【課題】
複数条件の画像を同時に検出して統合する構成を用いた場合、高レートのデータ転送手段と大容量のメモリや記憶媒体が必要となる。
【解決手段】
複数の撮像条件にて試料の画像データを取得する工程と、前記複数の撮像条件にて取得した複数の画像データを画像記憶部へ格納する工程と、前記複数の画像データのそれぞれより欠陥候補を取得する工程と、前記画像記憶部に格納された、少なくとも２つの撮像条件の前記画像データから、前記複数の画像データのいずれかで検出した前記欠陥候補位置とその周辺を含む部分画像を切り出す工程と、前記欠陥候補に対応する少なくとも２つの撮像条件で取得した前記部分画像を統合処理することで、欠陥候補を分類する工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】基板表面の印刷物の位置の変化や濃淡などの影響を低減して、基板上の異物の有無を高精度に判定する異物検査方法を提供する。
【解決手段】撮像部と画像データ演算部とを備える基板検査装置を用いた基板上の異物検査方法であって、良品基板の参照画像データ上で印刷領域を抽出する工程Ｓ１と、印刷領域を所定量だけ膨張させて膨張領域を演算する工程Ｓ３と、検査基板の検査画像データ上で印刷物が占めると推定できかつ膨張領域に含まれる印刷推定領域を抽出する工程Ｓ４と、参照画像データの印刷領域ならびに検査画像データの印刷推定領域に中間色を上書き補正して補正後参照画像データならびに補正後検査画像データとする工程Ｓ５と、補正後参照画像データと補正後検査画像データとを相互に比較して輝度情報に一定以上の差がある輝度差異領域を特定する工程Ｓ６と、輝度差異領域に基づいて検査基板上の異物の有無を判定する工程Ｓ７と、を有する。 （もっと読む）

【課題】液相中の固形物検出用の装置および方法を提供する。
【解決手段】固形物および液相は、少なくとも部分的に透明な容器に混合物として封入され、装置は、プロセッサユニットおよびデジタル化された画像を、画素値を伴う画素の配列の形で作るためのカメラを備える。装置は、容器を保持し、容器に運動を与えて、それによって運動エネルギーが混合物に伝送されるためのアジテータ装置をさらに備える。カメラは、運動中の混合物の画像を撮影するために容器の透明部分に向けられる。記録段階の間にカメラによって撮影された運動中の混合物のデジタル化された画像は、プロセッサユニットへ伝送される。 （もっと読む）

【課題】シェーディングの状態や、その雑音成分が変化しても、リアルタイムにシェーディング補正が可能な表面検査装置のシェーディング補正方法を提供することを目的とする。
【解決手段】予め記憶された前回走査時までの走査検出信号で生成した第１のシェーディング補正信号ｓ８を元にして閾値信号ｓ３、ｓ４を生成し、今回の走査時の走査検出信号ｓ１に含まれる欠陥部に対応する位置の信号値を第１のシェーディング補正信号ｓ８で置換してアルタイムに補正走査信号ｓ６を求め、今回の走査時の走査検出信号を正規化するようにしたことを特徴とする表面検査装置のシェーディング補正方法。 （もっと読む）

【課題】多孔板の表面における汚れ、傷、めっき不良、異物の付着等を正確に検出することができる多孔板表面検査方法及び装置を提供すること。
【解決手段】多孔板Ｗの表面側から反射用の照明光を照射するとともに、多孔板Ｗの裏面側からバックライト用の照明光を照射して、多孔板Ｗの表面Ｗａを撮像部４で撮像する。そして、その画像に基づいて多孔板Ｗの表面Ｗａで反射した反射光１２の光量と、多孔板Ｗの透孔部Ｗｃを透過した透過光１１の光量を測定して、これら２つの光量が同一且つ予め設定された範囲の光量となるように、反射用の照明光とバックライト用の照明光の光量を調節する。そして、光量の調節がなされた状態で、多孔板Ｗの表面Ｗａを撮像して、その撮像した画像に基づいて多孔板Ｗの表面Ｗａの欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】高精度な印刷品質検査が行える検査装置、検査方法、検査プログラム、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。
【解決手段】検査装置１００は、印刷面の読み取り画像により印刷物の印刷品質を検査する装置であって、読み取り画像を検査対象画像Ｇ２として所得し、印刷データをリッピングした画像を基準画像Ｇ１として取得する取得手段１１と、取得した基準画像Ｇ１において、画素値の変化を表す平坦度を解析する解析手段１２と、解析結果の平坦度に基づき、検査用の閾値を、画像領域の種別ごとに切り換え、基準画像Ｇ１と検査対象画像Ｇ２との比較から得た画素値の差分が検査用の閾値を超過しているか否かの判定結果に基づき、領域種別ごとに印刷品質を検査するように制御する制御手段１３と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光に起因する欠陥を特定する欠陥検査装置および欠陥特定方法を提供する。
【解決手段】複数の露光領域を有する半導体ウエハを示す画像信号を受け付ける欠陥検査装置は、複数の露光領域内のそれぞれに共通に設定される複数の分割エリアの位置を特定するエリア情報を保持し、検出部が、画像信号に示された半導体ウエハ内の欠陥を検出すると、特定部は、露光領域内における位置が同一の分割エリアにて構成される分割エリア群のうち、分割エリア群内の欠陥の数が第１欠陥閾値を超える欠陥候補エリア群を特定し、露光領域内で所定方向に連続している欠陥候補エリアの数が所定閾値を超えると、露光領域のうち、露光領域内の欠陥候補エリアに存在する欠陥の数が第２欠陥閾値を超える欠陥露光領域を特定し、欠陥露光領域の数が特定閾値を超える場合に、欠陥候補エリア内の欠陥を、露光による欠陥として特定する。 （もっと読む）

【課題】被写体の周期的な動きを撮影し、その各周期の動きを評価しながら、通常とは異なる画像のみを記録可能とする。
【解決手段】画像取得手段で取得した入力動画像を保持する一次記憶手段５３と、被写体の基準となる動きを表す、基準動きパターンを取得する基準動きパターン取得手段３７と、入力動画像の各フレームを、基準動きパターンの各フレームから計算される評価用データと比較することで、入力動画像と基準動きパターン同士の各フレームの異常度を算出し、これに基づいて入力動画像と基準動きパターン同士の全体の異常度を演算する異常度解析手段３８と、異常度解析手段３８で演算された異常度に基づき、異常度の高いフレームから順に一次記憶手段５３に残し、一次記憶手段５３の空きがなくなったら異常度の低いフレームから順に削除する保存画像抽出手段３６とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターン付きウェハの表面粗さを高精度で非破壊に測定できる平坦な検査範囲を、目視によらず探索できる表面検査装置を提供する。
【解決手段】照射される照射光により生じる散乱光の散乱光強度を、パターン付きウェハ２００上の測定座標に対応付けて測定し、ウェハ２００の表面粗さを検査する表面検査装置において、制御部が、下限閾値以上である散乱光強度の測定座標を抽出し、抽出された測定座標の周辺に相当するパターンの全体レイアウト４０１の一部の部分レイアウト４０５ａ内に、表面粗さの検査の検査範囲４０６を設定し、検査範囲４０６における表面粗さを求める。 （もっと読む）

【課題】特別なソフトウェアを使用することなく、より正確な境界線を求めることができる境界線検出方法を提供する。
【解決手段】隣り合う各領域Ｚ１，Ｚ２のピッチをＰ１，Ｐ２とし、Ｒ１（ｍ）＝ｍｏｄ（ｍＰ１，Ｐ２／２），Ｒ２（ｍ）＝ｍｏｄ（ｍＰ１，Ｐ２），Ｒ（ｍ）＝Ｒ１ （Ｒ１≠Ｒ２の時），Ｒ（ｍ）＝Ｐ２／２−Ｒ１（Ｒ１＝Ｒ２の時），Ｅ（ｍ）＝Ｒ（ｍ）／（Ｐ２／２）において、ｍが整数であるときＥ（ｍ）が最も小さくなるｍを求め、両領域全体において距離ｍＰ１離れた画素同士の比較検査を行い、正常な画素を消去し、欠陥として残る画素の包絡線を境界線とし、同様の操作を他の領域間で行いピッチの異なる領域を検出する。 （もっと読む）

【課題】強化繊維基材表面の外観検査を光学的手法で行う強化繊維基材検査装置において、特徴が異なる複数種類の不具合を単一の撮像手段、単一の照明手段で簡易かつ確実に検査することができる強化繊維基材の検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一方向性織物であり、少なくともその片表面に樹脂材料が接着している強化繊維基材に対して、基材を照明する照明装置を設ける。照明装置の照射によって生じる基材の走行面での反射光を撮像装置で撮像し、基材の表面画像が得られる。得られた画像を画像解析装置によって解析することで、欠陥の有無を判定できる。 （もっと読む）

【課題】 コークス炉の炭化室の炉壁の肌荒れによる損傷の程度を指標化できるようにする。
【解決手段】 炭化室１１の炉壁１４の画像データから、炭化室１１の奥行方向の各位置における炉壁１４の凹凸量を示す凹凸プロフィール９００であって、炭化室１１の高さ位置が異なる複数の凹凸プロフィール９００を生成する。そして、複数の凹凸プロフィール９００から基準位置の変位の部分を抽出してこれらの差分をとることにより、基準位置が揃った凹凸プロフィールを得る。そして、当該基準位置が揃った凹凸プロフィールを、炭化室の奥行方向において１００ｍｍピッチで分割し、分割した各区間において、当該凹凸プロフィールの値（凹凸量）の最小値を抽出し、その平均値を肌荒れ指数とする。 （もっと読む）

【課題】処理負荷、処理時間の増大を抑制し、境界部分の表面欠陥をも取りこぼすことのない検査を可能とすること。
【解決手段】検査対象を有する物体を相対移動させながら撮像した検査対象の撮像画像に基づいて検査対象の表面検査を行う表面検査装置であって、検査対象の撮像画像に設定された検査領域内に更に設定される１〜複数のフィルタ領域のそれぞれに対して所定のフィルタ処理を行い、前回フィルタ処理画像と今回フィルタ処理画像との差分値であるフィルタ処理差分画像に対して、フィルタ領域ごとに画素単位でのしきい値処理を施した二値化画像（表面欠陥候補差分画像）を検査領域全体で統合した二値化画像（表面欠陥候補統合化差分画像）の画素値に前回の処理で得られた表面欠陥画像の画素値を加算することで得た二値化画像（表面欠陥候補統合化画像）を用いて表面欠陥の箇所および個数を特定する。 （もっと読む）

【課題】 塗装表面欠陥検査方法及び塗装表面欠陥検査装置に関し、表面塗装状態の検査を１回の画像撮像により簡便に且つ高効率に行う。
【解決手段】 縞状明パターンと縞状暗パターンとが交互に配列された明暗パターンの照射光を、１回の照射時間内に前記明暗パターンの切り替えと照射輝度の変調を行って検査対象物の塗装表面に照射する工程と、前記塗装表面からの反射光を撮像装置により画像として取得する工程と、前記取得した画像における輝度情報から前記塗装表面の内部の異物や混入物の影響と前記塗装表面の凹凸欠陥とを区別する画像処理工程とを設ける。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の表面や欠陥の形状に関わらず、欠陥を精度良く検出できるようにする。
【解決手段】検査対象物の表面に生成される照射パターンが少なくとも十字形状及びリング形状となる２種類以上のパターン光を発光部６０１から検査対象物の表面に照射する。そして、所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面にパターン光を照射するようにする。一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】従来の錠剤検査装置は、二値化による表示ラベルの除去を行なおうとしても、表示ラベルの一部を検査画像に残してしまうという課題を有していた。
【解決手段】錠剤検査装置１１は、透過性を有する表示ラベルが施された薬包体２１を載置する載置台１２と、反射照明部１３と、反射照明部１３の反対側より載置台１２を照らす透過照明部１４と、反射画像を撮影しかつ透過画像を撮影するカメラ部１５と、反射画像と透過画像の差分を取り差分画像を生成する差分画像生成部１８と、差分画像を二値化した時に、差分画像の錠剤領域とラベル領域を明確に分離できたかを示す分離度を算出する分離度算出部１６と、透過照明部１４の透過照明レベルのレベル値を変更し、分離度算出部１６より得られる分離度が所定の値以下または最小の値である作動レベルのレベル値に調整する明度調整部１７を備えた構成である。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査と位置精度測定を同時に行い、位置精度測定は、マスク上に位置精度測定用のモニターマークを必要とすることなく、任意のパターンで任意の測定点密度で測定する手法を提供する。
【解決手段】参照画像上の任意の場所に位置精度測定用のモニターパターンを生成し、マスク検査時に取り込まれるマスク画像と参照画像を比較することで、モニターパターンを欠陥として検出し、モニターパターンと対象のマスクパターンの相対位置ずれ量を算出することでパターンの位置精度測定を行う。 （もっと読む）

【課題】パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。
【解決手段】アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】 不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、基板試料を斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を受光器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記基板試料上に発生する反射散乱光を集光する。更に、互いに異なる複数の偏光成分を同時に検出する偏光検出部を有する。更に、上記偏光検出部で検出される互いに異なる複数の偏光成分信号を複数チップ間あるいは所定領域の画像内で比較して、統計的な外れ値を試料上の欠陥として検査する。 （もっと読む）