【課題】複数の外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置情報が大きな誤差をもつことが原因で、実施が困難な工程トレースを通常の自動撮像時に同時に実行する。
【解決手段】外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置を、ＳＥＭ式レビュー装置内の絶対座標として記憶し、工程が異なっても、ユーザーが指示した絶対座標の自動撮像を実施することによって工程トレースが容易に実施可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、より理想的な荷電粒子線装置の分解能評価用の標準試料を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明では、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板にコロイド金属又はイオン液体に分散した金属微粒子を滴下するステップと、前記基板に滴下した溶液を除去するステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。また、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板表面にスパッタにより金属微粒子を付着させるステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】より微細な欠陥をより高速に検出することができるパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線を発生させるＸ線源と、前記Ｘ線源から出射されたＸ線をポイント状の平行光に絞り試料上に照射する絞り手段と、前記試料を透過したＸ線の直接光と、前記試料に形成されたパターンにより回折されたＸ線の回折光と、を遮蔽するマスクと、前記マスクにより遮蔽されないＸ線の二次元パターンを検出する二次元検出器と、前記試料の対応する２箇所に前記ポイント状のＸ線を照射してそれぞれ取得された前記二次元パターンの差分を算出する差分算出手段と、前記差分に基づいて欠陥の有無を判定する判定手段と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】教示欠陥および教示欠陥の画像処理による理想出力を入力し、欠陥種の分類に必要な画像処理パラメタの設定作業を容易かつ高速に行うことができる欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】欠陥観察装置において、教示欠陥の情報、および教示欠陥の理想出力の情報を入力し、決定された画像処理パラメタセットによる処理結果を表示する入出力部１２３、全画像処理パラメタセットの中から全画像処理パラメタセットの総数よりも少ない数の画像処理パラメタセットを選択し、入力した欠陥画像について選択された画像処理パラメタセットによる画像処理結果を算出し、選択された画像処理パラメタセットについて一致度を算出し、選択された画像処理パラメタセットに対する一致度の分布から全画像処理パラメタセットにおける指標値の分布を推定し、全画像処理パラメタセットの中から高い一致度となる画像処理パラメタセットを決定する自動決定部１２４を備えた。 （もっと読む）

【課題】
レビューＳＥＭを用いて回路パターンを定点観察する場合に、観察する回路パターンのばらつきが大きい場合でも、虚報の発生を抑えて安定した検査を行えるようにする。
【解決手段】
レビューＳＥＭを用いて所定の回路パターンを順次撮像してえたＳＥＭ画像を記憶手段に記憶し、この記憶したＳＥＭ画像の中から設定した条件に適合する画像を選択し平均化して平均画像(ＧＰ画像)を作成し、このＧＰ画像を用いたＧＰ比較によりパターン検査を行うことにより、回路パターンのばらつきが大きい場合でも虚報の発生をおさえた検査を可能にした。 （もっと読む）

【課題】試料観察面の帯電を簡易な手段で防止でき、生体試料等において、乾燥後も収縮等の変形を抑制でき、さらに収縮痕へのイオン液体の部分的な残留により試料本来の像が妨げられることを抑制できる電子顕微鏡による試料観察用の液状媒体とそれを用いた試料観察方法を提供する。
【解決手段】水への溶解度が550g/100g water以上または10重量%水溶液での浸透圧が0.7 Osmol/kg以上のイオン液体、特に下記式（I）：


（式中、R¹〜R⁴は炭素数1〜5のアルキル基、または−R⁵−Aで示される水溶性官能基（R⁵は炭素数1〜5のアルキレン基、Aは水酸基等を示す。）を示し、その少なくとも１つは水溶性官能基である。X^-は、アルキルスルホン酸イオン等のアニオンを示す。）で表されるイオン液体を必須成分として含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カソードルミネッセンスを用いた半導体基板中の結晶欠陥の評価において、半導体基板表面のクリーニングをせずに高精度に結晶欠陥を評価することを可能にする。
【解決手段】欠陥検査装置１００は、半導体基板２を支持するステージ３と、電子線照射部７と、ＣＬ検出器１４と、Ｘ線検出器１９と、データ処理部２２とを備える。電子線照射部７は、半導体基板２に電子線を照射する。ＣＬ検出器１４は、半導体基板２の検査箇所に電子線が照射されることによって検査箇所の結晶欠陥から発生したカソードルミネッセンス光を検出する。Ｘ線検出器１９は、検査箇所に電子線が照射されることによって検査箇所の表面に付着する有機化合物から発生した炭素の特性Ｘ線を検出する。データ処理部２２は、検出された炭素の特性Ｘ線の強度に基づいて、検出されたカソードルミネセンス光の有機化合物による減衰を補正する。 （もっと読む）

【課題】異物の高さ方向の位置を計測することができるＸ線検査装置を提供することである。
【解決手段】Ｘ線検査装置１００は、固設された１個のＸ線照射装置２００から照射されるＸ線を固設された２個のＸ線ラインセンサ４００ａ，４００ｂにより検出し、照射されるＸ線内に商品９００を移送させることにより商品９００内の異物９１０を検出するものである。Ｘ線検査装置１００の制御部６１０は、Ｘ線ラインセンサ４００ａ，４００ｂにより作成された画像データＤ９００ａ，Ｄ９００ｂに基づいて商品９００内の異物９１０の高さ方向の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】人間の目の識別能力を考慮し、デジタル画像の特性を生かして識別性を向上することにより、デジタル化されたＸ線透過画像の欠陥判定を、これまでより容易、迅速且つ正確に行なえるようにする。
【解決手段】デジタル化されたＸ線透過画像から被検体の欠陥を判定するに際して、Ｘ線透過画像を擬似立体化した後、該擬似立体化された画像を用いて被検体の欠陥を判定する。その際、擬似立体化を、微分フィルタの適用により行ない、検出対象欠陥を正常部より凹んでいるように見せることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、試料パターンの輪郭線の余剰、重複またはヒゲだけでなく、輪郭線の途切れも解消することのできる技術を提供するものである。
【解決手段】検査対象試料を生成するためのデザインデータに対して細線化処理を行い、対象試料上に形成されたパターンの内側と外側を規定するパターン内外規定情報を生成する。そして、対象試料画像のエッジ強調画像の画素値を参照しながら、パターン内外規定情報で示される領域を膨張させることにより領域分割を行い、対象試料のパターン輪郭線を生成する。 （もっと読む）

【課題】呼吸器官から侵入したナノ粒子の生体内における曝露状態、すなわち、どのようなナノ粒子がどの程度体内に蓄積されているかを、簡易かつ安全で、低侵襲な手段で分析する方法を提供する。
【解決手段】生体から採取した体液中の食細胞を観察して、この食細胞に蓄積した粒子を検出することにより、曝露によって生体内に蓄積した粒子を分析する。上記体液は血液または喀痰であることを特徴とし、検出方法はラマン分光顕微鏡や透過型電子顕微鏡を用いて、該食細胞に蓄積した上記粒子を検出する。 （もっと読む）

【課題】規則構造を有する材料の規則構造を評価する方法を提供する。
【解決手段】被撮像物の原子配列を認識可能な画像データを用いる規則構造評価方法において、前記画像データに対し、フーリエ変換処理、空間周波数フィルタリング処理、及び逆フーリエ変換処理を行い、評価対象の規則構造の像強度の分布を示すデータを生成する工程と、前記画像データから前記規則構造を有する領域の境界の画素位置を得る工程と、前記像強度の分布を示すデータから、前記工程で得られた画像位置に対応する像強度を得る工程とを有することを特徴とする規則構造評価方法。 （もっと読む）

【課題】複数の検出器からの検出信号をパターン配置に応じた適切な配分比を用いて合成して、多層レイヤにおける下層パターンのコントラストを向上する技術を提供する。
【解決手段】複数の検出器から得られた検出画像を用いて画質改善を図ることを可能とする荷電粒子線装置およびその画質改善方法において、配置場所の異なる各検出器の出力に対応する検出画像を用いて、１枚以上の出力画像を生成する方法を、設計データや検出画像から算出したパターン方向あるいはエッジ強度の情報等を用いて制御するものである。このように、複数の検出器を用いることで検出信号範囲を拡大し、設計データや検出画像から算出したパターン方向あるいはエッジ強度を用いて検出信号を合成することで、コントラスト等の画質の改善を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線透過量の減少や部位によるＸ線透過量の変化を抑えながら、構造強度も確保された被検査物品の支持部材を備えるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 物品に対してＸ線を照射し、物品を透過したＸ線を検出することにより物品を検査するＸ線検査装置において、物品にＸ線を上方から照射する照射部と、該照射部の下方に設けられて照射されるＸ線を検出する検出部と、前記照射部と前記検出部の間を通過するように、物品を静止状態で支持する支持部材を移動させる供給部と、を備えてなり、前記支持部材が中空構造の樹脂成型品であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
半導体プロセスの立ち上げ時期のように、検査すべき項目が多種多様であり、かつそれらが時間と共に頻繁に変化する場合であっても、簡易な操作で対応可能なウェハ検査技術を提供する。
【解決手段】
検査画像を収集した後に、検査画像の中からテンプレートを作成する。このテンプレート上に複数の領域を定義し、各領域に検査手法と出力指標を対応付けて登録する。検査時は、取得した検査画像に対応するテンプレート画像を参照し、そこに登録されている検査情報に基づいて検査実行し出力定量値を算出する。 （もっと読む）

【課題】微細な周期的構造について高精度かつ高スループットでの形状計測を実現するための基板計測方法を提供すること。
【解決手段】周期的構造を構成する単位構造体の形状に関する形状パラメータから注目パラメータを選択し、単位構造体の形状を計測するための計測条件を注目パラメータに応じて決定する工程と、決定された計測条件に従い、周期的構造が形成された基板上の基準面に平行な面内における方位角を変化させながら、周期的構造へ電磁波を入射させる工程と、周期的構造での反射により、基準面に平行な方向である方位角方向と、基準面に垂直な方向である仰角方向とへ散乱した電磁波を検出する工程と、を含み、計測条件は、周期的構造での反射による電磁波の散乱強度の分布を表す散乱プロファイルの算出と、注目パラメータの値を変化させるごとの散乱プロファイルを比較した比較結果に応じた最適化と、を経て決定される。 （もっと読む）

【課題】従来の技術においては、設計データを用いることにより、ウェーハ上の配線等の構成物との相対関係を考慮し、欠陥の重要度の判定は可能であるが、設計データが無い場合は、判定ができなかったので、設計データが入手できない場合についても欠陥検出の実施を可能とする方法を提供する。
【解決手段】半導体デバイスにおいて、製造するための設計データの代わりに、実際のウェーハ上の画像を取得することにより、半導体デバイス上の構成物との相対位置を検出し、欠陥の重要度を判定することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】容器を形作る金属製ライナーをこれに巻装された繊維材料と樹脂とで強化した複合容器について、破壊検査を行うことなく、強度不足の容器を発見する。
【解決手段】複合容器を非破壊検査して、樹脂内部の空隙の体積を空隙ごとに測定する（Ｓ１〜Ｓ６）。各空隙の体積と予め定められた第１閾値とを比較して、第１閾値を超える空隙が存在する場合に、測定した複合容器を排除する（Ｓ７）。全ての空隙の総体積と予め定められた第２閾値とを比較して、空隙の総体積が第２閾値を超える場合に、測定した複合容器を排除する（Ｓ８、Ｓ９）。 （もっと読む）

【課題】単一の高出力Ｘ線発生装置を用いて、簡易に被検査物の材質を識別することができ、これにより装置を小型かつ安価にでき、かつマルチチャンネル化が容易である高出力Ｘ線用の２段Ｘ線検出器を提供する。
【解決手段】入射Ｘ線３を透過させる低エネルギー用シンチレータ１２を有し、所定のエネルギー範囲のＸ線エネルギーを吸収し検出する低エネルギーＸ線検出器１０と、低エネルギー用シンチレータ１２を透過した透過Ｘ線４を再度透過させる高エネルギー用フィルタ２２とその後方の高エネルギー用シンチレータ２４を有し、前記エネルギー範囲のＸ線エネルギーを吸収し検出する高エネルギーＸ線検出器２０とを備える。低エネルギーＸ線検出器１０は、さらに、低エネルギー用シンチレータ１２の前面に位置し、低エネルギー用シンチレータ内の発光を９０度全反射する全反射プリズム１４と、全反射プリズムで反射された発光光量に比例する電気信号を出力する低エネルギー用光電素子１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】ナノスケールの高分解能画像を得る。
【解決手段】１以上の試料を特徴付けるための超高速システム（および方法）である。特徴付けられる試料を有するステージ組立部を含む。持続時間が１ピコ秒未満の光パルスを放射することができるレーザー源を有する。レーザー源に接続されたカソードを有し、特定の実施例において、カソードは１ピコ秒未満の電子パルスを放射することができる。ステージ上の試料に電子パルスの焦点を合わせられる電子レンズ組立部を有する。試料を通過する電子を捕らえる検出部を有する。検出部はプロセッサを有し、試料の構造を代表する試料を通過する電子に関連付けられた信号（たとえば、データ信号）を供給する。プロセッサは、試料の構造に関連付けられた情報を出力するために、試料を通過する関連付けられたデータ信号を処理し、出力デバイスに出力する。 （もっと読む）