【課題】複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。
【解決手段】欠陥検査装置１は、試料の表面を撮像する撮像手段１３、撮像手段１３及び試料を相対移動させる移動手段１１、この相対移動により撮像手段１３で試料を２次元走査する走査制御手段４０、３個以上の基本パターン上で行われる反対向きの主走査を含む２回以上の主走査で得られる画像を格納する画像記憶手段２２、格納された画像のうち複数の基本パターンの対応部分を同一方向に向かって主走査して得られた画像を選択する選択手段２３、選択された画像間で比較を行い欠陥候補を検出する欠陥候補検出手段２４、欠陥候補がどの基本パターンにあるのかを決定する決定手段２５を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、画像処理による金属膜の形成された金属板等の物品の表裏判定能力を向上させることを課題とする。
【解決手段】本発明は、判定対象となる被判定物品（キャップ）Ｃの表裏いずれかの面を撮像手段８で撮影し、該撮像手段８により得られた画像データから被判定物品Ｃの領域を検出し、検出された被判定物品Ｃの領域内における画素の輝度の標準偏差を求め、その算出結果に基づいて前記被判定物品Ｃの表裏を判定することにある。 （もっと読む）

【課題】判別対象パターンが比較対象パターンに類似しているか否かを判別する濃淡パターン判別方法であって、明るさ変化に対してロバストであるとともに、パターン内の濃淡差が大きても小さくても、またパターン内に未知の濃淡異常や不良が含まれていても、類否を精度良く判別できるものを提供すること。
【解決手段】判別対象パターン、比較対象パターンの濃淡値に正規化処理を施して第１、第２の正規化濃淡値を生成する。第１、第２の正規化濃淡値を変数とし、かつ互いに直交する２つの座標軸とする２次元空間を設定する。その２次元空間に、判別対象パターンと比較対象パターン上の互いに対応する位置における第１、第２の正規化濃淡値が表す点を累積して、２次元ヒストグラムを作成する。２次元ヒストグラムをなす点の集合を少なくとも１つのクラスタに分類し、クラスタに関する形状、位置若しくは頻度に関する特徴に基づいて、判別対象パターンが比較対象パターンに対して類似しているか否かを判別する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の屈曲した被検査面や湾曲した被検査面に対して適正な照明を与えるとともに、従来技術の問題点を抑制する欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象物１の被検査面に明・暗・明パターンを作り出すべく被検査面を覆うように照明する円弧状照射面を有する照明手段２と、前記被検査面における明・暗・明パターンの暗部領域を撮像する撮像手段３と、前記照明手段と前記撮像手段とを一体的に保持する保持手段５と、前記保持手段と前記被検査面との相対位置を変更設定する位置決め手段６と、前記撮像手段によって取得された撮影画像における前記暗部領域から、画像処理を用いて前記被検査面上の欠陥を検出する欠陥検出手段７４とを備える欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】
本発明の特徴の１つは、検査装置において測定を行う第１の制御部と、過去の測定データ情報またはマップデータを読み出してデータ処理を行い、マップ上の欠陥位置や測定レシピなどを視覚的に伝えることのできる画面制御表示を並行して行える、第２の制御部を有することである。
【解決手段】
本発明によりウエハ測定中でも過去に検査した測定結果情報の探索，ウエハ上の異物分布の状態，キャリア単位での異物個数確認等が上位ホスト側の不良解析システムを操作することなく検査装置側で容易に実現することが可能となる。 （もっと読む）

宝石の査定、評価および等級づけのための装置（１０）は、宝石がその上で支持される台（１１）を有する。台は、光を透過しないハウジング（１５）において囲まれる。ハウジングに位置し、宝石上へ入射の光を投影するために適応する少なくとも１つの光源（１４）が存在する。入射光への宝石の配向性を変化させるために台を回転させて、傾けるための手段もまた存在する。デジタル・カメラ（１６）は、光源または各々の光源に隣接するハウジングに位置し、入射光の反射および／または屈折に基づき、宝石の画像を撮るために適応する。装置は、画像を調整し、分析するための情報処理手段も含む。その情報処理手段は、色、カット、クラリティ、閃光放射、輝度、光彩、波長分散および光沢の一以上を評価するための命令セットでプログラムされる。宝石は、その底面で宝石と係合する固定手段（１７）により台に支持される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、生産ラインにおいて疵無部の地合信号を正確に求め、判定閾値を正確に、且つ、効率よく設定することが可能な表面検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】走行する金属鋼帯の表面の疵を検出する表面検査装置であって
閾値演算部２は、前記画像信号から前記単位エリア毎の濃度ヒストグラムを求める濃度ヒストグラム演算部２ａと、濃度ヒストグラムのピーク位置を求め、当該ピーク位置を平均値とした場合の正規分布関数を想定し、当該ピーク位置近傍の濃度ヒストグラム度数から、想定した正規分布関数の標準偏差値を求める標準偏差演算部２ｂと、標準偏差値に対応する判定閾値を設定する閾値設定部３とを備え、標準偏差値に地合信号成分以外の疵信号成分が極力含まれないようにして判定閾値を求めるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の発生頻度が高くなったとしてもシステム全体のパフォーマンスを低下させることなく、適切に欠陥情報を提供することができるようにする
【解決手段】 カメラ装置１１で撮像されたシート状の物品の画像データを取得すると共に、その画像データに対して画像認識処理を行い、欠陥の有無を判断する検出ラック部２１と、検出ラック部で欠陥を検出した場合に、欠陥処理部２２を経て作成された検出された欠陥を含む画像情報からなる欠陥情報を表示装置３０に表示するとともに、記憶装置３１に格納するデータ処理部２３とを備える。検出ラック部は、欠陥の発生頻度を求め、その求めた発生頻度が、判定値より大きい場合には、画像情報からなる欠陥情報の出力を抑制する（データ処理部２３に渡さない）制限モードで動作する。 （もっと読む）

【課題】異物を感度よく検出することができる光学式の異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置を提供すること。
【解決手段】ステージ２上に水平状態に載置された被処理基板１と、前記基板１の幅方向に延びるスリット状吐出開口１１ｂを有する処理液供給ノズル１１とを相対的に移動させて処理液供給ノズル１１から帯状に吐出される処理液を、基板１の表面に塗布するように構成される。前記処理液供給ノズル１１の相対移動方向の前方に投光部５と受光部６からなる光透過形センサユニットが搭載されている。前記センサユニットの相対移動方向に沿って複数の検査エリアが設定され、異物の移動方向の履歴を追ってセンサユニットによる受光データを集計することで、異物に対する反応感度を向上させた光学式の異物検出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】欠陥検出に係るパラメータを容易に設定できる画像処理システムおよび当該パラメータの設定を支援する方法を提供する。
【解決手段】設定された計測領域３４２に対して、評価点（エレメント）が生成され、その各々についての欠陥度が算出される。さらに、算出された欠陥度に基づいて、Ｘ軸に沿った欠陥度のプロファイルおよびＹ軸に沿った欠陥度のプロファイルが算出される。これらの算出されたＸ軸およびＹ軸のそれぞれに沿った欠陥度のプロファイルが、計測領域３４２の近接した位置に、計測領域３４２のそれぞれＸ軸およびＹ軸に対応付けて表示される。プロファイル領域３４４には、判定条件設定エリア３９０において設定される欠陥度判定値を示す判定値ライン３４４Ｃが表示され、プロファイル領域３４６には、欠陥度判定値を示す判定値ライン３４６Ｃが表示される。 （もっと読む）

【課題】複雑環境下における任意位置の布検出を行う方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる布検出装置は、画像を取り込むカメラと、サンプル画像からしわ特徴を学習し、その学習結果とカメラによって取り込まれた測定対象物の入力画像から布領域の検出を行う演算装置と、しわ特徴の学習結果を記憶する記憶装置と、検出された布領域を表示させるディスプレイとを備えたものである。このような構成により、複雑環境下における任意位置の布検出を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】検査対象について所定の画像生成手段により生成された検査画像を検査することにより検査対象の表面に存在する欠陥を検出する画像検査において、撮像画像に現れる明度ムラに起因するノイズの影響を低減する。
【解決手段】画像検査装置１は、検査対象２に関する所定の画像５１中の欠陥有無の判定の対象となる検査画素６０と、その周囲にある複数の画素６１〜６８のうち検査画素６０と最もグレイレベル値が近い画素との間のグレイレベル差である最小グレイレベル差を検出する最小グレイレベル差検出部（２１、２２、２５、２６）と、最小グレイレベル差が所定の検出閾値を超えるとき画素６０の位置に欠陥が存在すると判定する欠陥検出部２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させる
【効果】
より微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】 複数の受光器を備えた異物検査装置において、異物のみを正確にかつ漏れなく検査可能とする。
【解決手段】
本発明の異物検査装置は、被検物の表面に投光された光の表面における散乱光を受光する第１及び第２の受光器が出力する信号の強度分布に基づいて異物の有無を判定する制御器を備える。前記制御器は、第１の受光器の仮の第１走査開始位置に対する第２の受光器の仮の第２走査開始位置の位置関係を変更しながら異物検査を複数回行わせ、複数回の異物検査のそれぞれについて、第１の受光器が出力する信号の強度分布と第２の受光器が出力する信号の強度分布との重なり度合いを算出し、重なり度合いが最大である仮の第１走査開始位置と仮の第２走査開始位置との位置関係に基づいて、被検物の表面を検査するための第１及び第２の受光器それぞれの走査開始位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置のメモリマット部の最周辺部や、繰り返し性の無い周辺回路まで高感度に欠陥判定できる検査技術を提供する。
【解決手段】
繰り返しパターンを有する複数のダイで構成された回路パターンの画像を取得する画像検出部、取得した検出画像について、繰り返しパターンの領域とそれ以外の領域とに応じて加算対象を切り替えて参照画像を合成し、検出画像と比較して欠陥を検出する欠陥判定部、検出された欠陥の画像を表示する表示装置を備える。 （もっと読む）

【課題】 光学的手法を用いて、リチウムイオン電池等の電極用素材表面上の異物を検出し、迅速に形状や大きさを判定する。
【解決手段】ローラで搬送される電極用素材に対して、搬送方向上流から下流方向に斜め上方から第１照明装置によって光を照明し、その散乱光の画像データ１を得る。同じ測定部位に対して、搬送方向下流から上流方向に斜め上方から第２照明装置によって光を照明し、その散乱光の画像データ２を得る。画像データ処理装置では、得られた２種類の輝度分布のデータを重畳した総合画像データと、画像データ１、２とを比較して異物の形状の種類を判定するので、短時間で形状の種類判定ができ、高速で搬送される電極用素材の異物検査の精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】同一の基板において微小異物の検出と成分分析を行うことができる異物検出方法を提供する。
【解決手段】光学式異物検査装置１３、電子ビーム照射装置１４、水蒸気供給ユニット１５及び圧力制御バルブ１７を備える異物検出装置１０において、ウエハＷの温度及び該ウエハＷの表面を取り巻く雰囲気中の水蒸気圧を制御することによってパーティクルＰの周りに選択的に水分を結露させ、その後、ウエハＷの温度を低下させながら、上記水蒸気圧がウエハの表面にパーティクルが付着していない場合の飽和蒸気圧曲線を越えないように制御して結露した水分から氷の結晶Ｔを発生・成長させ、ウエハＷの表面を光学的に検査し、検査対象のパーティクルＰの位置を特定し、氷の結晶Ｔを蒸発させて除去し、さらに、特定されたパーティクルＰの成分をエレクトロンビームを用いて分析する。 （もっと読む）

【課題】検出された欠陥が擬似欠陥であるか否かを精度よく判定する欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】被検査対象物の画像を比較することによって欠陥を検査する画像比較検査部１と、あらかじめ登録された擬似欠陥画像を記憶する擬似欠陥画像記憶部２と、画像比較検査部で検出された欠陥について、擬似欠陥画像記憶部に記憶された擬似欠陥画像と比較し、上記欠陥が擬似欠陥であるか否か判定を行う擬似欠陥判定部３とを備える。あらかじめ登録された擬似欠陥と画像を比較することにより、擬似欠陥であるか否か判定しているので、画像比較検査部で検出された欠陥が本来欠陥と判断されるべきではない擬似欠陥であるか否かを精度よく判定することができる。 （もっと読む）

【課題】はんだ付け部位および部品本体がともに明瞭で、両者間の実際の明るさの関係を反映した検査用画像を生成する。
【解決手段】検査の前に、部品本体の撮像に適した照明条件Ａと、はんだ付け部位の撮像に適した照明条件Ｂとを設定し、各照明条件下での画像の輝度比を求め、登録しておく。検査では、各照明条件Ａ，Ｂを順に設定して条件毎に撮像を行った後、照明条件Ａによる画像（ラインＬ_Ａ）のうちの飽和レベルに達している画素を、照明条件Ｂによる画像（ラインＬ_Ｂ）の対応画素のデータと登録された輝度比との乗算値に置き換えることにより、飽和レベルの画像データを本来の明るさを表す画像データ（ラインＬ_Ｃ）に変換する。その後は、ラインＬ_ＡおよびラインＬ_Ｃに対応する画像を用いて、部品本体およびはんだ付け部位に対する検査を実行する。 （もっと読む）

【課題】本発明はプラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体に紫外線を照射し、蛍光体から発光させた光をカメラ等により撮像することで蛍光体の塗布品質を検査する装置において、ラインセンサカメラを用い、カメラと紫外線照明を移動させながら撮像する蛍光体検査装置にて、プラズマディスプレイのＲ、Ｇ、Ｂ塗布領域間の隔壁に乗上げた蛍光体を容易に検出することを目的とした蛍光体検査装置で有る。
【解決手段】本発明は上記の目的を達成するために、蛍光体塗布領域のエッジ部を検出することにより、隔壁位置を抽出し、隔壁頂部の輝度を積算することで、隔壁上部に乗り上げた微量の蛍光体発光剖分を強調し、隔壁の乗り上げ輝度画像を作成し、隔壁上部に乗り上げた蛍光体塗布欠陥の検出を容易にすることである。 （もっと読む）