【課題】
磁気記録媒体に対して測定時の電子光学系の条件によらず、確実な欠陥検査及びパターン検査を可能にする電子線プロジェクション検査装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、磁気記録媒体上に作製されたパターンを利用する。
磁気記録媒体に面積ビームとした電子線を試料に照射し、試料の極近傍で反射させ像を得る。プリアンブル領域部分の画像をトラック幅方向に積分し平均値を求める。この平均値を元に閾値を設定し、この閾値をもとに異物、加工深さや加工位置のばらつきなどの欠陥検査やパターン検査を行う。 （もっと読む）

【課題】ビューポイントがＸ線画像中から逸脱することのないようにする。
【解決手段】透視Ｘ線像をＸ線光軸を中心として撮影するＸ線検出器１２とを有するＸ線測定光学系１３と、少なくともＸＹＺ方向に移動させるステージ駆動機構１６とを備えるＸ線検査装置１であって、ステージ位置データを記憶させる駆動信号発生部３６と、第一基準点画像６１ｂ及び第二基準点画像６２ｂがポインタ６３で指定されることにより、第一基準点画像６１ｂ及び第二基準点画像６２ｂの位置を含む基準点画像位置データを記憶させる基準点画像指定部３７と、異なるステージ１４の位置で記憶された２つの基準点画像位置データとステージ位置データとを用いて、Ｘ線光軸方向とステージ１４のＺ方向とのズレ量を算出する算出部３８と、軸補正を行う補正信号を駆動信号発生部３６に出力する補正信号作成部３９とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透過法のＸ線回折測定を容易としうるＸ線回折測定方法の提供。
【解決手段】本発明のＸ線回折測定方法は、所定の回転軸線Ｚｓまわりに試料４８を回転させながらこの回転軸線Ｚｓに略沿った方向の入射Ｘ線を試料４８に透過させることにより、Ｘ線回折が測定される。好ましい測定方法では、貫通孔４６を有する試料ホルダー３４と、この試料ホルダー３４が取り付けられた状態で回転軸線Ｚｓまわりに回転しうる回転体２５とが用いられる。この回転体２５は、Ｘ線を通過させるためのＸ線通過孔３２を有している。Ｘ線通過孔３２は、上記回転軸線Ｚｓを通過させるように上記回転体２５を貫通している。試料ホルダー３４の貫通孔４６とＸ線通過孔３２とが連通した連通孔が形成されるように試料ホルダー３４が取り付けられている。試料４８は、試料ホルダー３４の貫通孔４６の内側に配置される。 （もっと読む）

【課題】不良品が良品の搬出経路である後工程に流出してしまうのを確実に防止できる物品検査装置を提供する。
【解決手段】物品Ｗを搬送する搬送手段１０と、搬送物品を順次検知する物品検知手段２０と、搬送物品を検査する検査手段３０と、物品検知情報および検査結果に応じて、搬送物品を搬送手段１０の下流側で分別するための分別指令信号ＲＪ１を出力する分別制御手段５０と、を備えた物品検査装置において、物品検知手段２０が、物品Ｗの搬送方向に対して直交する方向に離間する第１の検知位置ｐ１および第２の検知位置ｐ２でそれぞれの位置を通過する物品Ｗを検知する第１物品検知部２１および第２物品検知部２２を有し、分別制御手段５０は、物品検知部２１、２２のそれぞれによる物品検出時間に応じて物品搬送状態を判定する搬送状態判定部５１を有し、搬送状態判定部５１で判定した搬送状態に応じて分別指令信号ＲＪ２を出力する。 （もっと読む）

【課題】スループット良く且つ高精度で試料の欠陥の検出が可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１は、真空状態のワーキングチャンバ３０と、Ｌ_aＢ_６電子源を備えた電子光学装置７０と、ワーキングチャンバへウェーハを搬出入するローダハウジング４０と、ワーキングチャンバに接続され、内部が雰囲気制御されているミニエンバイロメント装置２０と、を備える。ローダハウジング４０は、ミニエンバイロメント装置２０に接続する第１のローディングチャンバと、ワーキングチャンバに接続する第２のローディングチャンバと、第１及び第２のローディングチャンバの間の連通を選択的に阻止する第１のシャッタ装置２７と、第２のローディングチャンバとワーキングチャンバとの間の連通を選択的に阻止する第２のシャッタ装置４５と、を備え、第１及び第２のローディングチャンバには各々真空排気配管と不活性ガス用のベント配管とが接続される。 （もっと読む）

【課題】微量の液体試料を所定の部位に精度よく試料点滴基板上に点滴乾燥させている全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板および全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびに全反射蛍光Ｘ線分析方法を提供し、液体試料の全反射蛍光Ｘ線分析の感度と精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】液体試料を点滴乾燥させるための試料点滴基板であって、表面が疎水性であり、鏡面研磨の平面度を有する平面基板１５Ｋと、平面基板１５Ｋの表面の所定の部位に、合成樹脂を溶剤にて所定の濃度に溶解された合成樹脂溶液４０の所定量を点滴乾燥された合成樹脂点滴乾燥痕４１とを有する全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５。この全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂点滴乾燥痕４１に試料溶液７０を点滴乾燥させて全反射蛍光Ｘ線分析を行う全反射蛍光Ｘ線分析装置およびその方法。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折の測定結果に悪影響を及ぼすことなく、ヒータの小型化が図れながら試料を加熱する均熱領域を広くできるＸ線回折装置を提供し、複数の試料に対して同時にＸ線回折測定が良好に行えるようにする。
【解決手段】試料が配置されるケーシング1と、ケーシング1内に配置された試料にＸ線を照射するＸ線照射器2と、試料を透過した回折Ｘ線を検出するＸ線検出器3と、ケーシング1内に配置され、このケーシング1内に配置された試料を加熱するヒータ4とを備える。ヒータ4は、試料に入射するＸ線（入射Ｘ線）の光軸の周りに、試料を囲むように配置する。ヒータ4は、試料を囲む筒状に形成したときは、筒部の中心軸が入射Ｘ線の光軸と平行となるように配置する。 （もっと読む）

【課題】試料の結合状態および組成の変化などの損傷を抑制し、試料表面の分析精度を向上させる。
【解決手段】１８４．９ｎｍの波長光を発するＵＶ光源１７と２５３．７ｎｍの波長光を発するＵＶ光源１８と酸素供給用の酸素供給管２１と予備排気可能な排気管２２とを備え、排気により真空を形成すると共に、炭化水素を含まない酸素存在雰囲気下、ＵＶ光源１７、１８により紫外光を照射して試料表面を清浄する予備排気室１２および、仕切り弁２３を有し、仕切り弁を開いたときに測定チェンバ１１と予備排気室１２とを連通し、清浄後の試料を測定チェンバ１１へ搬入する連絡通路１５を備えている。 （もっと読む）

【課題】試料中の沈殿物等の検査対象物に到達するまでの入射電子線及び沈殿物から発生した反射電子等の散乱を極力少なくすることにより、該検査対象物の検査を好適に行う。
【解決手段】本発明における試料保持体は、試料が保持される試料保持空間４９の壁の少なくとも一部が電子線１により透過される膜４４によって構成されているおり、試料保持空間内４９に電場を形成するためのアルミニウム層４３，アルミニウム電極４６が設けられている。アルミニウム層４３，アルミニウム電極４６間に電圧を印加することにより試料保持空間４９内に電場が形成される。形成された電場によって、試料中の検査対象物７３が移動し、膜４４に接する。これにより、膜４４を介して電子線１を試料に照射した際に、電子線１が検査対象物７３に到達するまでに生じる散乱を最小限にすることができ、良好なＳＥＭ像を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】試料より発生する蛍光Ｘ線の強度が最大になるようにＸ線源からの一次Ｘ線の照射位置および照射角度を自動調整することにより、光学調整の熟練者でなくても、常に短時間で高感度、高精度の分析が行える蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置１は、制御手段２０により制御される各調整手段１９、２２、２３により調整されたＸ線管１１と分光素子１３の位置と角度と装置機構上の対応する位置と角度との差を各オフセット記憶手段２１、２４、２５にオフセットとして記憶し、分析条件設定手段に記憶したオフセットを付与し、試料１６より発生する蛍光Ｘ線１７の強度が最大になるようにＸ線管１１からの一次Ｘ線の試料１６への照射位置および照射角度を自動調整する。 （もっと読む）

【課題】従来の産業用の放射線断層撮像装置に比して、同等の内部構造、大きさを有する装置であっても、より大サイズの被写体の断層像を得ることのできる放射線断層撮像装置を提供する。
【解決手段】放射線源１からの放射線を照射しつつ、回転ステージ３により被写体Ｗを回転軸Ｏｗの回りに回転させ、所定の回転角度ごとに放射線検出器２の出力を取り込んだ放射線透過データを用いて、回転軸Ｏｗに直交する平面でスライスした被写体Ｗの断層像を再構成するに当たり、被写体Ｗの回転角度が１８０°に満たない回転範囲で取り込んだ放射線透過データを用いて、被写体Ｗの断層像を再構成演算することで、装置内部の各部材に干渉して１８０°以上の回転が与えられない大サイズの被写体でも、その断層像の撮像を可能とする。 （もっと読む）

【課題】 既存技術よりはるかに安価に、かつ簡便に平面観察を行ってから観察後に断面を加工することができる試料作製方法を提供する。
【解決手段】 集束イオンビーム装置のチャンバ内で試料１をブロック状に切り出し、その試料ブロック（バルク）４を真空外に取り出して、マニピュレータの先端にセットしたガラスプローブ５に接触させて支持する。次に、バルク４を試料台である円筒状のピン６の先端にエポキシ樹脂で固定する。次に、平面観察用の薄膜試料をＦＩＢ加工により作製する。次に、内部の欠陥位置を２次元的にＴＥＭ／ＳＴＥＭで観察し同定する。その後、ピン６を手動で９０°回転させてから、欠陥部位を含む位置を断面加工する。 （もっと読む）

【課題】熟練を有さずとも、簡単な操作により素早く最適な撮影条件を設定することのできるＸ線断層像撮影装置を提供する。
【解決手段】被写体Ｗに回転を与える回転テーブル３の回転軸Ｒに沿った方向から被写体Ｗを撮影する光学カメラ１２を設け、その光学カメラ１２による被写体Ｗの光学像上で断層像の撮影領域Ｃを指定することにより、回転テーブル３とＸ線焦点１ａとのなす距離ＳＯＤを自動的に設定する一方、Ｘ線条件として数種の管電流と金属フィルタ２の装着の有無を用意し、それぞれについてＸ線検出器２の出力レベルがフルレンジの所定の率となる管電圧のもとに、回転テーブル３上に被写体Ｗを搭載した状態でＸ線を照射し、各Ｘ線条件のうち、最もＸ線の透過しにくい回転角度において最も暗いレベルと最も明るいレベルの差が最大となる条件を最適条件として自動的に設定する。 （もっと読む）

【課題】口腔内で生息する細菌により産生される酸や生体内の疾患の炎症などにより変化する体液環境にも対応ができる化学的に安定な生体硬組織を提供することにある。
【解決手段】生体硬組織中の耐酸性関与物質を同定するに際し、スライスした生体硬組織試料２の各部の微小部Ｘ線回折法による定性分析を行い、前記スライスした生体硬組織試料を酸性溶液に浸漬して、溶解せずに残った部分の微小部Ｘ線回折法による定性分析を行い、前記酸性溶液への浸漬前後の前記生体硬組織試料の前記定性分析の結果を対比して、前記耐酸性関与物質を同定することを特徴とする、生体硬組織中の耐酸性関与物質の同定方法である。 （もっと読む）

【課題】回転中心軸投影位置較正用治具の位置決めが良好でなく、そのワイヤのＸ線投影データが３６０°にわたって得られなかっても、オペレータが較正用治具を移動させる必要がなく、また、較正用治具としてワイヤの位置を特に高精度に仕上げたものを用いることなく各軸に回転中心軸投影位置の較正を行うことのできるＸ線ＣＴ装置を提供する。
【解決手段】回転テーブル３を回転させて得た回転中心軸投影位置較正用治具ＪｃのワイヤＪｗの投影データが３６０°にわたって得られなかった場合、得られているデータを三角関数で近似し、その振幅中心と位相を算出して回転中心軸Ｒの位置を近似計算し、その計算結果に基づいてステージ５を移動させてワイヤＪｗを回転中心軸Ｒに接近させ、その後に再度回転テーブル３を回転させてワイヤＪｗの投影データを採取することで、オペレータによる位置決めを必要とすることなく、自動的に３６０°分の投影データが得られる位置にワイヤＪｗを位置決めすることを可能とする。 （もっと読む）

【課題】被検体に荷重を負荷しながら、ＣＴ装置と連動して一連の過程を撮影することが可能な動態撮影システムを提供する。
【解決手段】本発明によって、荷重負荷制御装置１０と、被検体を撮影するＣＴ装置１１００と、ＣＴ制御装置１０００と、を備える動態撮影システムであって、前記荷重負荷制御装置１０は、入力装置１００と荷重を制御する荷重制御部２００とＸ線透過性を有する支持板９０１と前記被検体を固定する固定部８００と荷重負荷部３３０と荷重検出値Ｆを生成する荷重検知部４００とを備え、前記固定部８００と荷重負荷部３３０及び荷重検知部４００は前記支持板９０１上に固定され、前記荷重負荷部３３０は、前記荷重検出値Ｆに基づいて被検体に負荷される荷重を制御し、前記ＣＴ制御装置１０００は、前記荷重制御部２００からの指示情報に基づいて前記ＣＴ装置１１００による撮影を制御することを特徴とする動態撮影システム。 （もっと読む）

【課題】高精度の位置決めを短時間で行え、測定対象物の像逃げが発生しないステージを提供する。
【解決手段】案内部２６を備えたベース２５と、案内部２６に沿った移動方向３８に移動するテーブル２７と、テーブル２７を移動させるために移動方向３８に運動をする運動部２９と、この運動をテーブル２７に伝達させる伝達部３１とを有する試料載置用のステージにおいて、伝達部３１は、テーブル２７に固定されたテーブルブロック３３と、運動部２９に固定された運動ブロック３２とを有し、テーブルブロック３３と運動ブロック３２とは、運動をする際には移動方向３８の前後２箇所で接し、運動をしない際には離れている。 （もっと読む）

【課題】画像が一方向に殆ど一様なパターンである場合でも、ドリフトによる補正用画像のずれを正確に検出して特性Ｘ線画像の位置ずれの補正を適切に行う。
【解決手段】時間を隔てた２枚のＳＥＭ画像が得られると、画像の並進対称性の有無の検出を行い（Ｓ１）、並進対称性がある場合には（Ｓ２でＹＥＳ）、２枚のＳＥＭ画像に対し相互相関法による二次元的な画像マッチングを行って位置ずれの量及び方向を算出した（Ｓ３）後に、変動量が小さい方向に限定した一次元的な画像マッチングを実行することで位置のずれ量を算出する（Ｓ４）。その結果を用いて二次元画像マッチングの結果を修正してずれ量及び方向を求め（Ｓ５）、二次元／一次元マッチングを規定の回数に達するまで繰り返す（Ｓ６）。こうした求めた位置ずれ情報に基づいて二次元走査時のレーザ照射位置を微調整することで特性Ｘ線画像のずれを補正する。 （もっと読む）

【課題】透過電子顕微鏡をはじめとする試料分析装置において、観察しようとする試料に外部電圧を印加し、デバイスが動作状態のまま構造、組成、電子状態を分析するための、試料保持台、試料の前処理および試料ホルダに関する課題に対応する方法、および、当該試料の分析を行う方法を提供する。
【解決手段】試料の外部電圧印加箇所と接続可能な第１の配線構造を含む試料保持台（メッシュ）と、前記第１の配線構造と接続可能な第２の配線構造および電流導入端子を含む試料ホルダと、を設ける。そして、観察しようとする試料の外部電圧印加箇所に、第２の配線構造と、第１の配線構造とを介して、試料分析装置の外部から電圧を印加したり電流を流したりすることによって、デバイスが動作状態のまま構造、組成、電子状態を分析することのできる、試料保持台、試料の前処理方法、および、当該試料の分析を行う方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】煩雑な焦点補正の作業を行うことなく、試料上の線分析や面分析を簡便かつ自動的に行うことができる斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、電子線が照射された試料から発せられる特性Ｘ線をＸ線検出器により検出する際に、試料ステージを傾斜させることにより特性Ｘ線の取出角度を制御し、試料内部で励起された特性Ｘ線が全反射現象により検出さない角度に特性Ｘ線の取出角度を設定する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、前記取出角度が得られるように試料ステージを傾斜させた状態で予め任意の分析点の焦点調整を完了させた後、その焦点を維持しつつ試料表面の他の分析点を分析するのに必要な試料ステージの制御データを求め、求めた制御データに基づいて試料ステージを移動させることにより試料表面の微粒子又は薄層の線分析又は面分析を行う。 （もっと読む）