる被検査体５回転軸を中心として、被検査体回転機構に載置した被検査体５をＸ線源１と二次元検出器の間で回転させ、被検査体５の投影データを取得する際、被検査体５の全部又は特定部分を、本来のＸ線焦点２による第１照射野２ａのうち擬似焦点３による第２照射野３ａの影響を受けない領域に移動して、各角度位相における被検査体５の投影データを取得する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線管から出射されたＸ線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするＸ線回折分析技術を提供する。
【解決手段】 固定保持されている試料（１）を照らす入射Ｘ線（８）として所定の元素の特性Ｘ線を発生させるＸ線管（９）が固定保持される位置が、入射Ｘ線（８）が試料（１）の被測定領域（Ａ）全体を照らすことのできる位置であって且つ試料（１）と接触しない範囲で限りなく試料（１）に接近した位置である。 （もっと読む）

【課題】 短時間で確実に高精度の焦点合わせができるように改良した光電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 収束イオンビームまたは電子ビームを試料表面の観察部位の直近に照射してマーキングするためのイオン源または電子線源を備えたことを特徴とする光電子顕微鏡。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を処理する方法及び装置、特に、半導体基板の処理に用いるための計測ツールを提供する。
【解決手段】本発明の１つの態様により、半導体基板を処理するための半導体基板処理装置及び方法が提供される。本方法は、表面と各形態が第１の座標系の第１のそれぞれの点でこの表面上に位置決めされたこの表面上の複数の形態とを有する半導体基板を準備する段階と、第２の座標系の第２のそれぞれの点で各形態の位置をプロットする段階と、第１及び第２の座標系の間の変換を発生させる段階とを含むことができる。変換を発生させる段階は、第１及び第２の座標系の間のオフセットを計算する段階する段階を含むことができる。オフセットを計算する段階は、第１の座標系の基準点と第２の座標系の基準点の間のオフセット距離を計算する段階、及び第１の座標系の軸線と第２の座標系の軸線の間のオフセット角度を計算する段階を含むことができる。 （もっと読む）

ｘ線回折を利用した走査方法が開示される。この方法は、容器内の特定の物質によって回折されたｘ線を検出するよう光導電体ｘ線変換層を有するフラットパネル検出器を用いて交通センターで容器内に特定の物質があるかどうかを検査する段階を有する。回折ｘ線は、例えば波長分散回折及びエネルギ分散回折により種々の仕方で特性決定できる。
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【課題】 金属帯の表面に形成されるＰなどの軽元素を含む表面処理皮膜について、該皮膜中に含まれる軽元素の付着量を、蛍光Ｘ線分析装置を用いてオンライン分析できる付着量測定装置および測定方法を提供する。
【解決手段】 表面に皮膜が形成された走行中の金属帯の皮膜付着量測定装置であって、走行中の金属帯に近接して配置され、該金属帯表面にＸ線を照射し、励起・放射される蛍光Ｘ線を検出する蛍光Ｘ線測定ヘッドと、前記蛍光Ｘ線測定ヘッドを該金属帯幅方向に往復動可能に支持する支持装置と、前記蛍光Ｘ線測定ヘッドの該金属帯走行方向上流に配置され、該金属帯の形状を検出する形状センサと、前記形状センサで検出した金属帯の形状が閾値を超えたときに前記蛍光Ｘ線測定ヘッドを該金属帯幅方向端部外方または板面から離れる方向に退避させる退避装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 薄膜化した試料に電子線を照射して観察、特にX線検出による元素分析を、背景雑音を低減して高精度、高分解能で行える試料観察装置および試料観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】 薄膜試料の直後に孔部を有する軽元素材料からなる部材５６を配置して、電子線８で該試料２２の特定部位を観察する。
【効果】 本発明により、薄膜試料に電子線を照射して観察する際に、該試料以外の部分から発生するX線、および、該試料以外の箇所で散乱されて再び該試料に入射する電子線を低減できる。これにより高精度、高感度な２次電子像観察および元素分析が可能となり、一段と微細化が進むＬＳＩデバイス等の内部観察等を、高精度、高分解能で実施できる試料観察装置および試料観察方法を提供できる。 （もっと読む）

【課題】半導体等を高速に検査できるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。
【解決手段】電子光学系を少なくても３本以上配置し、複数の電子源を搭載した電子銃室を試料室とは独立に真空排気することによって複数の電子源近傍の真空度を常に高真空に保つ。また、電子線通路を高真空排気可能な遮蔽電極で電界および磁界を各電子光学系内に封じ込めることとともに、試料に負の電圧を設定して二次電子や反射電子を電子線光軸の電子源側の方向に加速することによって、二次電子や反射電子を同一光学系内で検出する。 これにより、同一の回路パターン同士でほぼ同時に得られた検出信号を比較し、パターン検査の欠陥判定を同時に行う。 （もっと読む）