【課題】 同一形状の被測定物を次々交換して検査する際に、簡単な操作で所望の測定位置について異なる検査を実行することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 ステージ１４およびステージを駆動する駆動機構１６と、Ｘ線測定光学系１３と、表示装置２４と、入力装置２２、２３と、Ｘ線画像に基づいて被測定物の検査のための計測処理を行う選択可能な計測処理プログラム４１と、各測定点の座標に各測定点で実行する計測処理プログラムが関連付けられてティーチングされることにより、これらをティーチング情報として記憶させるティーチング情報記憶制御部３５と、被測定物がステージに載置された状態で、ティーチング情報に基づいて各測定点に関連付けられた計測処理プログラムを実行するティーチング情報実行部３６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線画像全体の中でのポインタの現在位置を確認しながら、所望の画素を精度よく指定することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線測定光学系１３で撮影した映像信号に基づいて作成したＸ線画像２４ａを表示装置のモニタ画面に表示するＸ線検査装置であって、モニタ画面に表示されたＸ線画像上の任意の位置を指定するためのポインタ２３ａをモニタ画面上に表示するポインティングデバイス２３を備えるとともに、ポインタ２３ａにより指定される位置近傍の部分拡大Ｘ線画像２４ｃを、前記Ｘ線画像２４ａの上に重ねるようにして表示する部分拡大画像表示手段３６、４３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ポインティングデバイスを用いた簡単な操作で所望の測定位置、測定角度に視野調整することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 被測定物の外観画像を表示してポインティングデバイス２３によるステージの並進移動の指示を促す外観画像表示領域２４ｂ、２４ｃと、回転角およびＸ線光軸の傾動角の指定が可能な観察方位図を表示してポインティングデバイス２３によるステージの回転移動とＸ線測定光学系の光軸の傾動との指示を促す観察方位図表示領域２４ｄとの表示を行う操作画面表示制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】 マウスを用いて移動方向と移動速度を同時に制御することができるようにしたＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源１１とＸ線検出器１２との間において被測定物を載置するステージ１４と、ステージ上の被測定物とＸ線測定光学系１３との位置関係を調整する駆動部１５と、モニタ画面２４ａと、Ｘ線検出器１２により撮影された映像信号に基づいて透視Ｘ線画像を作成するＸ線画像作成部３１と、モニタ画面に透視Ｘ線画像の画像表示を行うＸ線画像表示制御部３２と、モニタ画面の任意の位置にポインタを表示するとともにクリック操作によりポインタの位置を指定するマウス２３と、モニタ画面２４ａに表示した透視Ｘ線画像２４ｂ上でマウスのクリック操作による位置指定が行われたときに、指定位置に応じて駆動部１６に対する駆動信号を発生する駆動信号発生部３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置により予め検出された欠陥を高いスループットで再検出する。
【解決手段】解像度を変更することなく、外部の記検査装置における前記欠陥位置情報の精度分布に応じて再検出の際の画像サイズまたは画素数を変更する。 （もっと読む）

【課題】 同一形状の被測定物を次々測定する際に、ティーチングを行う必要なく簡単な入力操作で各測定点を入力することがＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 同一形状の被測定物群を一定間隔ごとに規則的に配列する搭載治具１５を用いてステージ１４上に複数の被測定物群Ｓを載置し、初回測定点位置、測定点間距離、測定繰り返し回数を含む測定位置情報の入力を促す測定位置情報入力制御部３３と、入力された測定位置情報に基づいて各測定点位置を算出する測定点位置算出部３４と、算出された各測定点位置を順次Ｘ線測定光学系の測定視野内に移動するステージ駆動機構制御部３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】１次Ｘ線の強度を低下させることなく試料の微小領域に集光させることができるようにする。
【解決手段】試料１を載置する試料台１３と、１次Ｘ線を試料１の表面に対し全反射を起こす入射角で入射させる１次Ｘ線照射部２と、試料１の表面に対向して配置され、試料１から発生する蛍光Ｘ線を検出する検出器１１とを備えている。１次Ｘ線照射部２は１次Ｘ線を発生するＸ線源３、及びその１次Ｘ線を集光して試料１に照射するポリキャピラリーＸ線レンズ５を備え、さらに好ましくはポリキャピラリーＸ線レンズ５から出射した１次Ｘ線のうち試料表面に対して全反射条件を満たさない入射角をもつ１次Ｘ線を遮蔽するスリット７を備えている。 （もっと読む）

【課題】高精度の試料ステージ機構を用いることなく、メモリーセルをカウントし、特定のセルの位置を検出する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。更に、試料の繰り返しセルの少なくとも３つの端の位置に基づいてセルの配列を求め、このセルの配列から目的セルの位置を特定する。ビーム偏向機能によるズームとソフトウエアによるズームを組み合わせてズーム画像を生成し、試料ステージを移動させることなく、ソフトウエアによって画像シフトを行う。 （もっと読む）

【課題】基底基準吸収回折法による定量法において基底板から正確な回折線強度情報を得ることを可能にすることにより、極めて正確な検量を行うことができるＸ線回折定量装置を提供する。
【解決手段】物質Ｓの重量をＸ線を用いて測定するＸ線回折定量装置において、物質Ｓを物質保持領域Ａｓ内に保持するフィルタ３３と、物質Ｓに照射するＸ線を発生するＸ線源Ｆと、物質Ｓで回折した回折Ｘ線を検出するＸ線検出器２０と、フィルタ３３におけるＸ線照射面の反対側に設けられ物質保持領域Ａｓよりも小さい基底板３１と、Ｘ線源Ｆから見てフィルタ３３の背面側であって基底板３１の外周側面の周りに設けられた非晶質部材３０とを有するＸ線回折定量装置である。非晶質部材３０からは強いピーク波形を持った回折線が出ないので、基底板３１からの回折線に誤差変動が生じることがなくなる。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造
工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速で高精度に検査できる装置および方
法を提供すること。
【解決手段】
表面に透明膜が形成された被検査対象物に対し、高ＮＡ対物レンズを真空チャンバ内に設置し、対物レンズ内に照明光路を設けたことにより、暗視野照明を可能にし被検査対象物表面の異物または欠陥の反射散乱光を高感度に検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】
従来は方向を示すものが無い材料では、試料加工または観察を繰り返し行い、視覚を頼りに水平度調整を行っていた。本発明の目的は、上記問題点を解消し、試料の水平度調整を簡便に行う方法、及び装置を提供することにある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、本発明では、荷電粒子源側から見て、試料の手前部分と、奥行き部分に跨って形成される構造体、或いは試料の手前部分と、奥行き部分との間に、所定の関係を持って形成されている構造体が、所定の関係となるように、試料を傾斜、或いは回転する試料観察方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】
マイクロチップを用いて複数元素を同時に高感度に分析できるようにする。
【解決手段】
マイクロチップ１は、基板３０と、基板３０の内部に形成された流路２３と、基板３０の平坦な表面の一部からなり、流路２３の出口が開口９ｃとして形成され、その開口９ｃから溢れ出た測定対象液が基板３０の平坦な表面にとどまって分析試料となる分析部１０とを備えている。このマイクロチップ１を使用して、分析部１０に測定対象液を分析試料として溢れ出させ、好ましくは分析試料を乾燥させた後、１次Ｘ線を全反射の条件で入射させて蛍光Ｘ線を検出する。 （もっと読む）

本発明は、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）用の測定装置および方法に関する。該測定装置は、侵襲的放射線、特にＸ線を生成するための放射源（２）と、回転機構（７）とを有し、該回転機構の構成および配置が、測定対象（１）が回転機構（７）の回転軸（Ｔ）を中心に回転することができ、さらに、このように回転することで侵襲的放射線がさまざまな方向から測定対象（１）を貫通することができるような構成および配置である。さらに、測定対象（１）を貫通した放射線を検出するための検出機構（３）が備えられている。調整機構を具備する位置決め機構（５）が、測定対象の位置を検出機構（７）に相対して調整できるように構成されている。
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【課題】クラックなどの細長い欠陥が断層面と直交している場合でも、その欠陥を容易に抽出でき、しかも短時間で検査を行い得るＸ線検査方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線を被検査物である回路形成体に対して照射しその内部を検査するＸ線検査方法であって、Ｘ線の照射方向と直交する軸心回りで所定角度置きに回転移動させられる回路形成体にＸ線を照射しその透過したＸ線を検出するＸ線照射ステップおよびＸ線検出ステップと、このＸ線検出ステップにて検出された透過Ｘ線データに基づき複数の断層画像を作成する断層画像作成ステップと、この断層画像作成ステップにて作成された複数の断層画像から互いに直交する３方向での投影画像を作成する投影画像作成ステップと、この投影画像作成ステップにて作成された投影画像に基づき回路形成体のクラックなどの欠陥を検出する欠陥検出ステップとが具備されたもの。 （もっと読む）

【課題】薄い膜又は極薄の膜に堆積される１つ又は複数の元素の深さ分布情報を抽出する方法及びシステムを提供する。
【解決手段】薄膜内の元素の分布プロフィールを判断する方法。本方法は、第１の薄膜に堆積した元素の電子エネルギを励起する段階、電子エネルギに関連する第１のスペクトルを取得する段階、及び第１のスペクトルから背景スペクトルを除去する段階を含む。背景値を除去すると、処理スペクトルが生成される。本方法は、更に、第１の薄膜に同等の薄膜内の元素に対する既知の模擬分布プロフィールを備えた模擬スペクトルに処理スペクトルを適合させる段階を含む。第１の薄膜内の元素に対する分布プロフィールは、模擬スペクトルの組から選択された模擬スペクトルに処理スペクトルを適合させるこの段階に基づいて取得される。 （もっと読む）

【課題】 衣類等の検査対象物に混入した針等の異物を検出するにあたって、検査官の見落としによる異物の不検出を防止し、小さな異物をも検出することが可能な異物検出装置を提供する。
【解決手段】 検査対象物を輸送する輸送手段３と、輸送手段３上の検査対象物にＸ線を照射するＸ線照射手段４、５と、Ｘ線照射手段４、５から輸送手段３上の検査対象物にＸ線が照射された際のＸ線透過率を測定する複数の電離箱検出器６と、複数の電離箱検出器６の各々の測定値と、予め記録した基準値から検査対象物中に異物が混入しているか否かを判定する判定手段とを備えた異物検出装置１において、複数の電離箱検出器６を、検査対象物を挟んでＸ線照射手段４、５の反対側に、２段にわたって配置した。判定手段によって検査対象物に異物が混入していると判定された場合には、検査対象物は、輸送手段３の入口側に戻すことができる。 （もっと読む）

【課題】電子写真感光体を破壊、加工することなく、連続して検査することのできるＥＰＭＡ法による検査装置および検査方法を提供することである。
【解決手段】試料に電子線を照射する電子線光学手段が接続され、所定の真空度に保持された試料室と、真空排気手段および給気手段とが接続され、前記試料室との間で試料の出し入れを行う第１開口部および外部との間で試料の出し入れを行う第２開口部を有する予備排気室と、前記第１開口部を開閉するための第１仕切り弁と、前記第２開口部を開閉するための第2仕切り弁と、試料を保持して外部と予備排気室と試料室との間を移動する試料台と、この試料台の移動に対応して、前記第１仕切り弁および第２仕切り弁の開閉、予備排気室の給・排気を行う制御手段とを備えたことを特徴とするＥＰＭＡ法による検査装置である。 （もっと読む）

【課題】 被検査物を管理領域内のＸ線検査位置を通過させ、その間にＸ線検査するＸ線検査設備において、長尺の敷地を必要とせず、遮蔽扉が軽量化され、運転手の移動距離も少なくかつ監視要員数も削減できるＸ線検査設備を提供する。
【解決手段】 遮蔽壁６で囲まれ、入側遮蔽扉５ａと出側遮蔽扉５ｂとを有する管理領域３を有し、前記管理領域３に搬入された被検査物が、前記管理領域３内のＸ線検査位置１８を移動する間にＸ線検査されるＸ線検査設備１において、前記被検査物が前記入側遮蔽扉５ａを介して前記管理領域３内に搬入される搬入方向と、前記被検査物が前記出側遮蔽扉５ｂを介して前記管理領域３外に搬出される搬出方向との少なくとも一方が、前記被検査物が前記Ｘ線検査位置１８を移動する方向と異なる直線上にある。 （もっと読む）

【課題】 互いに対向配置されたＸ線源とＸ線検出器の間に、テープ状の検査対象物を長手方向に給送して一定の範囲ごとに合否判定を行う自動Ｘ線検査装置において、何らかの原因により判定動作が異常終了した場合でも、それまでに得られた判定結果を無駄にすることなく、異常終了に対応する位置から確実に判定動作を再開することのできる自動Ｘ線検査装置を提供する。
【解決手段】 給送装置１による検査対象物Ｗの給送位置を刻々と検出する給送位置検出手段５を設けるとともに、検査対象物Ｗの一定の範囲の合否判定ごとにその判定動作が正常に終了したか否かを判別し、異常終了と判別した場合には給送を停止するとともに、給送位置検出手段５の出力に基づいて、その判定に供したＸ線透過データを取り込んだ検査対象物Ｗの給送位置を特定して、その位置から運転を再開することにより、中断前後の判定結果を確実に連続させることを可能とする。 （もっと読む）

【課題】粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。
【解決手段】サンプルを基板に配置する段階、中心部分が平面に沿って延在する帯形Ｘ線ビームをＸ線放射線源により生成する段階、サンプルがビームの経路内となり、サンプルの薄片部がビームによって照射される初期位置に、基板およびサンプルを配置する段階、基板の初期位置に対する基板の以下の運動、すなわち、基板に垂直な回転軸線の周りの回転であって、所定の回転角にわたる基板およびサンプルの回転と、傾斜軸線の周りのビームの中心部分が延在する平面と回転軸線がなす角度として定義される傾斜角にわたる基およびサンプルの傾動であって、第１所定値と第２所定値の間で変化する傾斜角にわたる傾動とを実施する段階、及び基板の運動が実施される時間間隔の間にサンプルを透過し回折されたＸ線放射を前記検出器で検出する段階を含む。 （もっと読む）