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Fターム[2G001GA12]の内容

Fターム[2G001GA12]に分類される特許

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【解決手段】時間的に変化する分類性能の監視のためのシステムおよび方法が開示される。方法は、1つまたは複数の走査型検査ツールからの1つまたは複数の標本の1つまたは複数の特性の指標となる、1つまたは複数の信号を受信することと、前記1つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記1つまたは複数の信号に、1つまたは複数の分類規則を適用して、前記1つまたは複数の標本における1つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、1つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記1つまたは複数の標本における前記1つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、前記1つまたは複数の走査型検査ツールから受信した1つまたは複数の信号に適用される1つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記1つまたは複数の標本における前記1つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記1つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記1つまたは複数の標本における前記1つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の1つまたは複数の相関を計算することと、を含みうるが、これに限定されるものではない。 (もっと読む)


【課題】試料保持用の膜により覆われた基板の開口部を、光学顕微鏡により効率良く探し出すことのできる試料保持体を提供する。
【解決手段】試料を保持するための膜10により覆われた開口部20を有する基板を備え、開口部20を覆っている膜の部分10aに保持された試料のSEM観察・検査ができるように構成された試料保持体において、該基板上には、開口部20の位置する方向を識別するためのパターン501,502が形成されている。 (もっと読む)


【課題】下層パターンを上面パターン上から判別できない場合であっても、上下層の位置関係を高精度に測定可能なパターン検査方法を提供すること。
【解決手段】下層側の実パターンを撮像した下層画像パターンと下層設計パターンとの間の位置ずれ量を下層データとして下層のパターン毎に算出し、上層側の実パターンと下層側の実パターンとの間の所定範囲内でのグローバルな合わせずれ量を算出し、下層設計パターンと上層設計パターンとの間の位置関係を、グローバルな合わせずれ量に応じた位置関係に補正するとともに下層のパターン毎に下層データに応じた位置関係に補正し、補正された下層設計パターンの位置と上層側の実パターンを撮像した上層画像パターンの位置との間の合わせずれ量を上下層間の合わせずれ量として算出する算出ステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】X線照射によって得られた転がり軸受のX線断層データによってグリース状態及び保持器内部を高精度に観察することができる転がり軸受の観察方法を提供する。
【解決手段】グリースのグレースケールが、内輪、外輪及び転動体のグレースケールと異なる範囲となるように、前記内輪、外輪、転動体及びグリースの材料を選定し、保持器は、フッ素系樹脂及び強化繊維の混合材料、或いは耐熱性樹脂及び強化繊維の混合材料とし、フッ素系樹脂或いは耐熱性樹脂の樹脂部分と強化繊維とは、グレースケールが異なる材料を選定する。そして、X線吸収率データに基いて転がり軸受断面の濃淡をグレースケールで表す画像データを取得して画像表示装置で表示する。また、内輪、外輪、転動体及びグリースの状態を画像表示装置で観察する。また、保持器の樹脂部分と強化繊維とを分離する濃淡処理を行うことで、強化繊維の繊維流れ方向を画像表示装置で観察する。 (もっと読む)


1つの実施形態は、画像処理装置(302)を用いて自動的に多重アレイ領域(102)を同時に検査する方法に関する。その方法は、多重アレイ領域における各アレイ領域が、サイズにおいて整数個の画素であるグレープ化されたセルを有するように、最適な画素サイズを選択するステップ(211または212)と、選択された最適な画素サイズになるように画像処理装置の画素サイズを調整するステップとを含む。画素サイズの有効な範囲内の最適な画素サイズは、セルサイズが整数で表現される場合に、多重アレイ領域のセルサイズの最大公約数を見出すことにより究明されてもよい(202)。事前設定された基準は、もしあれば、事前設定された基準に基づいて、最適な画素サイズのどれが容認できるのかを究明するために(208)適用されてもよい。最適な画素サイズのどれも容認できないならば、アレイ領域の1つは、デジタル補間のためにマークされてもよい(216を参照)。他の実施形態、態様、および特徴もまた開示される。 (もっと読む)


【課題】初心者であっても、試行錯誤することなく、様々な評価対象パターンに対して、最適な評価指標を容易に選択可能な表面観察装置を実現する技術の提供。
【解決手段】画像処理部から評価画像入力部に複数の評価画像が入力される(ステップ901)。入力された評価画像はディスプレイ115に表示され、ユーザはディスプレイを参照しながらユーザの評価基準で画像を並べ替えて評価基準を定義する(ステップ902)。入力された評価画像に対して複数の評価指標で評価値を算出する(ステップ903)。各評価指標における評価値と、ユーザが定義した評価基準とを比較して、相関係数を算出して(ステップ904)、ユーザが定義した評価基準に対して、相関係数の絶対値が最大の評価指標を、最も近い評価基準として自動選択する(ステップ905)。相関係数順に、画像が並びけられ、ディスプレイに評価値順に一覧表示される(ステップ906)。 (もっと読む)


【課題】破片などが発生した際においても、その検知が容易な熱可塑性ポリウレタン成形物とその製造方法とを提供すること課題としている。
【解決手段】熱可塑性ポリウレタンとX線造影剤とを含有する熱可塑性ポリウレタン組成物によって形成されており、前記X線造影剤が、前記熱可塑性ポリウレタン100重量部に対して10重量部以上25重量部以下含有され、しかも、前記X線造影剤の内の少なくとも50重量%がビスマス系化合物であることを特徴とする熱可塑性ポリウレタン成形物などを提供する。 (もっと読む)


【課題】欠陥レビュー装置などで取得された欠陥画像と設計データに基づくレイアウト画像とのマッチング処理の効率向上を図る。
【解決手段】欠陥画像処理装置は、設計データから得られるレイアウト画像52と、欠陥画像53から欠陥領域部分を除去した画像と、を正規化相互相関により画像マッチングし、そのマッチング結果として、レイアウト画像&欠陥画像54を表示装置に表示する。このとき、レイアウト画像&欠陥画像54には、欠陥画像53と同じレイヤのレイアウト画像だけでなく、他のレイヤのレイアウト画像が欠陥画像53に重ね合わせて表示される。従って、他のレイヤとの位置関係で発生するシステマティック欠陥の要因解析が容易になる。 (もっと読む)


【課題】TFTアレイ検査装置において、ピクセルの仕様やピクセルの検出点数等の検査条件を変更する場合に、データテーブルの作成を不要として、テーブル作成に要する時間を省いて作業時間を短縮する。
【解決手段】TFTアレイ検査装置は、TFT基板に荷電粒子ビームを照射し、この荷電粒子ビーム照射によりTFT基板の画素電極から発生する二次電子を検出することによってTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置であり、荷電粒子ビームのフォーカスを定めるフォーカスパラメータを荷電粒子ビームのサンプリングピッチに基づいて算出するフォーカスパラメータ算出手段と、算出したフォーカスパラメータに基づいて荷電粒子ビームのフォーカスを制御するフォーカス制御手段とを備え、ビーム径やビーム形状等の設定データをデータテーブルに格納する構成に代えて演算によって求める。 (もっと読む)


【課題】微小異物を検出するまでの処理を簡易に行うことができ、当該微小異物の検出を確実に行うことが可能なX線検査装置を提供する。
【解決手段】各第2フォトダイオード421の面は、各第1フォトダイオード311の面の整数倍の面積を有する。この構成を得るために、複数の第2フォトダイオード421は、各第2フォトダイオード421の交差方向L2における一辺の距離L42が、各第1フォトダイオード311の交差方向L2における一辺の距離L32の整数倍(例えば2倍)となるように、各々並んで配設される。この場合、各第2フォトダイオード421のサイズ(面積)は、各第1フォトダイオード311のサイズ(面積)の2倍となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、プロセス変動等に依らず、高いマッチング精度を安定して確保することが可能なテンプレートマッチング用テンプレート作成方法、及びテンプレート作成装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、予め記憶されたテンプレートと、顕微鏡によって取得された画像を比較することによって、所望の位置を特定するテンプレートマッチング用テンプレートの作成方法、及び装置において、テンプレートマッチングによって、特定された個所の画像を複数取得し、当該複数画像を加算平均することによって、新たなテンプレートを作成するテンプレートマッチング用テンプレートの作成方法、及び装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】TFTアレイの検査において、走査画像の高い位置分解能と短い検査時間とを両立させ、ピクセル位置に対する走査画像の位置精度を高め、欠陥の検出精度を向上させる。
【解決手段】TFTアレイ検査は、1ピクセル当たりに照射する荷電粒子ビームの照射点数を増やし、ピクセルの境界に跨ることなくピクセルの中心側を照射する照射点の個数を増やす。照射点数を増やすことによって、隣接するピクセルの影響を受けることなく各ピクセルの取得データを取得して走査画像の位置分解能を向上させる。1ピクセルについて取得する取得データのデータ数を増やすことによって、走査するフレーム数を減少させて検査時間を短縮し、これによって、走査画像の高い位置分解能と短い検査時間とを両立させる。 (もっと読む)


【課題】部品実装基板の製造ラインで機械的接続不良を検出でき、かつ、その要因を解析する。
【解決手段】プリント基板の印刷回路に印刷または塗布されたクリームはんだ状態を判定するクリームはんだ判定部13、プリント基板1の印刷回路と実装部品との間をはんだ付けするはんだ付け状態を外観観察してはんだ付け状態を判定するはんだ付け外観判定部17と、はんだ付けを完了したプリント基板に対してX線を照射して走査し、その内部画像を構成するコンピュータ断層撮影で観察し、はんだ付け状態を判定する断層判定部18とを具備し、それらの判断結果によって実装部品を搭載したプリント基板の機械的接続不良を検出し、また、その機械的接続不良の要因を解析自在としたものである。 (もっと読む)


【課題】装置自体で放射線の照射開始等を検出し、一括リセット処理によって生じる画像データの周期的な濃度の増減の悪影響を排除可能な放射線画像撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線画像撮影装置1は、複数の放射線検出素子7と、放射線検出素子7ごとに配置されたスイッチ手段8と、走査線5に印加する電圧を切り替える走査駆動手段15と、各放射線検出素子7にバイアス電圧を供給するバイアス線9を流れる電流を検出する電流検出手段43と、検出された電流の値に基づいて放射線の照射開始を検出する制御手段22とを備え、制御手段22は、走査駆動手段15からオン電圧を印加する走査線5を順次切り替えながら放射線検出素子7のリセット処理を繰り返し行い、放射線の照射の開始を検出するとオン電圧を印加する走査線5の切り替えを停止し、各スイッチ手段8にオフ電圧を印加させて放射線検出素子7内で発生した電荷を保持させる。 (もっと読む)


【課題】 検査対象物の減肉量を適切に検出する非破壊検査装置を提供する。
【解決手段】 検査対象物4に向けて放射線源1から放射線を照射し、さらに検査対象物4の中心を通る直線上で放射線源1と相対向する位置から時計方向及び反時計方向にずれた検出位置にそれぞれ配設した各放射線検出器2,3で前記放射線を検出し、各検出位置における放射線検出器2,3の出力信号である透過放射線の強度を表す透過信号強度の比に基づき、検出位置における検査対象物4の減肉量を未知数として含む方程式をそれぞれ作成し、さらに放射線源1及び各放射線検出器2,3の相対的な位置関係を変えることなく放射線源1の位置及び放射線検出器2,3の検出位置を検査対象物4の外周面に沿って同角度ずつ移動させることにより検査対象物4の外周面に沿う少なくとも3箇所で同様の放射線の検出を行うとともに、前記未知数と同数の前記方程式を連立させて解くことにより各検出位置における検査対象物4の減肉量をそれぞれ求めるようにした。 (もっと読む)


【課題】専門的な知識を持たないユーザでも比較的容易にウェハ検査における検査条件を決定できることを目的とする。
【解決手段】過去に撮像した画像及び当該画像に関する検査条件の情報が格納されている検査条件データベース115を有し、解析制御ユニット114が、検査条件データベース115に格納されている複数のサンプル画像及び当該サンプル画像に関する検査条件を画像処理ユニット113に表示し、入力部を介して表示されている複数のサンプル画像及び検査条件から、所定の検査条件が選択され、入力部を介して、ウェハにおける所定の領域が選択され、当該選択された領域を選択された検査条件で、電子線ウェハ検査装置100が撮像を行って取得画像を取得し、取得画像の解析を行い、解析の結果に基づいて、所定の検査条件の評価付けを行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】合成材料をはじめとする材料の異常の非破壊検査及び評価を行う。
【解決手段】材料と参照基準に対してコンピュータ断層スキャン等の三次元撮像スキャンを実施し、スキャニングによって生成された複数の二次元走査画面において材料の試験画像と参照基準の参照画像とを表示するステップが含まれる。参照画像は、走査画面中に配された後、正規化され、参照画像それぞれの画素値データの少なくとも平均値が算出される。試験画像の画素値データは、走査画面ごとに算出される。この試験画像の画素値データと、参照画像の画素データとの比較に基づいて、試験画像内の異常が検出される。次に、走査画面の試験画像の1つ以上において検出された異常と、材料の要求基準との比較が行われる。 (もっと読む)


【課題】視認性を向上させたカラーの透過像を表示する透過像表示装置及び放射線透視検査装置を提供する。
【解決手段】X線管1から被検体5を透過したX線ビーム2を検出して得られる感度の異なる複数の色成分ごとの透過像データに対し、色成分ごとの透過像データそれぞれに、互いに異なる変換関数で階調変換を加える階調変換部7dと、透過像データをカラー表示する表示部7aとから成る透過像表示装置、及び、これを有する放射線透視検査装置。 (もっと読む)


【課題】立方晶系の結晶構造を持つ金属材料に対して塑性歪を測定する。
【解決手段】結晶構造が立方晶系である金属材料の被測定部材、あるいは測定部材より採取した試験片の同一視野における変形前と変形後の結晶方位分布を取得する(S4,S7)。任意の結晶方位測定点と隣接する結晶方位測定点間における変形前と変形後の結晶方位分布より変形前と変形後の格子歪を求める(S5,S8)。変形前と変形後の格子歪から結晶内に蓄積した塑性歪を測定する(S3)。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電子線回折像を用いて、微小な結晶粒の結晶方位解析を可能にし、また、解析を自動化することにより、多点の結晶方位を迅速に解析することを目的とする。
【解決手段】本発明は、電子線を試料に照射して透過電子を検出する透過電子顕微鏡において、前記透過電子顕微鏡は、前記試料の電子線回折像を撮像する電子線回折像撮像部と、前記試料の組成情報を取得する検出部と、前記電子線回折像から格子面間隔の情報を取得する解析部と、前記取得された組成情報と前記格子面間隔の情報から試料の同定を行う物質同定部と、前記同定された試料の情報から、前記試料の回折像を演算する演算部と、を有し、当該演算された回折像と前記電子線回折像とのずれ量に基づいて、前記試料の結晶方向を特定することを特徴とする。 (もっと読む)


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