【課題】
本発明は、効率良く擬似欠陥を抑制し、高い検出感度で欠陥検出可能なレチクル検査を実現する。
【解決手段】
レチクル検査方法において、レチクル設計データから生成されたレチクル検査用の検査データを取り込む。レチクルの描画位置精度測定データを取り込んで、レチクルの位置精度成分を補正する第１の補正量を求める。第１の補正量に基づいて、検査データを補正する。補正後の検査データに基づいて、レチクル上の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 検査時間を短縮することができる欠陥検査装置、欠陥検査方法及び欠陥検査プログラムを提供すること。
【解決手段】 被検物６の画像を撮像する撮像手段４と、前記被検物６の画像から前記被検物６の輪郭を抽出する輪郭抽出手段１２と、記憶手段１３に記憶された前記被検物６の図面データと、前記被検物６の輪郭の輪郭データと前記図面データとの差から前記被検物６の欠陥を検出する欠陥検出手段１２とを有することを特徴とする欠陥検査装置１００。 （もっと読む）

【課題】 周波数の高いサンプリングにより、メモリの増加をさせることなく、連続性のデータを利用することで、塊状の異物や小さな異物の孤立検出を可能にする。また、スキャン方向の連続データを用いて、送り方向での位置情報から重なりを判定することで、送り方向の連続性の判断も可能にする。
【解決手段】 検出光を検査対象物の表面に照射するとともに、検査対象物の表面から反射した散乱光を受光し、その間に、検出光を螺旋状に走査させることにより、検査対象物の表面上の異物を検査する表面検査方法において、検出光を所定方向に走査させていくとき、異物の散乱信号がスレッショルド信号を越えたら、そこをスタート点として記憶し、その後、異物散乱信号がスレッショルド信号を下回ったら、そこをエンド点として記憶し、スタート点とエンド点との間で異物散乱信号が最も大きかったところをピーク値として記憶する表面検査方法。 （もっと読む）

【課題】籾摺り処理を行う前の生籾の状態で、斑点着色等の被害粒を非破壊的に検出可能な生籾被害粒の非破壊判定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】籾の一側面に光を照射し、前記籾を透過した透過光から得られる透過光画像を得て、前記透過光画像の平均輝度値及び／又は検出画素数を算出し、前記透過光画像の平均輝度値及び／又は検出画素数を予め設定された閾値と比較して被害粒か否かを判定する方法であるため、生籾の状態で内部の斑点着色粒等の被害粒を非破壊的に判定することが可能である。また、収穫直後或いは流通前に品質判定を行うことにより高品質米を確保することができ、商品の差別化を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 被検査面に特定パターンの検査光を照射する照明部と、照射された被検査面を撮像する撮像部とからなる撮像ユニット、被検査面を撮像ユニットに対して相対移動させる搬送機構、及び、得られた撮像画像に基づいて被検査面の欠陥を検知する欠陥検知手段を備えている表面検査装置を、比較的大きな寸法の欠陥でも欠陥として捕え易いように改良する。
【解決手段】 欠陥検知手段が、撮像画像における孤立した高輝度領域を欠陥候補と判定する孤立点抽出部を備え、検査光の所定パターンが、所定寸法の暗部Ｄと、暗部Ｄを外周から包囲する明部Ｌとからなる単位発光面Ｕを相対移動の方向と交差する方向に多数隣接配置した発光面列ＦＲと、発光面列と平行に連続的に延びた列状暗部ＤＲとを有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 欠陥が許容内にあるか否かをより正確に判定し得る外観検査方法および装置を提供する。
【解決手段】 被検査体１１ａの画像２１Ａの検査領域上からテンプレート（２１Ａ）との比較によって抽出された欠陥が許容内か否かを判定することを含む外観検査方法。検査領域が互いに許容度ａ、ｂ、ｃを異にする複数のエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃに区画される。検査領域上で抽出された一つの欠陥部位２７が互いに許容度を異にする複数のエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃ上にわたって存在するとき、欠陥部位２７の各エリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃ上に存在する欠陥部位部分２７ａ、２７ｂ、２７ｃ毎に、該欠陥部位部分が存在するエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃの許容度ａ、ｂ、ｃに基づいて該欠陥部位部分の欠陥が許容内であるか否かの予備判定を受ける。それら予備判定の結果に基づいて欠陥部位２７の欠陥が許容内であるか否かの判定を受ける。 （もっと読む）

【課題】 欠陥が許容内にあるか否かをより正確に判定し得る外観検査方法および装置を提供する。
【解決手段】 被検査体１１ａの画像２１Ａの検査領域上からテンプレート（２１Ａ）との比較によって抽出された欠陥が許容内か否かを判定することを含む外観検査方法。検査領域が互いに許容度ａ、ｂ、ｃを異にする複数のエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃに区画される。検査領域上で抽出された一つの欠陥部位２７が互いに許容度を異にする複数のエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃ上にわたって存在するとき、欠陥部位２７の各欠陥部位部分２７ａ、２７ｂ、２７ｃが存在するエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃの許容度を示す閾値ａ、ｂ、ｃのうち、最も厳しい条件を与える閾値ａに基づいて欠陥部位２７の欠陥が許容内であるか否かの判定を受ける。 （もっと読む）

【課題】 従来、塗装面欠陥を検出する場合には、２値化処理画像において塗装面に付着したゴミや傷等もブツ欠陥と同様に白画素の孤立点として表れていたため、ブツ欠陥として検出されるべき部分のみならず、塗装面に付着したゴミや傷等をもが特異点として捉えられ、ブツ欠陥であると判断される、過検出が発生することとなっていた。
【解決手段】 塗装面１１に照射された光の反射光を撮像し、撮像した画像を用いて塗装表面の欠陥を検出する塗装表面欠陥検出方法であって、撮像画像を２値化処理し、２値化処理した撮像画像における高輝度部と低輝度部との境界線を検出し、検出した境界線１８で囲まれた閉空間領域を抽出し、抽出した閉空間領域内に、該閉空間領域外の輝度と同じ輝度を有する特徴点１９が存在するか否かを検出し、閉空間領域内における特徴点１９の有無に基づいて塗装面の欠陥の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】コンベヤ上を直立して搬送される無地容器の側面部の汚れ及び白化、並びにつぶれ等の容器変形を、容器の形状や材質等の特性及び照明条件等の検査条件に係わり無く、高い検査精度で効率よく検査する方法を提供する。
【解決手段】選定した複数の良品容器Ｂの側面検査部を、被検査容器ＢＫの側面部の検査と略同じ条件で撮像して良品画像データとして取込み、前記良品画像データをデータ処理して側面検査部の各画素の輝度閾値を予め設定する。そして、コンベヤ１１上を搬送される被検査容器ＢＫの側面検査部を撮像してデータ処理した被検査画像データの各画素の被検査輝度データを、対応する位置の各画素の前記輝度閾値とそれぞれ比較して、側面検査部の汚れ及び白化、並びに容器変形に起因する輝度の異常を検査して不良容器を検出する。 （もっと読む）

【課題】 記録材に依存しない安定した画質を得ること。
【解決手段】 反射用LED３０１による測定を行い、次に透過用LED３０２による測定を行う。この二つの測定結果を映像比較演算し、この映像比較演算結果に基づき紙種を判定する。判定された紙種によって定着処理条件を変更し、記録材の搬送を開始する。記録材を搬送させながら映像読取センサ123によって撮影された映像を映像比較演算し、汚れ量を算出する。記録材が移動しているため記録材の表面性が平均化される。しかしながら汚れによる光量の低下は記録材の挙動には依存しないため、汚れによる光量低下のみ映像読取装置の出力信号の低下として現れる。この信号低下を上述の第２の演算手段である記録材表面の凹凸エッジ量検出方法で処理することにより、汚れの量を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】対象物の濃淡ムラを検査するムラ検査において、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上する。
【解決手段】基板９に塗布されたレジストの濃淡ムラを検査するムラ検査装置１では、基板９の撮像画像が圧縮された後にローパスフィルタ処理が行われ、さらにハイパスフィルタ部４２１４によりハイパスフィルタ処理が行われる。ハイパスフィルタ部４２１４では、ハイパスウィンドウがエッジ近傍に存在する場合には、ハイパスウィンドウが縮小されてフィルタ処理による画素値算出の対象となる注目画素が属する領域以外の領域を避ける。このように、ムラ検査装置１では、ハイパスフィルタ処理に利用される画素群を、ハイパスウィンドウ内の画素、すなわち、実質的に注目画素が属する領域内の画素に制限することにより、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】 設計データから高い近似度を持って参照データを高速で作成することができ、検査精度及び検査速度の向上をはかる。
【解決手段】 設計データから参照データを作成する際に、画素を分割したサブ画素単位で、多角形により表わされる図形データをライン方向に走査して求めた交点の座標で定義される走査リスト若しくはサブ画素単位のビットマップを生成し、試料の透過率や位相分布に応じた像強度分布を部分コヒーレント結像の物理モデルに基づいて計算する。 （もっと読む）

【課題】積層リングＷ側縁の擦り痕や打痕等を正確に検査できる方法と前記検査に用いる装置とを提供する。
【解決手段】積層リングＷを回転させながら、径方向に押圧し、油を側縁に滲出せしめて除去する。油を除去した後、積層リングＷを回転させながら、該側縁に付着している固形物を除去する。積層リングＷの側縁を撮像し、得られた画像を処理して検査を行う。積層リングＷを回転させる第１の回転手段２，３と、積層リングＷを径方向に押圧する押圧手段６と、滲出した油を除去する油除去手段８と、第２の回転手段１２と、積層リングＷの側縁を撮像する撮像手段１６と、撮像手段１６により得られた画像を処理して積層リングＷの側縁の検査を行う画像解析手段１７とを備える。油が除去された積層リングＷを回転させる第３の回転手段１２と、回転自在に設けられた第１の固形物除去手段１３と、固設された第２の固形物除去手段１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査の目的に応じてバンプを検査する。
【解決手段】第１光源３２ａ及び第２光源３２ｂが３０度の仰角に設定されるとともに、第３光源３３ａ及び第４光源３３ｂが４５度の仰角に設定される。第１光源３２ａ及び第２光源３２ｂによってワークが照射されバンプの影がワーク上に投影されると、ＣＣＤカメラ３１によってワークの表面が撮像されるとともに、バンプの影を含む画像信号が出力される。バンプの影のみが抽出された二値化画像信号が二値化画像が隣接するバンプに干渉しているか否かを判定し、二値化画像で干渉していると判定された場合、第３光源３３ａ及び第４光源３３ｂによってワークが照射されバンプの影がワーク上に投影される。 （もっと読む）

【課題】
所定のディザパターンを用いて印刷装置で印刷された印刷画像に生じるドットゲイン特性を簡易に評価することができるようにした印刷画像の評価方法および装置を提供する。
【解決手段】
複数の基準点マーカと該基準点マーカの間に所定のドット間隔で描かれた複数の分割マーカを有するとともに基準点マーカの位置により特定される計測ブロックを有する印刷画像を印刷装置で印刷し、該印刷装置で印刷した印刷画像を該印刷装置の解像度よりも高い解像度で読み取り、該読み取った印刷画像の読取画像から基準点マーカを判別することにより計測ブロックを特定するための基準点を抽出するとともに、読取画像から分割マーカを判別することにより記計測ブロックの画像を画素毎に分割するための骨格線を抽出し、該抽出した基準点および骨格線に基づき読取画像に含まれる計測ブロックを画素単位に分割し、該分割された読取画像に含まれる計測ブロックの濃度を画素単位で測定する。 （もっと読む）

【課題】光源装置及び撮像装置のレンズの清掃並びに、光源装置の交換における無駄を防止することができる熱可塑性接着剤検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性接着剤検査装置１は、熱可塑性接着剤４０及び４１に光を照射する光源装置３ａ及び３ｂと、熱可塑性接着剤４０及び４１からの反射光を撮像する撮像装置４ａ及び４ｂとを備えた熱可塑性接着剤検査装置において、
撮像装置４ａ及び４ｂから送られてきた画像データを処理し、熱可塑性接着剤部と背景部の輝度の比率を算出する画像処理装置５ａ及び５ｂと、前記比率を予め設定された値と比較することにより、光源装置３ａ及び３ｂ並びに撮像装置４ａ及び４ｂの汚れを判定する判定装置７ａ及び７ｂを有する。 （もっと読む）

【課題】 画像の領域分割処理の信頼性を高める。
【解決手段】 画像内の少なくとも一部の領域である処理対象領域に対して、第１種のエッジ検出処理を実行することにより画素値の段差の位置を表す段差位置エッジを検出する。この段差位置エッジを利用することにより、処理対象領域を複数の閉領域に分割する。また、処理対象領域に対して、画素値に応じた領域分割処理を実行することにより、処理対象領域を複数の色領域に分割する。そして、複数の閉領域の中から、複数の色領域のうちの特定の色領域内に包含される１つ以上の閉領域を抽出することにより、画像から一部の領域を抽出する。 （もっと読む）

【課題】極紫外線（ＥＵＶ）光マスク・ブランクにおける欠陥の有無を判定する。
【解決手段】マスク・ブランクの層における異常によって散乱又は拡散された入射ＥＵＶ光を測定、正規化、閾値との比較を行うことにより欠陥の存在の有無及びその場所を判定する。正規化は画素についての光強度値を周囲画素から成る１つ以上のリングについての光強度値の平均によって除算することによって行う。欠陥は、画素についての該正規化強度値が画素閾値よりも大きいか否かを考慮して判定する。 （もっと読む）

【課題】
すり板側面のみが摩耗しておりすり板上面が摩耗していない場合、その部分のエッジを測定しすり板の厚さにすると、すり板の幅方向に連続して摩耗している本来求めたいすり板の厚さと異なってしまう。
【解決手段】
平滑化処理を行い、すり板側面のみが摩耗しておりすり板上面が摩耗していないすり板のエッジは検出しないようにし、その後、検出したすり板のエッジ上部とエッジ下部の輝度を測定し、輝度差が所定値以内の場合に荒損と判定する機能を設けた。 （もっと読む）

【課題】
透過像と反射像とに基づいて正確に異物検査を行うことができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、落射照明光源２１と、落射照明光源２１からの光を集光してフォトマスク３３に出射するレンズ３２と、レンズ３２から出射した光のうち、フォトマスク３３で反射した反射光をレンズ３２を介して検出する反射側センサ４４と、透過照明光源１１と、透過照明光源１１からの光を集光してフォトマスク３３に出射するレンズ１６と、レンズ１６からフォトマスク３３に出射した光のうち、フォトマスク３３を透過した透過光をレンズ３２を介して検出する透過側センサ４３とを備え、落射照明光源からの光と透過照明光源からの光とがレンズ３２の視野の一部の異なる位置を通過するものである。 （もっと読む）