【課題】被検査物の大きさに応じてＸ線の漏洩を最適に防止することができるＸ線漏洩防止部材を備えたＸ線検査装置を提供することである。
【解決手段】Ｘ線検査装置は、ベルトコンベア８００によって搬送される被検査物９００に対してＸ線検査室３００内でＸ線を照射して検査が行われる。Ｘ線漏洩防止カーテン５００によりＸ線検査室３００へ被検査物９００を搬入出する開口部からＸ線の漏洩が防止される。また、複数の棒部材が、軸を基準に回動可能に設けられ、かつ複数のカーテンのそれぞれ略中央部に接続されたものである。 （もっと読む）

【課題】肉厚補正治具を使用することなく簡易かつ正確に検査対象物の欠陥等を検出する。
【解決手段】異なる複数の既知の厚みを有する較正体に対してＸ線を照射して各厚みとこの部分のＸ線透過量の関係を測定するステップと、各厚みとこの部分でのＸ線透過量の関係が直線状になるように前記各厚みにおける較正値を決定するステップと、欠陥等の無い正常な検査対象物のＸ線透過量に基づいた画像をマスタ画像として得るステップと、マスタ画像の各部のＸ線透過量より当該Ｘ線が透過した部分の前記検査対象物の厚みを得るステップと、通常の検査対象物のＸ線透過量に基づいた画像をテスト画像として得るステップと、前記マスタ画像と前記テスト画像の各部のＸ線透過量の差分たる差分Ｘ線透過量に基づいた差分画像を算出するステップと、前記差分画像の各部の位置に対応した前記マスタ画像部分の厚みにおける前記較正値を前記各部の差分Ｘ線透過量に乗じて較正差分Ｘ線透過量を算出してこれに基づく較正差分画像を得るステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】被検査物の大きさに応じてＸ線の漏洩を最適に防止することができるＸ線漏洩防止部材を備えたＸ線検査装置を提供することである。
【解決手段】Ｘ線検査装置は、ベルトコンベア８００によって搬送される被検査物９００に対してＸ線検査室３００内でＸ線を照射して検査が行われる。Ｘ線漏洩防止カーテン５００によりＸ線検査室３００へ被検査物９００を搬入出する開口部からＸ線の漏洩が防止される。また、Ｘ線漏洩防止カーテンは、互いに独立して回動可能な複数の棒部材にそれぞれ取り付けられる複数のカーテンにより開口部を遮蔽し、ベルトコンベア８００の搬送面へ近づくに連れて当該カーテンを回動させる力が小さくなるよう形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】被検査物が短い間隔で高速に搬送される場合または被検査物が連続的に搬送される場合であっても、被検査物の成分比率を求めることができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】搬送される被検査物にＸ線を照射し、被検査物を透過した複数の異なるエネルギー帯のＸ線の透過量を検出し、そのエネルギー帯毎の検出信号から複数の異なるエネルギー帯の数と同数分の被検査物の成分について質量を求めるための質量換算係数を記憶する換算係数記憶手段を備え、複数の異なるエネルギー帯毎の検出信号と換算係数記憶手段に記憶された成分ごとの質量換算係数に基づいて被検査物中に含まれる成分の比率を算出する。 （もっと読む）

【課題】異物を精度良く識別する最適な画像処理アルゴリズムの設定操作を容易に行うことができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】画像処理アルゴリズムを予め複数記憶する情報蓄積部４７と、被検査物Ｗ中から検出する異物について、主に検出すべき異物の成分を含む異物検出能力を表す異物検出特性を選択する設定操作部４５と、設定操作部４５で選択された異物検出特性に近似する少なくとも１つの画像処理アルゴリズムを情報蓄積部４７から抽出する制御部４６と、制御部４６により抽出された画像処理アルゴリズムを所定形式で表示する表示部５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】減厚による歪緩和の影響を補正して、バルクの結晶中の歪を測定する。
【手段】結晶基材を含む被測定試料に集束イオンビームを照射して減厚し、被測定試料薄片とする減厚工程と、減厚工程途中の複数時点で、被測定試料薄片に集束電子線を照射して高角度散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３を測定する工程と、前記複数時点で、結晶基材の格子定数を電子線回折法により測定し、被測定試料薄片の歪Ｅ１〜Ｅ３を算出する工程と、散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３及び歪Ｅ１〜Ｅ３に基づき、散乱電子の電子線強度Ｉを変数とする歪の近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）を作成する工程と、減厚に伴い歪緩和が始まる臨界厚さに等しい厚さの結晶基材に、集束電子線を照射したとき測定される高角度散乱電子の臨界電子線強度Ｉｏを予測する工程と、臨界電子線強度Ｉｏを近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）に代入して、被測定試料の歪Ｅｏを算出する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成されたアクティブエリアと共にアクティブエリア外に設けられたＴＦＴ駆動回路の欠陥を検出する。
【解決手段】ＴＦＴアレイ検査装置は、ＴＦＴ駆動回路に検査信号を供給するＴＦＴ駆動回路用ドライバ部と、アクティブエリアの走査画像に基づいて、ＴＦＴ駆動回路およびアクティブエリアの駆動状態を検出する検出部とを備える。ＴＦＴ駆動回路用ドライバ部は、基板上のＴＦＴ駆動回路に検査信号を供給することによってＴＦＴ駆動回路のＴＦＴアレイを駆動し、基板上のアクティブエリアに形成されたＴＦＴアレイを駆動する。検出部は、アクティブエリアの走査画像を用いて、アクティブエリア上で駆動していない非駆動部位を検出する。 （もっと読む）

【課題】検査対象パターン画像と、設計データ等の検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置および方法を提供する。
【解決手段】検査対象パターンを製造するために使用するデータから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、検査対象パターン画像を生成する生成手段と、検査対象パターンを検査する検査手段とを備え、検査手段は、検査対象パターン画像と１回目の露光の工程に関する基準パターンとをマッチングし、検査対象パターン画像と２回目の露光の工程に関する基準パターンとをマッチングして、１回目の露光の工程で形成されたパターンと２回目の露光の工程で形成されたパターンとのオーバーレイエラーを検査する。 （もっと読む）

【課題】迅速に欠陥レビューを行うことができる欠陥レビュー装置及び欠陥レビュー方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム３１を試料８の表面に照射し、試料８の表面の観察領域内で電子ビーム３１を走査させる電子鏡筒１と、電子ビーム３１の光軸周りに相互に９０°の角度を開けて配置された４つの電子検出器９ａ〜９ｄと、電子検出器９ａ〜９ｄの検出信号に基づいて、観察領域をそれぞれ異なる方向から写した複数の画像データを生成する信号処理部１１とを備えた欠陥レビュー装置１００において、観察領域のパターンがラインアンドスペースパターンである場合には、欠陥検査部１２によってラインパターンに平行であって電子ビーム３１を挟んで対抗する２方向からの画像データの差分をとった差分画像に基づいて、欠陥の検出を行う。 （もっと読む）

【課題】パターン中の信号の小さい欠陥の視認性を向上する一方で、レビュー領域全体の情報を可能な限り失わない欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態の欠陥検査方法は、被検査パターンが形成された試料に荷電粒子線を照射し、前記試料から生成される荷電粒子を検出し、得られる信号の時間に対するプロファイルを生成する工程と、前記被検査パターンの頂面に対応する試料の箇所からの荷電粒子により得られた信号の強度がさらに高まることを抑制しつつ前記被検査パターンの底面に対応する試料の箇所からの荷電粒子により得られた信号の強度を高めることにより、信号強度の高低差が縮められた荷電粒子像の撮像方法を、前記プロファイルを用いて決定する工程と、決定した撮像方法で前記被検査パターンの荷電粒子像を取得する工程と、取得した荷電粒子像から前記被検査パターンの欠陥を検査する工程と、を持つ。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法に関し、該方法は、荷電粒子のビームを用いた試料キャリアの観測を含み、その観測は、その試料キャリアの温度に関する情報を与える。本発明は、TEM、STEM、SEM又はFIBなどの荷電粒子光学装置が、試料キャリアの温度に関する変化を観測するために使用することができるという見識に基づく。その変化は、力学的変化（例えば、二次金属）、結晶学的変化（例えば、ぺロブスカイトの）、及び発光変化（強度又は減衰期間）であってよい。望ましい実施形態において、異なる熱膨張係数を持つ金属（208、210）を示す2つの二次金属（210a、210b）を示し、反対方向に湾曲する。その2つの二次金属間の距離は、温度計として使用され得る。 （もっと読む）

【課題】対象物をミリング加工及び検査する。
【解決手段】対象物の第一の表面のミリング加工期間中に、粒子ビームにより対象物の第一の表面をミリング加工する工程と、少なくとも第一の表面ミリング加工期間の大部分において、第一及び第二の表面の間に置かれた関心要素（ＥＯＩ）から構成されうる対象物を、電子検出器により対象物の第二の表面の画像を取得する工程と、対象物の第二の表面のミリング加工期間中に、粒子ビームにより対象物の第二の表面をミリング加工する工程と、少なくとも第二の表面ミリング加工期間の大部分において、電子検出器により対象物の第一の表面の画像を取得する工程とからなるシーケンスを、少なくとも一回反復する。 （もっと読む）

【課題】
複数条件の画像を同時に検出して統合する構成を用いた場合、高レートのデータ転送手段と大容量のメモリや記憶媒体が必要となる。
【解決手段】
複数の撮像条件にて試料の画像データを取得する工程と、前記複数の撮像条件にて取得した複数の画像データを画像記憶部へ格納する工程と、前記複数の画像データのそれぞれより欠陥候補を取得する工程と、前記画像記憶部に格納された、少なくとも２つの撮像条件の前記画像データから、前記複数の画像データのいずれかで検出した前記欠陥候補位置とその周辺を含む部分画像を切り出す工程と、前記欠陥候補に対応する少なくとも２つの撮像条件で取得した前記部分画像を統合処理することで、欠陥候補を分類する工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】検査時間を短縮しつつ、被検体の断層像又は立体像の再現性を向上させることができる放射線検査システムを提供する。
【解決手段】画像補正装置１５は、１回目の走査の際で放射線源１が任意の目標位置に移動されたときに放射線検出器２から得られた放射線の強度分布と、２回目の走査の際で放射線源１が同じ目標位置に移動されたときに放射線検出器２から得られた放射線の強度分布とを照合する。そして、それら放射線の強度分布が重なり合うはずの部分のずれ量を演算し、そのずれ量に基づき放射線源１の焦点位置の誤差を演算し、その誤差に基づき複数の透過画像Ｐを補正する。 （もっと読む）

【課題】 複数の試料について連続測定を行う場合において、試料の位置決めや分析領域の把握が容易であり、より信頼性の高い測定が実施可能であると共に高い利便性の得られる分析システムを提供すること。
【解決手段】 試料に紫外線を照射することにより当該試料から放出される光電子を検出する光電子検出装置を備えた分析システムにおいて、光電子検出装置は、一面に複数の試料載置部が形成された分析領域を有するプレート状の試料ホルダと、当該試料ホルダが水平方向に延びる姿勢で着脱自在に装着される試料ステージと、試料ステージを、試料ホルダにおける順次に指定される一の試料載置部が紫外線照射装置より照射される紫外線の照射スポットに位置されるよう、位置調整する制御手段と、試料から放出される光電子を検出する光電子検出器と、試料ホルダにおける分析領域の画像データを取得する撮像手段とを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、ナノ電子線回折パタンにおける各スポットの座標を適切に定義し、格子面距離を精度良く算出することを目的とする。
【解決手段】 上記課題は、回折スポット及び透過スポットを含む複数のスポットを表す電子線またはＸ線回折パタンを二階調化して二階調化データを生成するステップと、前記二階調化データを用いて、前記スポットの領域に相当する定義円を作成するステップと、前記スポットと前記定義円の各画素における差の二乗和が最小になるように前記定義円のサイズ又は座標の少なくとも１つを変化させて該スポットへフィッティングさせることによって、該スポットの近似円を取得するステップと、前記近似円の中心座標で前記スポットの座標を定義することによって、スポット間の距離を算出し格子面距離を取得するステップとをコンピュータが実行する半導体素子の評価方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】簡易かつ高速にＸ線立体画像表示を可能にして被検査物の欠陥や異物を容易に発見できるようにする。
【解決手段】通過する被検査物Ｍに対して直交する平面内でＸ線光源３１から拡散して被検査物Ｍを横断する帯状のＸ線を照射するＸ線発生器３と、被検査物Ｍを透過したＸ線を入光させて、被検査物Ｍの通過に伴って当該被検査物Ｍの透過二次元画像を得るラインセンサ４およびインターフェース回路５４と、透過二次元画像の各部分につき、当該各部分をその位置情報に基づいて二次元平面上に配置するとともに、上記各部分における透過光量に応じた高さを上記二次元平面に直交する軸方向にとって透過三次元画像を得るパソコン５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】試料表面に１０ｎｍ以下の寸法のスポットサイズを有するイオンビームを発生することが可能な電界イオン源を有するシステムを提供する。
【解決手段】電子ビームを提供することが可能な走査電子顕微鏡と、気体と相互作用してイオンビームを発生させることが可能な気体電界イオン源と集束イオンビーム機器とを具えるシステムであって、走査電子顕微鏡と気体電界イオン源が、使用時に電子ビーム及びイオンビームを用いて試料を調査できるように位置していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】櫛形タイプの冷却フィンを備えた熱交換器であっても、パワーモジュールに使用して、Ｘ線検査によりボイドを正確に検出すること。
【解決手段】パワーモジュール２の熱交換器１は、ケース３と、ケース３に収容された櫛形タイプの冷却フィン４と、ケース３の上面に接合剤１０により接合されたヒートスプレッダとを備える。ＩＧＢＴ６は、ヒートスプレッダの上面に接合剤１０により固定される。冷却フィン４は、平板状のベース部４ａの下面から複数のフィン部４ｄが互いに隙間９を置いて平行かつ斜めに突き出している。冷却フィン４は、複数のフィン部４ｄにつき、隣り合う一方のフィン部４ｄ１の先端４ｅと他方のフィン部４ｄ２の基端４ｆとが同じ幅Ｗ２を有すると共に、ベース部４ａの上面及び下面と直交する方向に重なるように配置される。 （もっと読む）

【課題】
電子顕微鏡で画像を撮像するとき，焦点を合わせるために動作させるＺ座標の走査範囲を短くして，焦点を合わせる時間を短縮する。
【解決手段】
走査電子顕微鏡で試料上の複数の箇所のＳＥＭ画像を順次取得することを、最初の所定の数の箇所においては電子ビームの焦点位置を試料の表面の法線方向に所定の範囲走査して電子ビームの焦点を試料の表面に合わせてから試料を撮像し、最初の所定の数の箇所において試料の表面に合わせた電子ビームの焦点位置の情報を用いて試料の表面の曲面形状を推定し、最初の所定の数の箇所で撮像した後は、電子ビームの焦点を試料の表面に合わせるために電子ビームの焦点位置を法線方向へ走査する範囲を推定した曲面情報を用いて最初の所定の数の箇所において走査した所定の範囲よりも狭い範囲で走査して電子ビームの焦点を試料の表面に合わせて前記試料を撮像するようにした。 （もっと読む）