【課題】電流値が変化しても脈動電流比を許容範囲内に収めることができる電磁石用直流電源装置を得ることを目的とする。
【解決手段】電源１からの電流をスイッチング駆動して出力するチョッパ回路２と、チョッパ回路の出力を平滑化するパッシブフィルタ３と、電流指令値ＶＳに出力電流が合致するように、スイッチング駆動の駆動を制御する電流制御回路５と、を備え、電流制御回路５は、出力電流Ｓ４２の電流指令値ＶＳからの偏差成分Ｓ５６を算出する偏差成分算出部（５４〜５６）と、電圧値Ｓ４１から脈動成分Ｓ５３を算出する脈動成分算出部（５１〜５３）と、脈動成分Ｓ５３と偏差成分Ｓ５６とに基づいて、スイッチング駆動を制御するゲート信号ＳＧを生成する駆動制御信号生成部（５７〜５９）と、を有し、脈動成分Ｓ５３は、電圧値Ｓ４１のうちの交流成分Ｓ５１を電流値Ｓ４２で除した値に基づいて算出する。 （もっと読む）

【課題】カソード電極、高周波増幅器および加速器を自動でエージングする。
【解決手段】エージング装置２００は、設定値テーブル２３０を記憶するパラメータ記憶部２１６と、設定値テーブルに基づいて初期値から定格値まで段階的に設定値を変更するパラメータ設定部２５０と、パラメータ設定部が変更した設定値に基づいて、電力供給部による電力供給処理を制御する電力制御部２５２と、各ユニットのうちの少なくとも１つのユニットにおいて、予め設定されたエラー判定条件を満たしたか否かを判定するエラー判定部２５４と、エラー判定条件を満たしたと判定されると、電力供給部による電力供給処理を停止させる停止処理を実行する停止制御部２５６と、を備え、パラメータ設定部は、停止処理が実行された場合に、パラメータの設定値を、停止処理の実行時における設定値よりも前段階のいずれかの設定値に変更する。 （もっと読む）

【課題】アンテナの指向性を制御して複数の監視対象部位を監視し異常発生箇所を特定できる電気機器の異常監視装置を得る。
【解決手段】電気機器の複数の高電圧発生部又は高電圧印加部での絶縁異常により発生する部分放電に伴う電磁波を検出する複数のパッチアンテナを有するアレーアンテナ２０と、パッチアンテナに接続されパッチアンテナの出力の位相をシフトする位相変換器６３と、位相変換器６３の位相シフト量を複数の高電圧発生部又は高電圧印加部のそれぞれの複数のパッチアンテナからの方向に応じて制御する制御器６４と、位相シフト量が制御されたパッチアンテナの出力を含む複数のパッチアンテナの出力を合成する合成器６５とを備え、合成器６５の出力を基に複数の高電圧発生部又は高電圧印加部のそれぞれの絶縁異常を検出する。 （もっと読む）

【課題】周辺ノイズを抑制して監視対象部位の部分放電を高感度に検出する加速器装置を得る。
【解決手段】高電圧発生部及び高電圧印加部を有する加速器装置において、高電圧発生部又は高電圧印加部に対向させてアレイアンテナを設け、前記アレイアンテナで高電圧発生部又は高電圧印加部での絶縁異常により発生する部分放電に伴う電磁波を検出して異常検出を行なうようにした。アレイアンテナは複数のパッチアンテナで構成したパッチアレイアンテナである。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高いビームの位置ずれ検出を行うと共に、一部のビーム位置モニタが故障でもビームの位置ずれ検出を可能とする。
【解決手段】シンクロトロンから複数の照射室にビームを導入する複数の照射コース毎に、それぞれビームの位置ずれを検出するビーム位置モニタを設置する粒子線治療装置のビーム位置ずれ検出装置であって、各照射コース毎にビーム位置モニタを複数個設置し、各照射コースの各ビーム位置モニタ毎にビームの位置ずれを測定しビームの位置ずれを判定し、各照射コースの複数のビーム位置モニタの判定結果を基に該当照射コースのビームの位置ずれを判定する。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療装置を構成するいずれかの装置が故障しても、照射室を使用可能とする冗長化粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 粒子線を発生させる入射器を制御する入射器制御装置１には、粒子線を加速させる加速器を制御する加速器制御装置２が接続され、加速器制御装置２には患者へ粒子線を照射する照射室を制御する複数の照射室制御装置３、４、５が接続され、さらに複数の照射室制御装置３、４、５には、それぞれ照射室制御装置を制御する制御ＰＣ６、７、８が接続され、いずれかの制御ＰＣが故障したとき、その制御ＰＣが接続されていた照射室制御装置は他の制御ＰＣに接続されるように、各制御ＰＣは、接続先の照射室制御装置を切替える指示を行う切替スイッチと、全ての照射室制御装置への接続パラメータとを有するものである。 （もっと読む）

【課題】挿入光源の永久磁石列に接触する電子ビームのハロー部の強度を高い応答速度で高感度に検出することができる電子ビーム検出器を備えた挿入光源装置を提供する。
【解決手段】本発明の挿入光源装置は、ギャップ空間を介して対向配置された一対の永久磁石列を備え前記永久磁石列間に挿入された電子ビームに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させる挿入光源と、前記電子ビームの強度を検出する電子ビーム検出器を備え、前記電子ビーム検出器は、半導体板と、前記半導体板を挟んで配置され且つ前記電子ビームの入射側から見て互いに重なる重なり部分を有する第１及び第２電極を備え、前記重なり部分は、前記永久磁石列の前記ギャップ空間側の面を含む平面の近傍に配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療施設の安全な運転及び粒子線の照射場所へ粒子線を確実に供給を装置を提供する。
【解決手段】粒子を加速し少なくとも２つの照射場所へ粒子を供給するための加速器ユニット３及び粒子線供給ユニット５と、照射に必要なパラメータを設定及び制御する加速器制御ユニット３１と、粒子線を要求する照射場所に至る加速器ユニット３及び粒子線供給ユニット５内の粒子線経路に沿った正しい粒子線案内を確保および監視するための割当ユニット３５とを備えた粒子線治療施設１において、加速器ユニット３及び粒子線供給ユニット５は、粒子線経路の設定可能な少なくとも１つの要素を有し、この要素は、少なくとも１つの設定パラメータを伝達するために加速器制御ユニット３１に接続され、直接的かつ固定的に割当てられた信号接続手段を介して少なくとも１つの活性化信号を受信するために割当ユニット３５の信号出力部に接続される。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療施設の安全運転および特に粒子線を要求する照射場所への粒子線の確実な供給を保証する。
【解決手段】粒子を加速し少なくとも２つの照射場所へ粒子を供給するための加速器ユニットおよび粒子線供給ユニットと、正しい粒子線案内を確保および監視するための割当ユニットとを備え、少なくとも２つの照射場所のうちの少なくとも１つの照射場所が制御ユニットを有し、制御ユニットは、第１の固定的に割当てられた信号接続手段を介して直接的に割当ユニットの信号入力部に接続され、かつ信号接続手段を介して照射過程のための粒子線を要求する要求信号を出力するように構成されていることにより、信号入力部へ要求信号の印加が粒子線を要求する照射場所を一義的に決定する。 （もっと読む）

【課題】医療用加速装置における改善された機能監視を可能にする方法を提供する。
【解決手段】医療用加速装置における機能監視のための方法において、少なくとも１つの医療用加速器の動作を定性的に特徴づける少なくとも１つの信号が、自動的に検出されてディジタル化され、ディジタル化された形で後続のコンピュータ支援による加速装置機能検査の枠内での評価のために提供すべくデータ処理装置に保存される。 （もっと読む）

【課題】加速された荷電粒子ビームを照射対象に照射する前に荷電粒子ビームのエネルギーを確認できる粒子線治療装置を提供することにある。
【解決手段】ビーム位置モニタ２０がシンクロトロン３に設けられ、空胴電圧モニタ１８が加速空胴１０に設けられる。シンクロトロン３内を周回するイオンビームは、加速空胴１０への高周波電圧の印加によって加速され、高周波印加装置６への高周波電圧の印加により出射される。周波数計測装置１９は空胴電圧モニタ１８が検出した空胴電圧信号を用いて加速空胴１０に印加される高周波電圧の周波数を計測する。ビーム軌道信号処理装置２１はビーム位置モニタ２０で検出した電圧を用いてビーム軌道の位置を計測する。エネルギー判定処理装置２６は高周波電圧の周波数及びビーム軌道の位置に基づいて加速終了後のイオンビームのエネルギーが正常であるか異常であるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】
患者の体内の深さ方向におけるビームの照射位置ずれを抑制することにある。
【解決手段】
エネルギー補正装置２７は、ビーム加速終了時の加速高周波信号の周波数Fmesと目標周波数Fdesの差が許容範囲±Ferr内にある場合、周波数Fmesを目標周波数Fdesにするための時間的に滑らかな変化の補正周波数データを逐次算出する。高周波制御装置２４は、これらの補正周波数データを、逐次、高周波発振器１１に設定する。高周波発振器１１は、それらの補正周波数データに基づいて出力した周波数の高周波信号を、逐次、シンクロトロン３に設けた加速空胴１０に印加する。このため、シンクロトロン３内を周回するビームのエネルギーが、加速後の目標エネルギーに一致する。目標エネルギーになったビームが、シンクロトロン３から出射されて照射野形成装置１６から患者に照射される。 （もっと読む）

【課題】
給電ループの両端にそれぞれ接続された高周波増幅装置のうちの一方が故障した場合であっても高周波信号が供給できる。
【解決手段】
外導体５内に挿入された一対の内導体４を取り囲むように、複数の磁性体コア６を配置する。金属板１６を外導体５内面に取り付けてそれらを電気的に接続する。金属板１６の両面にそれぞれ磁性体コア６が設置される。磁性体コア６の孔部を貫通する給電ループ
１１が外導体５内に配置される。給電ループ１１の両端は、それぞれ同軸線１０を介して高周波増幅器１３ａ，１３ｂに接続される。高周波増幅器１３ａから給電ループ１１の一端に供給される高周波信号と、高周波増幅器１３ｂから給電ループ１１の他端に供給される高周波信号とは、位相が１８０度異なっている。 （もっと読む）

【課題】
ビーム出射停止信号が出力されてから、加速器からの荷電粒子ビームの出射が停止されるまでに時間を要する場合であっても、照射対象の線量分布をより均一化する。
【解決手段】
シンクロトロン１２と、走査電磁石５Ａ，５Ｂを有し、シンクロトロン１２から出射されたイオンビームを出力する照射装置１５と、照射装置１５からのイオンビームの出力をビーム出射停止信号に基づいて停止させ、イオンビームの出力を停止した状態で、走査電磁石５Ａ，５Ｂを制御することによりイオンビームの照射位置を変更させ、この変更後に、照射装置１５からのイオンビームの出力を開始させ、ビーム出射停止信号を起点とした積算照射量の増分が、予め記憶された設定照射量に達したことに基づいて次のビームの出射停止信号を出力する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 装置の大型化を回避しながら、高電圧発生部と密閉容器との間の耐電圧の確保を図ることができ、更には、加速部構造の簡素化をも図ることができる高電圧発生回路の絶縁方法及び荷電粒子加速器を提供する。
【解決手段】 高電圧発生部２０，２１と、荷電粒子を加速する加速部１９Ａ，１９Ｂとが、それぞれ密閉容器１８の内部空間に配置されており、加速部１９Ａ，１９Ｂが高電圧発生部２０，２１と密閉容器１８の内壁との間に配置された荷電粒子加速器３０に用いられ、密閉容器１８の内部空間を、荷電粒子が通る加速部１９Ａ，１９Ｂの内部と同一の真空度に維持して、高電圧発生部２０，２１と密閉容器１８との間を電気的に絶縁する。 （もっと読む）

【課題】異なる照射方式の照射装置を有する場合であっても、照射精度及び安全性を確保
する。
【解決手段】荷電粒子ビームを照射対象に対して出射する荷電粒子ビーム出射装置におい
て、
荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビーム発生装置１と、荷電粒子ビームを照射対象に
照射する、散乱体方式の照射装置３ｐ及びスキャニング方式の照射装置３ｓと、荷電粒子
ビーム発生装置１から出射された荷電粒子ビームを２つの照射装置３ｐ，３ｓのうちの選
択された１つの照射装置へ輸送するビーム輸送系２と、荷電粒子ビーム発生装置１の運転
条件を、選択された照射装置の照射方式に応じて変更する中央制御装置２３とを備える。 （もっと読む）

【課題】
稼働率を向上できる粒子線照射システムを提供することにある。
【解決手段】
陽子線ライナック１から出射されたイオンビームは、スイッチング電磁石５によって
９０度偏向され、ビーム輸送系９を経てＲＩ製造装置１０に導かれる。ＲＩ製造装置１０内ではそのイオンビームによってＲＩが製造される。陽子線ライナック３からのイオンビームは、スイッチング電磁石５によって９０度偏向され、ビーム輸送系６を経てシンクロトロン７に導かれる。シンクロトロン７から出射されたイオンビームは照射装置１２から患者に照射される。陽子線ライナック３が異常状態になった場合には、その運転を停止して保守点検を行う。このとき、陽子線ライナック１から出射されたイオンビームは、スイッチング電磁石５によってＲＩ製造装置１０およびシンクロトロン７に交互に導かれる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム発生による粒子線治療装置において、照射対象でない治療室への誤ったビーム輸送を未然に防止し、安全性を向上をさせる装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置１と、照射装置１５Ａ〜Ｃ，１６を備えた複数の治療室２Ａ〜Ｃ，３と、出射されたビームをビーム進行方向下流側へ輸送する１つの第１ビーム輸送系４と、これから分岐するように設けられビームを複数の治療室２Ａ〜Ｃ，３のうち対応するものの照射装置１５Ａ〜Ｃ，１６へそれぞれ輸送する複数の第２ビーム輸送系５Ａ〜Ｄと、その分岐部にそれぞれ設けられ、第１ビーム輸送系４からのビームを偏向して対応する第２ビーム輸送系５Ａ〜Ｄへ導入する複数の切替え電磁石６Ａ〜Ｃと、切替え電磁石６Ａ〜Ｃより下流側に設けられ、ビーム進行経路を遮断する第１シャッタ７Ａ〜Ｄとを有する。 （もっと読む）

【課題】照射対象でない治療室への誤ったビーム輸送を未然に防止し、安全性を向上する。
【解決手段】荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置１と、照射装置１５Ａ〜Ｃ，１６を備えた複数の治療室２Ａ〜Ｃ，３と、出射されたビームをビーム進行方向下流側へ輸送する１つの第１ビーム輸送系４と、これから分岐するように設けられビームを複数の治療室２Ａ〜Ｃ，３のうち対応するものの照射装置１５Ａ〜Ｃ，１６へそれぞれ輸送する複数の第２ビーム輸送系５Ａ〜Ｄと、その分岐部にそれぞれ設けられ、第１ビーム輸送系４からのビームを偏向して対応する第２ビーム輸送系５Ａ〜Ｄへ導入する複数の切替え電磁石６Ａ〜Ｃと、切替え電磁石６Ａ〜Ｃより下流側に設けられ、ビーム進行経路を遮断する第１シャッタ７Ａ〜Ｄとを有する。 （もっと読む）