説明

撮像されたウェハの画像の評価方法

【課題】ウェハの表面の不均一性を考慮した明確ないし確定的なエラーないし欠陥の検出を可能にする方法の提供。
【解決手段】撮像されたウェハの画像を評価する方法であって、以下のステップ:少なくとも1つの基準ウェハの画像を撮像すること、前記基準ウェハの測定値の半径方向分布を半径方向均一性関数として求めかつユーザインタフェースに表示すること、及び前記基準ウェハの前記半径方向均一性関数を考慮して、半径に依存する感度プロフィールを変更すると共に、該感度プロフィールの少なくとも1つのパラメータが変化されることにより、1つの学習された感度プロフィールが、該半径方向均一性関数との比較から視覚的に規定されることを含むことを特徴とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、撮像されたウェハの画像の評価方法に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体製造では、ウェハは、製造プロセス中に多数のプロセスステップでシーケンシャルに処理される。集積度の増大と共に、ウェハ上に形成される構造の品質に対する要求も高まっている。形成された構造の品質を検査し、場合により欠陥を見つけ出すことを可能にするために、ウェハを取り扱う構成部材及びプロセスステップの品質、精度及び再現性に対する要求も大きい。このことは、多数のプロセスステップと、フォトレジスト等により被覆されるべき多数の層によってウェハを製造する場合、欠陥を確実にかつ早期に識別(検出)することが特に重要であることを意味する。ここで、エラー(欠陥)を光学的に識別する場合、半導体ウェハをレジスト被覆する際の厚さ変動によるシステマチックな(系統的な)エラー(欠陥)を考慮することが重要であるが、これは、それによって、半導体ウェハのエラーを含まない個所をマーキングするのを回避するためである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
半導体ウェハの顕微鏡画像は、層ないしレイヤーの均一性が半径方向に変化することを示す。とりわけレジスト被覆した場合、ウェハの中心から離れた領域に均一性の変化が生じる。撮像されたウェハの画像を評価するために、ウェハの半径全体にわたって従来どおりに画一的な感度を使用すると、縁部では常に偏差(ずれ:Abweichung)が検出されるが、内側(ウェハの中心に近い側)では欠陥は検出されないという事態が生じる。均一領域においても欠陥を確実に検出できるようにするために高い感度を選択すると、不均一な縁部領域をエラーないし欠陥として評価することは必ずしもできないので、縁部領域では誤検出が過度に生じる。この過度の誤検出を阻止するために、縁部領域を完全に除外することもできる。しかしながら、その場合は、そこでは真のエラーないし欠陥は発見されない。これに対し、より小さい感度を選択すると、最早誤検出は生じないものの、逆に、均一領域においてエラーないし欠陥を発見することができなくなる。
【0004】
それゆえ、本発明の課題は、ウェハの表面の不均一性を考慮した明確な(確定的な:eindeutig)エラーないし欠陥の検出を可能にする方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
この課題は、請求項1の特徴を有する方法によって解決される。 即ち、本発明によれば、撮像されたウェハの画像を評価する方法であって、以下のステップ:
・少なくとも1つの基準ウェハの画像を撮像すること、
・前記基準ウェハの測定値の半径方向分布を半径方向均一性関数として求めかつユーザインタフェースに表示すること、及び
・前記基準ウェハの前記半径方向均一性関数を考慮して、半径に依存する感度プロフィールを変更すると共に、該感度プロフィールの少なくとも1つのパラメータが変化されることにより、1つの学習された感度プロフィールが、該半径方向均一性関数との比較から視覚的に規定されることを含むことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【0006】
はじめに、少なくとも1つの基準ウェハの画像が撮像されるととりわけ有利である。この撮像画像に基づいて、基準ウェハの測定値の半径方向分布が半径方向均一性関数(Homogenitaetsfunktion)として検出されユーザインタフェースに表示される。半径に依存する感度プロフィールは、基準ウェハの半径方向均一性関数を考慮して変更される。その際、感度プロフィールの少なくとも1つのパラメータが変化され、それによって、1つの学習された感度プロフィールが、半径方向均一性関数との比較から視覚的に規定される。少なくとも1つの別のウェハ上のエラーないし欠陥が、基準ウェハの学習された半径方向感度プロフィールと、該少なくとも1つの別のウェハの均一性関数の測定された半径方向分布との比較に基づいて求められる。ウェハ上のエラーないし欠陥は、均一性関数の測定された半径方向分布が学習された感度プロフィールを下回ることによって求められる。発見されたエラーないし欠陥は、少なくとも1つの別のウェハの画像表示上でマーキングされる。
【0007】
学習された感度プロフィールは、ウェハの中心までの距離に依存する。この依存性は、ウェハ自体の製造プロセスから生じる依存性に起因する。ウェハの上には、後続するリソグラフィプロセスのために、複数の層がスピン法によって被覆される。このことだけからして、エラーないし欠陥の検出の際に考慮されるべき1又は複数の層の厚さに変動が生じる。
【0008】
ユーザインタフェースには、学習された感度プロフィールを求めるためにユーザによって選択可能な複数の異なるプロフィールフォームが表示される。
【0009】
学習された感度プロフィールを求めるためにユーザによって選択可能な3つの異なるプロフィールフォームが表示されると特に有利であることを本発明者は見出した。ここで、第1のプロフィールフォームは、ウェハ上の半径方向位置に依存しない。第2のプロフィールフォームは、第1の部分と第2の部分から構成され、それらのうち少なくとも1つは、その勾配が可変である。第3のプロフィールフォームは、第1の部分、第2の部分及び第3の部分を有し、各部分は互いに独立にそのレベルが変化可能にされている。
【0010】
ウェハの半径方向均一性関数における感度プロフィールを調整するために、少なくとも1つのパラメータが変更可能に構成されている。この場合、少なくとも1つのパラメータは、感度プロフィールの勾配が互いに異なる2つの部分間の移行部の半径方向位置を代表する。1つの別のパラメータは、感度プロフィールの(1つの)レベルを規定し、感度プロフィールの少なくとも3つのレベルが調整可能にされている。ここに、感度プロフィールの(1つの)レベルが、半径方向均一性関数の(1つの)レベルに関連付けられる。レベルの調整ないし勾配の異なる部分の調整は、それぞれスライダによって変化することができる。
【0011】
以下に、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
【実施例】
【0012】
図1は、ウェハのエラーないし欠陥を検出するためのシステム1を示す。このシステム1は、例えば、半導体基板ないしウェハ用の少なくとも1つのカセットエレメント3を含む。測定ユニット5では、個々のウェハの画像ないし画像データが撮像ないし記録される。半導体基板ないしウェハ用のカセットエレメント3と測定ユニット5との間には搬送機構9が配設されている。システム1はケーシング11により包囲されているが、ケーシング11は基底面12を規定する。システム1には、更に、測定された個々のウェハの画像ないし画像データを取得及び処理するコンピュータ15が組み込まれている。システム1は、ディスプレイ13とキーボード14とを有する。ユーザは、キーボード14を用いて、システムを制御するためのデータを入力し、更には個々のウェハの画像データを評価するためのパラメータを入力することができる。ディスプレイ13には、システム1の(1人の)ユーザのために複数のユーザインタフェースが表示される。
【0013】
図2(a)は、(1つの)ウェハ16からの画像(複数)及び/又は画像データ(複数)の取得の仕方の一例を概略的に示す。ウェハ16は、ケーシング11内において第1の方向x及び第2の方向yに走行可能なテーブル20の上に載置されている。第1の方向xと第2の方向yは、互いに垂直に配向されている。ウェハ16の表面17の上方には、画像記録装置22が設けられているが、この画像記録装置22の画像野はウェハ16の全表面17よりも小さい。ウェハ16の全表面17をこの画像記録装置22によって撮像するために、ウェハ16はメアンダ状に走査(ジグザグ走査ないしスキャン)される。順次撮像された個々の画像野が1つにまとめられてウェハ16の表面17の全体画像が構成される。このことは、同じくケーシング11内に配設されたコンピュータ15により行われる。テーブル20と画像記録装置22との間での相対運動を引き起こすために、この実施例では、座標方向x及びyにおいて走行可能なx−yスキャンテーブルが使用される。カメラ22は、この実施例では、テーブル20に対して固定して配設されている。反対に、テーブル20が固定的に配設されかつ画像記録(撮像)のための画像記録装置22がウェハ16の上方で運動するように構成することも勿論可能である。カメラ22の1つの方向への運動と、テーブル20の当該方向に垂直な方向への運動とを組み合わせることも可能である。
【0014】
ウェハ16は、画像記録装置22の画像野に対応するウェハ16上の領域を少なくとも照明する照明装置23によって照明される。更にフラッシュランプによってもパルス化可能な集中照明によって、オンザフライ(on-the-fly)での即ち走行しているテーブル20又は画像記録装置22が画像記録(撮像)のために停止されることのない、画像記録(撮像)が可能になる。このため、ウェハスループットを大きくすることが可能になる。画像記録(撮像)の都度、テーブル20と画像記録装置22との間の相対運動を停止すること、及びウェハ16の全表面17を(一括)照明することも勿論可能である。テーブル20、画像記録(撮像)装置22及び照明装置23は、コンピュータ15により制御される。画像記録(撮像)は、コンピュータ15を介してメモリ15aに記憶され、場合によりメモリ15aから再び読み出される。
【0015】
図2(b)は、テーブル20に載置されたウェハ16の一例の平面図である。ウェハ16は中心25を有する。ウェハ16上には、更なる作業工程で構造化(構造を形成)される層(複数)が被覆されている。構造化されたウェハは多数の構造化エレメントを有する。
【0016】
図3は、ウェハ16の表面17におけるカラー変動のための感度プロフィール31を設定するためのパラメータを入力するためのユーザインタフェース30の一例を示す。ユーザインタフェース30には、カラー変動がウェハ16の半径の関数32としてプロットされている。偏差(Abweichungen)が評価され、関数32の変動がウェハ16の中心から見てのウェハ16の表面17の(位置に対応する)カラーの変化に対する尺度をなす。関数32ないし曲線は、中心25から1つの距離にあるすべての測定値ないし1つの半径上のすべての測定値の最小値から得られる。感度プロフィール31を関数32に適合させるために、ユーザは、複数の異なるプロフィールフォーム31a、31b及び31cを使用することができ、それらを用いて1つの学習された感度プロフィール31を求めかつ設定することができる。このようにして求められた感度プロフィール31は、1つのロット(被検ウェハ群)中の別のウェハ(複数)のエラーないし欠陥を求めかつ識別するために使用される。学習された感度プロフィール31の生成の際ないし使用の際に、この学習された感度プロフィール31は1つのロット中の異なる複数のウェハの測定値(複数)と比較される。1つの測定値が学習された感度プロフィール31を下回ったとき、1つのエラーないし欠陥が特徴付けられる。図3に示されたユーザインタフェース30はディスプレイ13に表示され、ユーザはキーボード14を介して所要の入力を行うことができる。ユーザは、第1のプロフィールフォーム31a、第2のプロフィールフォーム31b又は第3のプロフィールフォーム31cを選択した後、その選択したプロフィールフォームを、関数32と視覚的に比較しながら変化することができる。基準ウェハの半径方向関数32を考慮した半径に依存する感度プロフィール31の変化は、選択されたプロフィールフォームの少なくとも1つのパラメータが変化され、それによって、1つの学習された感度プロフィールが視覚的に規定されるようにして行われる。従って、ユーザは、実際の関数に対しその都度行われる感度プロフィール31の当て嵌めが十分であるか否かをディスプレイ上で視覚的に評価することができる。ユーザインタフェース30上には、ユーザのために、位置決めエレメント33が表示される。位置決めエレメント33の表示は、感度プロフィール31及び関数32のグラフィック表示の下方に配される。位置決めエレメント33の位置は、例えばマウス(不図示)を介して変更することができる。第2のプロフィールフォーム31b及び第3のプロフィールフォーム31cは、当該プロフィールフォームの他の部分とは異なる勾配を有する部分を少なくとも1つ有することができる。図3に示した実施例では、例えば、プロフィールフォーム31bは、互いに異なる勾配を有する2つの部分を有する。図3(の実施例)では、1つの部分から別の部分への移行部は、位置決めエレメント33の1つによって設定される。ディスプレイ13には、ユーザのために、感度プロフィール31を平滑化するための調整エレメント35が表示されている。更に、感度プロフィール31の感度に対する複数の更なる調整エレメント36がユーザのために表示されている。多数の調整エレメント33、35及び36によって、ユーザは、感度プロフィール31を関数32に適合化し、実行された変更をディスプレイ13上で観察し、その意義に関して評価することができる。ユーザインタフェース30では、ユーザは、更に、別の基準ウェハ(複数)の感度プロフィール(複数)を既に存在する学習された感度プロフィール(複数)に追加することを可能にする選択フィールド37を使用することができる。更に、ユーザは、1つの新たなウェハを基準ウェハとして使用し、この新たなウェハに対して1つの新たに学習された感度プロフィールを作成する手段を有する。入力フィールド38では、ユーザは、1つのウェハにおけるカラー変化に関する全般的調整(状態)についての情報を得る。この調整(状態)には、カラーシフトと、ヒストグラムからの偏差とが含まれる。選択フィールド39では、ユーザは、どのデータ選択が行われたか又は調整されたかを知ることができる。図3に示した実施例では、カラーシフトが選択されている。ユーザは、OKボタン34によって、自分の入力ないし調整を確定する。
【0017】
図4は、1つの学習された感度プロフィールを設定するためのパラメータを入力するためのユーザインタフェースの一例を示す。この実施例では、関数40として、ヒストグラムからのデータの半径方向偏差が表示されている。図4のユーザインタフェースの表示は、図3の表示に相当する。従って、同じコンポーネントには同じ参照符号が付されている。感度プロフィール41を半径方向関数40に適合化するために、勾配及び/又はレベルが互いに異なる3つの部分を有するプロフィールフォーム31cが選択されている。ユーザは、実際の関数に対してその都度行われる感度プロフィール41の適合化が十分であるか否かをディスプレイで視覚的に評価することができる。ユーザインタフェース30に表示される位置決めエレメント33は、個々の部分間の移行部(複数)の位置がマーキングされるように、ユーザによってシフトされる。位置決めエレメント33は、感度プロフィール41及び関数40のグラフィック表示の下方に表示される。更に、ユーザは、感度プロフィール41の感度のための複数の更なる調整エレメント36を使用することができる。多数の調整エレメント33、35及び36によって、ユーザは、感度プロフィール41を関数40に適合化し、実行された変更をディスプレイ13上で観察し、その意義について評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】ウェハ上の欠陥(複数)を検出するシステムの一例の模式図。
【図2】(a)は、1つのウェハの画像(複数)又は画像データ(複数)を撮像ないし記録する構成の一例。(b)は、1つのウェハの模式的平面図。
【図3】1つのウェハの表面におけるカラー変動のための感度プロフィールを設定するための、パラメータ入力のためのユーザインタフェースの一例。
【図4】ヒストグラムからのデータの半径方向偏差のための感度プロフィールを設定するための、パラメータ入力のためのユーザインタフェースの一例。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
撮像されたウェハの画像を評価する方法であって、以下のステップ:
・少なくとも1つの基準ウェハの画像を撮像すること、
・前記基準ウェハの測定値の半径方向分布を半径方向均一性関数として求めかつユーザインタフェースに表示すること、及び
・前記基準ウェハの前記半径方向均一性関数を考慮して、半径に依存する感度プロフィールを変更すると共に、該感度プロフィールの少なくとも1つのパラメータが変化されることにより、1つの学習された感度プロフィールが、該半径方向均一性関数との比較から視覚的に規定されること
を含むことを特徴とする方法。
【請求項2】
前記少なくとも1つの基準ウェハの前記学習された半径方向感度プロフィールと、少なくとも1つの別のウェハの均一性関数の測定された半径方向分布とを比較することにより、該少なくとも1つの別のウェハの欠陥(複数)を求めること、
その際前記均一性関数の前記測定された半径方向分布と、前記学習された感度プロフィールとの比較から1つの欠陥を求めること
を特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記(1つの)欠陥は、前記均一性関数の前記測定された半径方向分布が前記学習された感度プロフィールを下回ることによって求められ、かつ前記少なくとも1つの別のウェハの画像表示上に欠陥としてマークされること
を特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項4】
前記学習された感度プロフィールは、ウェハの中心までの距離に依存すること
を特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項5】
前記学習された感度プロフィールを求めるために、複数の異なるプロフィールフォームが、ユーザによって選択可能であること
を特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項6】
前記学習された感度プロフィールを求めるために、3つの異なるプロフィールフォームが、ユーザによって選択可能であること
を特徴とする請求項5に記載の方法。
【請求項7】
第1のプロフィールフォームは、ウェハ上の半径方向位置に依存しないこと
を特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の方法。
【請求項8】
第2のプロフィールフォームは第1の部分と第2の部分を有し、該第1の部分と該第2の部分の少なくとも1つは、その勾配が可変であること
を特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の方法。
【請求項9】
第1の部分、第2の部分及び第3の部分を有する第3のプロフィールフォームを有し、該第1の部分、該第2の部分及び該第3の部分の少なくとも1つは、その勾配が可変であること
を特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の方法。
【請求項10】
ウェハの半径方向均一性関数における感度プロフィールを調整するために、少なくとも1つのパラメータが変更可能であること
を特徴とする請求項1〜9の何れか一項に記載の方法。
【請求項11】
少なくとも1つのパラメータが、前記感度プロフィールの勾配の異なる2つの部分間の移行部の半径方向位置を規定すること
を特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項12】
1つのパラメータが前記感度プロフィールの1つのレベルを規定すると共に、前記感度プロフィールの少なくとも3つのレベルが調整可能であること
を特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項13】
前記レベルの調整は、それぞれ1つのスライダによって変更可能であること
を特徴とする請求項12に記載の方法。
【請求項14】
複数の学習された感度プロフィールが組み合わされること
を特徴とする請求項1〜13の何れか一項に記載の方法。
【請求項15】
1つの学習された感度プロフィールは、1つの新たに学習された感度プロフィールにより常時置換可能であること
を特徴とする請求項1〜13の何れか一項に記載の方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公表番号】特表2009−514191(P2009−514191A)
【公表日】平成21年4月2日(2009.4.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−519903(P2006−519903)
【出願日】平成16年5月11日(2004.5.11)
【国際出願番号】PCT/EP2004/050758
【国際公開番号】WO2005/006080
【国際公開日】平成17年1月20日(2005.1.20)
【出願人】(502124798)ヴィステック セミコンダクタ システムス ゲーエムベーハー (41)
【Fターム(参考)】