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Fターム[2G051BB05]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 照明用光学系 (5,008) | 暗視野照明 (365)

Fターム[2G051BB05]に分類される特許

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【課題】
【解決手段】本発明は、試料の特徴を監視するためのさまざまな方法、キャリア・ミディア、ならびにシステムに関する。試料の特徴を監視するコンピュータ実施方法は、検査システムを用いて、試料を検査することにより生成される出力を用いて、試料上の個々の画素の特性を決定することを含む。また本方法は、個々の領域内の個々の画素の特性を用いて、試料上の個々の領域の特徴を決定することを含む。更に本方法は、個々の領域の特徴に基づき試料の特徴を監視することを含む。 (もっと読む)


【課題】表面を光学的に検査するための少数の素子からなる、コンパクトでなおかつ製造が安価なデバイスを提供する。
【解決手段】調査される表面上のゾーン3は、テレセントリック光学列を用いて、半透明のミラーおよび非球面の視野ミラー4によって照らされ、表面によって反射されるまたは散乱される光の少なくとも一部は、半透明のミラーを介して、視野ミラーによって、電子カメラ11のレンズの入射瞳上に結像される。カメラによって記録される画像は、既知の画像処理方法を使用して解析される。 (もっと読む)


【課題】従来、製造プロセスの不良対策は、該検査装置で検出された欠陥を分析することにより行われている。一方、光散乱方式の欠陥検査装置の検出結果として総検出個数や欠陥の検出座標、欠陥の寸法などの情報を出力している。光散乱方式の欠陥検査においては、散乱光を用いて欠陥の寸法を測定しているが、寸法が適切に算出できない場合があった。
【解決手段】光学的系により検査する欠陥検査装置において、欠陥検出とほぼ同時に欠陥の寸法を測定する。欠陥寸法の測定を高精度化するために、標準粒子などの標準試料を用いて欠陥寸法を校正する手段を備えた。 (もっと読む)


【課題】ウェハ裏面を検査し、検出した欠陥が、搬送手段の接触による汚染であるかの判定と、発生源の特定ができるような平面基板検査装置および平面基板の検査方法を提供する。
【解決手段】ウェハ搬送部20等により保持されるウェハ1の保持面(例えば、ウェハ裏面1b)の表面状態を検査する平面基板検査装置を、ウェハ裏面1bを照明する光ファイバー3,4およびコンデンサレンズ5,6と、照明されたウェハ裏面1bの像を結像する受光レンズ7と、結像された像を検出して被検査面情報として出力する撮像素子8および画像処理部9と、接触位置情報を記憶する接触位置情報記憶部13と、被検査面情報と接触位置情報とを比較照合する比較照合部12とから構成する。 (もっと読む)


【課題】基板に対して検出装置を相対的に移動する構成において、検査位置近傍の清浄度を高く維持できるようにする。
【解決手段】基板検査装置1は、ケース2内に形成される清浄流体の層流内に基板Wの検査を行う検査部4が配置されている。検査部4は、検査位置P2に対して揺動可能に取り付けられた検査ユニット13を備え、検査位置P2に搬送された基板表面を光学的に観察できるようになっている。ケース2内には、検出ユニット13の存在によって検査位置P2の気流が妨げられ、又は乱されることがないように、第1の層流形成装置71及び第2の層流形成装置72が設けられている。第1の層流形成装置71で、検査位置P2に向かって気流を案内しているときは、第2の層流形成装置72は、気流と略平行に配置されている。 (もっと読む)


【課題】ライン上を搬送されてくるガラス基板をラインから取り出すことなく、その全面にわたる詳細な外観検査を行うことを可能とし、タクトタイムの短縮、製造設備のコンパクト化を図ること。
【解決手段】基板外観検査装置1は、製造ライン52上を搬送されてくる基板50の表面に照射する照明光を発生する照明装置11と、照明装置11から発せられ基板50の表面において反射した反射光を撮影するカメラ13と、これら照明装置11およびカメラ13を、製造ライン52上の基板50の搬送方向に交差する方向に一体的に移動させる移動機構とを備え、カメラ13が、照明装置11からの照明光の、基板50の表面における正反射光の光束の範囲外に配置されている。 (もっと読む)


【課題】検出された欠陥からシステマティック欠陥を分別する。
【解決手段】欠陥分類定義部221は、被検査デバイスにそのとき形成されているレイヤおよびその上層または下層に形成されたレイヤに対応するレイアウト設計データを用いて、被検査デバイスの表面に欠陥を分類する領域を定義する。欠陥分類処理部222は、欠陥レビュー装置10で取得された欠陥からサンプリングしたサンプリング欠陥データ133(233)について、その欠陥の位置が前記定義された領域のどの領域に含まれるかによって、欠陥を分類する。欠陥集計部223は、その分類された欠陥を集計し、各領域の欠陥密度を求め、ある領域の欠陥密度が他の領域の欠陥密度の平均値よりも有意差以上に大きい場合には、システマティック欠陥判定部224は、その領域の欠陥をシステマティック欠陥と判定する。 (もっと読む)


【課題】スローアウェイチップや棒状切削工具等のワークを効率よく精度良く検査することができる工具欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】ワーク12をチャック用部材16により支持する支持装置18と、ワーク12の検査面を照明するリング照明32と、照明されたワーク12を撮像するカメラ26を有する。カメラ26により撮像された画像を表示する表示装置30と、カメラ26により撮像されたワーク12の検査像を画像処理する画像処理装置28を備える。リング照明32から照射された照射光を、ワーク12の検査面の背面側及び周囲で反射させる背面反射板22を備える。リング照明32は、ワーク検査面に対して斜め方向から照明光を照射するように設けられ、支持装置18と背面反射板22は白色系の同一色に形成されている。画像制御装置28は、カメラ26で写したワーク12の画像を基にワーク12の輪郭を抽出する抽出処理を行う。 (もっと読む)


【課題】光学式顕微鏡により観察対象の欠陥を高感度に検出し、確実に走査型電子顕微鏡等の視野内に入れることによって高スループットで欠陥を観察できるようにした欠陥観察装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】真空チャンバ内に設けられたステージ上に載置される試料上の欠陥を光学的に再検出する光学式顕微鏡と、前記ステージを移動して前記試料上の欠陥を視野内に位置付けて観察する電子顕微鏡とを備えた欠陥観察装置であって、前記光学式顕微鏡は、更に、前記ステージ上に載置された試料の高さを光学的に検出する高さ検出光学系と、前記試料上の欠陥に対して照明を行う照明光学系と、該照明光学系により照明された前記試料上の欠陥から得られる反射光を集光して欠陥の画像信号を検出する検出光学系とを備え、前記高さ検出光学系で検出される試料の高さ情報に基づいて前記光学式顕微鏡について焦点合わせを行うように構成したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】容器の一面と他面との境界部分の凹凸や他面の膨らみや凹凸を検出できて容器の不良を判定可能とした容器の良否判定方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】本発明による容器の良否判定方法は、互いに隣接する一面(前面11)と他面(左側面13)とを備えた容器1の良否判定方法において、一面と他面との境界部に沿った線状の主光を境界部近傍の一面に照射する主光照射装置と、境界部に沿った線状の副光を境界近傍の他面に照射する副光照射装置33と、一面を撮像可能なように固定設置されたカメラ31と、カメラ31で撮像された画像を処理して反射光部分と反射光部分以外とからなる画像を生成する画像処理装置34と、画像を表示する画像表示装置35とを用い、境界近傍の他面に照射された副光の反射光が画像に含まれている場合には、境界部あるいは他面を不良であると判定することを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】センサーを通して電荷を伝播するために、裏面照射型線形センシングを用いる、改善された検査システムを提供する。試料を検査するのに、裏面照射型線形センサーと共に、集光光学装置を使用してもよく、裏面照射型線形センサーが作動して、蓄積した電荷を各画素の片側から反対側に前進させる。この設計は、電荷を電荷蓄積領域の方へ前進させる為に、片側から反対側まで、画素ゲート両端電圧プロフィールを制御する。電圧プロフィールを制御することは、裏面照射型線形センサー・アレイ内の各画素の両端に亘って連続ポリシリコンゲートを付与することを含む。ポリシリコンゲート及びそれに印加した電圧で、制御された電圧プロフィールを使用して効率的な電子の前進が可能となる。 (もっと読む)


【課題】ウェハ周縁端に付着した異物を正確に、かつ定量的に検出可能なウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置を提供する。
【解決手段】投光系により光をウェハ周縁端に照射し、受光系によりウェハ周縁端からの散乱光を検出し、検出した散乱光の強度からウェハ周縁端に付着する異物、及び/又は欠陥を検査するウェハ周縁端の異物検査方法において、前記ウェハ周縁端における光のスポット形状を、前記ウェハ周縁端のアペックスの長さ方向に前記アペックスの長さよりも細長く成形する。 (もっと読む)


【課題】パターン検査において、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらを低減し、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出するパターン検査技術を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、並列に動作する複数のCPUを実装した処理システムを用いて構成される画像比較処理部18を備えて、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらの影響を低減し、高感度なパターン検査をパラメータ設定なしで行えるようにした。また、比較画像間で各画素の特徴量を算出し、複数の特徴量を比較することにより、輝度値からでは不可能は欠陥とノイズの判別を高精度に行えるようにした。 (もっと読む)


【課題】垂直、水平及びその他の角度のクラック(“亀裂”)を“膨れ”から区別することができるガラス容器の検査装置を提供すること。
【解決手段】ガラス容器の口上の“膨れ”を“亀裂”から区別するための装置。とらえられる対象物は、集団を規定するために1つの帯内に配置される。当該集団は、これが多数の集団であるか否かを判定し、規定された集団の各々が評価されて“亀裂”が“膨れ”から区別される。 (もっと読む)


【課題】被検査面の微小な表面欠陥を地合ノイズの影響を受けずに安定して検査することのできる表面検査装置を提供する。
【解決手段】光源2から鋼板1の表面に照射された照明光の反射光を受光して鋼板表面の画像信号を得る撮像装置3の空間分解能を0.2mm以下にするとともに、照射位置での鋼板1の法線方向1aを基準として撮像装置3を光源2と同じ側に配置し、かつ光源2から鋼板表面への照明光の入射角度αを60°〜80°の間の角度に設定するとともに、撮像装置3の受光角度β1を20°〜αの間の角度に設定した。 (もっと読む)


【課題】 従来技術に係る光学手法を用いたウェーハVノッチ部のキズ検査方式では、キズ部の明暗度が弱いため閾値の設定が微妙であり、生産工程での自動検査システムでは歩留まりの低下と品質管理の低下が著しく問題となっているが、明暗度が鮮明化できる検査方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明においては、拡散光照明で検査表面を照射すると同時に、Vノッチの3次元構成面に、各面で独立に暗視野面を構成するため、光ファイバーでの光学系で各微小領域を照射し、表面と裏面を各1台のカメラ、合計2台のカメラで斜め方向より撮像し、焦点深度の深い検査対象部でも距離に関係なく検査できる構成となっている。キズ部の明暗度が鮮明なため欠陥の判定精度が大幅に向上できる。
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【課題】回折格子に係る干渉縞を用いてホログラム画像が描画されているホログラムシートに付いている傷等を確実に検査することが可能な検査画像を形成する検査画像形成装置等を提供する。
【解決手段】回折格子に係る干渉縞の発生により視認可能となるホログラム画像が描画されているホログラムシートの傷、及び/又は、前記ホログラム画像の欠け若しくは抜けを検査するための検査画像を形成する検査画像形成装置において、前記ホログラムシートに光を照射する照射手段と、前記光の前記ホログラムシートからの反射光を受光する受光手段と、前記受光手段以外の部分に配置された暗色シートと、前記受光された反射光に基づき、前記光が照射された前記ホログラム画像を構成する部分に相当する検査画像を形成する検査画像形成手段と、を有し、前記受光手段は、前記光の前記ホログラムシートからの反射光を斜方から受光することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 (もっと読む)


【課題】容器の底面付近の形状や状態に拘わりなく不透明な異物を従来よりも高い精度で検出できる異物検査装置を提供する。
【解決手段】透過性を有しかつ有底筒状に形成された容器2の底面2a側からの画像を取得し、その画像に基づいて容器内の不透明な異物の有無を検査する異物検査装置において、容器2をその上方から照明する第1の照明手段10と、容器2をその外周側の略全周から照明する第2の照明手段20とを備える。 (もっと読む)


【課題】 パターンからの回折光に基く誤検出を低減し、高精度な異物検査を実現できる異物検査装置を提供すること。
【解決手段】 被検査面(1a)に照射光を斜入射させる照射手段(4)と、前記被検査面に対して前記照射手段と同じ側に配置された、前記被検査面上の異物で生じる散乱光を検出する第1,第2の検出手段(8,9)と、を備え、前記第1,第2の検出手段は、前記照射手段の照射光の入射面に関して互いに逆側に配置されていることを特徴とする構成とした。 (もっと読む)


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