【課題】検査対象パターン画像と、設計データ等の検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置および方法を提供する。
【解決手段】検査対象パターンを製造するために使用するデータから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、検査対象パターン画像を生成する生成手段と、検査対象パターンを検査する検査手段とを備え、検査手段は、検査対象パターン画像と１回目の露光の工程に関する基準パターンとをマッチングし、検査対象パターン画像と２回目の露光の工程に関する基準パターンとをマッチングして、１回目の露光の工程で形成されたパターンと２回目の露光の工程で形成されたパターンとのオーバーレイエラーを検査する。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査装置であって、
前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、
前記検査対象パターン画像を生成する生成手段と、
前記検査対象パターン画像のエッジを検出する手段と、
前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段とを備え、
前記検査対象パターンを検査する検査手段は、前記検査対象パターン画像と１回目の露光の工程に関する前記基準パターンとをマッチングし、前記検査対象パターン画像と２回目の露光の工程に関する前記基準パターンとをマッチングして、前記１回目の露光の工程で形成されたパターンと前記２回目の露光の工程で形成されたパターンとのオーバーレイエラーを検査することを特徴とするパターン検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン検査装置において、
前記基準パターン生成手段は、１回目の露光の工程に関する前記基準パターンを作成し、２回目の露光の工程に関する前記基準パターンを作成し、前記作成された基準パターンに論理演算を実施した結果を得て、前記論理演算で発生した頂点と前記論理演算で発生した頂点以外の頂点に異なるコーナーラウンドを適用することを特徴とするパターン検査装置。
【請求項３】
請求項１に記載のパターン検査装置において、
前記基準パターン生成手段は、１回目の露光の工程に関するコーナーラウンドが適用された前記基準パターンを生成し、２回目の露光の工程に関するコーナーラウンドが適用された前記基準パターンを生成し、前記作成された基準パターンに論理演算を実施した結果を得ることを特徴とするパターン検査装置。
【請求項４】
請求項１に記載のパターン検査装置において、
前記基準パターン生成手段は、前記基準パターンの部分であって両脇のスペース幅が同じになるように前記基準パターンを分割して分割基準パターンを得て、
前記検査手段は、複数の前記検査対象パターン画像のエッジと前記分割基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査することを特徴とするパターン検査装置。
【請求項５】
請求項１に記載のパターン検査装置において、
前記基準パターンを生成する生成手段は、前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより得られた結果を使って前記基準パターンを変形させ、
前記検査手段は、前記検査対象パターン画像のエッジと前記変形された基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを再度、検査することを特徴とするパターン検査装置。
【請求項６】
検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査方法であって、
前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成し、
前記検査対象パターン画像を生成し、
前記検査対象パターン画像のエッジを検出し、
前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査し、
前記検査は、前記検査対象パターン画像と１回目の露光の工程に関する前記基準パターンとをマッチングし、前記検査対象パターン画像と２回目の露光の工程に関する前記基準パターンとをマッチングして、前記１回目の露光の工程で形成されたパターンと前記２回目の露光の工程で形成されたパターンとのオーバーレイエラーを検査することを特徴とするパターン検査方法。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン検査方法において、
前記基準パターンの生成において、１回目の露光の工程に関する前記基準パターンを作成し、２回目の露光の工程に関する前記基準パターンを作成し、前記作成された基準パターンに論理演算を実施した結果を得て、前記論理演算で発生した頂点と前記論理演算で発生した頂点以外の頂点に異なるコーナーラウンドを適用することを特徴とするパターン検査方法。
【請求項８】
請求項６に記載のパターン検査方法において、
前記基準パターンの生成において、１回目の露光の工程に関するコーナーラウンドが適用された前記基準パターンを生成し、２回目の露光の工程に関するコーナーラウンドが適用された前記基準パターンを生成し、前記作成された基準パターンに論理演算を実施した結果を得ることを特徴とするパターン検査方法。
【請求項９】
請求項６に記載のパターン検査方法において、
前記基準パターンの生成において、前記基準パターンの部分であって両脇のスペース幅が同じになるように前記基準パターンを分割して分割基準パターンを得て、
前記検査は、複数の前記検査対象パターン画像のエッジと前記分割基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
【請求項１０】
請求項６に記載のパターン検査方法において、
前記基準パターンの生成において、前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより得られた結果を使って前記基準パターンを変形させ、
前記検査は、前記検査対象パターン画像のエッジと前記変形された基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを再度、検査することを特徴とするパターン検査方法。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【図１６】

【図１７】

【図１８】

【図１９】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２５】

【図２６】

【図２７】

【図２８】

【図２９】

【図３０】

【図３１】

【図３２】

【図３３】

【図３４】

【図３５】

【図３６】

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【図３９】

【図４０】

【図４１】

【図４２】

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【図４４】

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【図４６】

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【図５０】

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【図５８】

【図５９】

【図６０】

【図６１】

【図６２】

【図６３】

【図６４】

【図６５】

【図６６】

【図６７】

【図６８】

【図６９】

【図７０】

【図７１】

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【図７３】

【図７４】

【図７５】

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【図７７】

【図７８】

【図７９】

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【図８６】

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【図９０】

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【図９２】

【図９３】

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【図９５】

【図９６】

【図９７】

【図９８】

【図９９】

【図１００】

【図１０１】

【図１０２】

【図１０３】

【図１０４】

【図１０５】

【図１０６】

【図１０７】

【図１０８】

【図１０９】

【図１１０】

【図１１１】

【図１１２】

【図１１３】

【図１１４】

【図１１５】

【図１１６】

【図１１７】

【図１１８】

【図１１９】

【公開番号】特開２０１２−１１２９７４（Ｐ２０１２−１１２９７４Ａ）
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−４３１８８（Ｐ２０１２−４３１８８）
【出願日】平成２４年２月２９日（２０１２．２．２９）
【分割の表示】特願２００７−２９９３５７（Ｐ２００７−２９９３５７）の分割
【原出願日】平成１９年１１月１９日（２００７．１１．１９）
【出願人】（３０１０１４９０４）株式会社　ＮＧＲ (15)
【Ｆターム（参考）】