【課題】 マスクパターンの撮像データに対して簡便な方法により、高精度の位置補正を行う方法を実現し、高信頼性のパターン欠陥検査方法を実現する。
【解決手段】 この画像補整方法は、パターンが形成されている試料に光を照射し、その光学像を撮像した被検査パターン画像と、この被検査パターン画像に対応する検査基準パターン画像とを比較検査するパターン検査方法で用いる画像補正方法において、前記被検査パターン画像、及び検査基準パターン画像に対して２次元線形予測モデルを用いた入出力関係を記述する連立方程式を生成する連立方程式生成ステップと、前記入出力関係を記述した連立方程式を最小二乗法で推定して前記連立方程式のパラメータを求める連立方程式解法ステップと、前記パラメータの重心位置を求めるステップと、前記重心位置の値を用いて線形結合補間処理を行うことにより補正画像を生成するステップとからなっている。 （もっと読む）

【課題】 可動部を有する設備又は装置の動作中に、異常の有無を検知する監視制御装置、及び監視制御方法を提供する。
【解決手段】 可動部を有する設備又は装置を撮影する撮像部１１０と、可動部を有する設備又は装置の正常動作状態を表す指標を予め保存しておくデータ記憶部１３０と、撮像部１１０から取得した画像データに基づいて、可動部の位置情報を取得し、その位置情報が所定の条件を満たしているか否かを判定し、所定の条件を満たしている場合について、その所定の条件を満たしていると判定した場合の画像データと、上記の指標に基づいて異常の有無を判定する判定部１２０を有するように監視制御装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 透明な平板状製品の欠陥を容易に検査する。
【解決手段】 検査対象の平板状透明製品１５を挟んで配置される一対の偏光子１，２と、偏光子１，２の一方１を通して検査対象１５を照明する照明光源４と、一方の偏光子１と検査対象１５との間に配置される位相子３と、照明光源４から照明光が照射され一対の偏光子の他方の偏光子２から出射する透過光を検出する検出手段８と、検出手段８が検出した透過光データから評価値を算出し該評価値が増大する方向に偏光子１の光学軸の角度θ１と位相子３の光学軸の角度θ２とを独立に制御する演算手段１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数枚の画像を用いることなく容器内の気泡と異物とを精度よく識別する。
【解決手段】液体を充填した容器に光源からの光を透過させＴＶカメラで撮像する（Ｓ１）。画像処理装置は、ＴＶカメラに撮像した濃淡画像内に検査領域を設定し（Ｓ２）、検査領域内で気泡の候補となる気泡候補領域を抽出する（Ｓ３〜Ｓ６）。気泡候補領域の中の画素に対して気泡候補領域の外周縁からの距離に応じたラベルを付け、同じラベルを付けた領域を単位として気泡候補領域の中央寄りの内側領域と外周寄りの外側領域とを設定する（Ｓ７〜Ｓ９）。内側領域の明度の平均値が外側領域の明度の平均値よりも高く、かつ内側領域の明度と外側領域の明度との分離度が規定の閾値以上であるときに当該気泡候補領域を気泡と判定する（Ｓ１０）。 （もっと読む）

【課題】半導体プロセスにおいて、色の違いによって検査対象物を判別する検査方法および検査装置を提供する。
【解決手段】カラー画像を撮像可能な撮像手段によって検査対象物のカラー画像を撮像し、ＲＧＢ色空間の色情報を取得する。ＲＧＢ色空間の色成分または他の色空間の色成分のグレースケール画像を作成し、パターン認識の手法によって検査対象物を検出する。あるいは作成したグレースケール画像から二値画像を作成し、二値画像に対してパターン認識を行い検査対象物を検出する。検出した検査対象物が占める画素の色データと、予め用意しておいた良品の検査対象物の色データとを比較し、検査対象物が良品であるか不良品であるかを判定する。また、ネットワークを通じて他の製造工程にこの判定結果を反映させ、製品の品質を高いものにする。 （もっと読む）

【課題】
検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】
校正用基板の欠陥の位置座標を絶対座標と呼び、検査装置によって検出した校正用基板の欠陥の位置座標を検査座標と呼ぶ。絶対座標に対する検査座標の偏差が検査座標に含まれる誤差である。検査座標より、「傾向を持つ誤差」を除去すると、検査座標には、「傾向を持たない誤差」が残る。傾向を持たない誤差に基づいて、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズを設定する。更に、検査装置によって検出した校正用基板の欠陥サイズの検出値の傾向に基づいて、ファインアライメント用の欠陥を選定する。 （もっと読む）

【課題】 簡便に高い検出感度を得ることができる検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置はレーザ光源１０１と、試料表面に光スポットを形成する対物レンズ１０２と、対物レンズ１０２から試料１０７に入射した光ビームのうち、試料表面で反射した反射光に基づく出力信号を出力する光検出器１１０と、試料１０７と光スポットとの相対的な位置を走査ラインに沿って走査するステージ１０８であって、前記光スポットが隣接する走査ラインの光スポットと重複した領域を照明するように走査するステージ１０８と、光検出器１１０からの出力信号に基づいて欠陥候補を検出する欠陥候補検出部２０２と、欠陥候補検出部２０２において検出された欠陥候補間の距離に基づいて欠陥か否かを判定する欠陥判定部２０８とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】砥粒間隔を検出してワイヤソーの切断性能を良好に保つとともに、ワイヤソー表面の砥粒突き出し量を検出できるようにして、ワイヤソーの切味低下を未然に防止して、高い加工性能を有するワイヤソーを安定して製造することを可能とするワイヤソーの検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】芯線２１の周囲にボンド材によって砥粒２３を固着したワイヤソーの検査方法において、ワイヤソーの投影画像を撮影し、砥粒２３の個数、砥粒２３の間隔、砥粒２３の突き出し量を検出して、砥粒２３の固着状態を検査する。 （もっと読む）

【課題】 従来技術では、欠陥検査対象部品の表面の近似合同模様による輝度変化レベルより輝度変化レベルの小さい欠陥を検出できなかった。
【解決手段】 本発明は、撮像装置（ラインセンサーカメラ２）で撮像された単一画像中の画素毎の輝度データを記憶する輝度データ記憶手段２２と、単一画像中において隣接する複数の画素で構成され互いに構成画素の一部が重複する複数の小領域を設定する小領域設定手段２４と、小領域の特徴として小領域を構成する複数の画素の輝度データの総和値を演算する小領域特徴演算手段２５と、小領域特徴データ記憶手段２５Ａと、相互相関係数演算手段２６と、相互相関係数データ記憶手段２７と、データ出力制御手段（表示制御手段３７）とを備え、小領域設定手段２４が、単一画像中に含まれる近似合同模様の繰り返しの複数個入る大きさの小領域を単一画像の一方向に所定画素ずつ移動させながら設定したことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、印刷機によって製造された印刷物の品質を判定するための方法であって、印刷機は複数の同一の単位印刷物を製造し、製造された単位印刷物から１単位印刷物集合が選択され、選択されたこの集合の単位印刷物は異なったエラータイプの集合に属する少なくとも１つのエラータイプ及び／又は異なったエラー特異性の集合に属する少なくとも１つのエラー特異性に関して判定され、選択された単位印刷物集合内部でこれらの単位印刷物のうちの少なくとも１単位印刷物に検出された一定のエラータイプのエラー又は一定の特異性のエラーは同一の単位印刷物又は選択されたこの集合の別の単位印刷物に検出された別のエラータイプの少なくとも１つのエラー又は別のエラー特異性の少なくとも１つのエラーとの関係で判定され、この判定によって印刷物は良好又は不良として分類され、製造された単位印刷物の選択された集合の単位印刷物につき１つの画像センサを用いて１つの共通の、画像データを生ずる撮影が行われ、相互関係で判定されるべき全てのエラーは同一撮影の画像データから検出されるように構成されている。 （もっと読む）

【解決手段】 繊維機械に供給される縫い糸又は織り糸（Ｆ）の２次元分析を含む、光学式分析装置であって、少なくとも１個の発光素子（３、４）と、少なくとも１個の受光素子（５）とを備える。発光素子（３、４）は、受光素子（５）により検知される前に、糸（Ｆ）に当たる光信号を発生し、受光素子の検知に基づいて、発光素子（３、４）と受光素子（５）間での、移動、停止、寸法的な欠陥又はその他の寸法的な特徴等の、糸（Ｆ）の特徴を明らかにする。光信号が、糸（Ｆ）と関係を持った後で、光信号により照射を受け、糸ガイドとして機能する、光透過手段（６）を介在させる。 （もっと読む）

【課題】ウェハの表面の不均一性を考慮した明確ないし確定的なエラーないし欠陥の検出を可能にする方法の提供。
【解決手段】撮像されたウェハの画像を評価する方法であって、以下のステップ：少なくとも１つの基準ウェハの画像を撮像すること、前記基準ウェハの測定値の半径方向分布を半径方向均一性関数として求めかつユーザインタフェースに表示すること、及び前記基準ウェハの前記半径方向均一性関数を考慮して、半径に依存する感度プロフィールを変更すると共に、該感度プロフィールの少なくとも１つのパラメータが変化されることにより、１つの学習された感度プロフィールが、該半径方向均一性関数との比較から視覚的に規定されることを含むことを特徴とする。 （もっと読む）