【課題】電子バンチを容易に制御可能な電子源を提供する。
【解決手段】本発明による電子源（１００）は、パルスレーザ光（Ｌ１）を用いて発生させたレーザ航跡場によって加速された電子バンチを生成する電子バンチ生成部（１０）と、パルスレーザ光（Ｌ２）を用いて発生させたレーザ航跡場によって電子バンチを制御する電子バンチ制御部（２０）とを備える。このような電子源（１００）は、電子バンチ伸張器（１１０）および電子バンチ圧縮器（１２０）と組み合わせて好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】種々の大きさの患部に対して汎用的に使用可能な中性子線治療装置を提供する。
【解決手段】中性子線治療装置１は、加速器と、加速器からの荷電粒子線Ｐで中性子線を生成するターゲットＴと、当該中性子線を減速させ治療用中性子線Ｎを出射するモデレータ５０と、開口４６ａを通じてモデレータ５０からの治療用中性子線Ｎを患者に照射させるコリメータ４６と、を備える。開口４６ａから出射される治療用中性子線Ｎを水ファントム６０中に入射させた場合に、所定の基準位置Ｑ２、Ｑ３，Ｑ４における熱中性子束が、いずれも、治療用中性子線Ｎの照射中心軸線Ｃ上で入射面６０ａから２０ｍｍの深さの基準位置Ｑ１における熱中性子束の０．２倍以上になるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】陽子による部材の放射化を低減することが可能な複合型ターゲット、複合型ターゲットを用いる中性子発生方法、及び複合型ターゲットを用いる中性子発生装置を提供する。
【解決手段】複合型ターゲット８は、ベリリウム材料（又はリチウム材料）１と結晶配向性炭素材料２を重ね合わせて成る複合体の形状を有するターゲット３、及びターゲット３の側面及び内部に冷媒の流路５を有する冷却機構６を付帯している。冷媒の流路５としては、液体の冷媒の流路だけでなく、気体の冷媒の流路も設けることができる。ターゲット３には、大気側に位置するの結晶配向性炭素材料２の表面をシールするための真空シール４が施されている。 （もっと読む）

【課題】線形加速器から出射させる電子ビームのエネルギを異ならせても、発生させるＸ線の線量の変動を抑制する、ことを目的とする。
【解決手段】Ｘ線発生装置１０は、電子ビームを発生させる電子銃１２、電子銃１２によって発生された電子ビームをマイクロ波によって加速させる線形加速器１４、線形加速器１４によって加速された電子ビームが照射されることによって、Ｘ線を発生するＸ線ターゲット１６、線形加速器１４に導入させるマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置、マイクロ波の電力が変化するようにマイクロ波発生装置を制御するパルスモジュレータを備える。線形加速器１４は、複数のバンチャ空洞４０を有しているため、マイクロ波の電力を低下させることで加速位相からずれた電子が生じても、該電子を次の時間周期の加速位相にて加速させることができるので、マイクロ波の電力を低下させても出射される電子ビームの強度の低下が抑制される。 （もっと読む）

【課題】陽子による部材の放射化を低減するためのターゲット、該ターゲットに陽子を衝突させて低エネルギーの中性子、特に医療用の中性子を発生させるための中性子発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】陽子による部材の放射化を低減させるためにリチウム材料及び非金属材料を複合して成る新規のターゲットを用いる。有害な速中性子が殆ど含まれていない中性子を発生させるために照射陽子として２ＭｅＶ以上４ＭｅＶ以下の範囲にある陽子を用いる。そしてまた、加速器として、小型の線形加速器を用いる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子を加速するための加速電極と、加速電極に電力を供給する高周波電源とのインピーダンス整合をとる際の調整時間の短縮化を図ることが可能な調整回路を備えた粒子加速器を提供すること。
【解決手段】加速電極と高周波電源とのインピーダンス整合をとる整合回路の常数の調整を電気的に行う構成とする。具体的には、コイル２３のインダクタンスＬ１を調整するための円環状のフェライトと、フェライト２４に巻き付けられたバイアス巻線２５と、バイアス巻線２５にバイアス電流を供給するバイアス電源３１と、バイアス巻線２５に供給するバイアス電流を増減するバイアス電流調整部とを備える構成とし、バイアス巻線２５に供給するバイアス電流の増減を調整することで、フェライト２４の透磁率μを変更し、整合回路１０の常数を短時間で調整する。 （もっと読む）

【課題】１台の加速器で加速エネルギーを容易に変えることができ、加速中は高周波加速電極部の共振周波数の変更は不要な円形加速器を提供すること。
【解決手段】偏向磁場を形成する偏向電磁石と、荷電粒子の周回周波数に合わせて高周波電界を発生させるための高周波電源と、この高周波電源に接続された高周波電磁界結合部と、この高周波電磁界結合部に接続された加速電極と、荷電粒子の周回方向に高周波電界を発生する加速ギャップを、加速電極との間に形成するよう設けられた加速電極対向接地板とを備え、荷電粒子の周回周波数が、荷電粒子の入射から出射までの間に、荷電粒子の出射部分における周回周波数に対して、０．７％以上、２４．７％以下の変化量で変化する偏向磁場を、偏向電磁石が生成するようにした。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療装置で要求される照射ビームのエネルギーの変更制御が容易でありかつ、装置コストおよび装置の大型化を抑えられるイオンシンクロトロンを提供する。
【解決手段】電磁石電源制御装置22は、対して励磁電流パターンデータ401に基づき励磁電流設定値221を偏向電磁石電源21に設定する。電流変化検出装置23は、偏向電磁石電源制御装置22から入力した励磁電流設定値221の変化量が更新制御の基準となる参照電流値（Iref）以上になると、高周波制御装置32内の周波数更新制御部36に周波数更新指令信号231を出力する。高周波制御装置32内の周波数更新制御部36は、周波数更新指令信号231を入力すると、周波数データメモリ35に記憶された周波数パターンデータ403から励磁電流設定値221の変化に対応する周波数データ351を読み込み、高周波発振器34に周波数設定値321として設定する。 （もっと読む）

【課題】陽子による部材の放射化を低減するためのターゲット、該ターゲットに陽子を衝突させて低エネルギーの中性子、特に医療用の中性子を発生させるための中性子発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】陽子による部材の放射化を低減させるために非金属材料及びベリリウムから構成される新規の複合型ターゲットを用いる。有害な速中性子が殆ど含まれていない中性子を発生させるために照射陽子として４ＭｅＶ以上１１ＭｅＶ未満の範囲にある陽子を用いる。そしてまた、加速器として、小型の線形加速器を用いる。 （もっと読む）

【課題】原子炉や加速器など大型装置を利用することなく簡便に核反応を誘起する装置を提供する。
【解決手段】照射部材の電離が可能なエネルギーのレーザ光線を照射部材に瞬間的に照射（ステップＳ１）して高エネルギー粒子を発生させ（ステップＳ２）、この高エネルギー粒子をターゲット材に照射（ステップＳ３）して核反応を誘起する（ステップＳ４）ので、原子炉や加速器と異なり取り扱いが容易で、低コストで核反応を誘起することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】不使用ビーム量を低減し、ビーム利用効率を向上できる荷電粒子ビーム照射装置を提供することである。
【解決手段】照射野形成装置５００は、シンクロトロン２００から出射された荷電粒子ビームをビーム進行方向と垂直な方向に走査する走査電磁石を有する。制御装置６００の照射順番決定システム６３は、あるエネルギーに周回ビームが加速された状態から他のエネルギーへ再加速または再減速した場合に損失される周回ビーム量を予測し、周回ビーム電荷量モニタ２５により測定された周回ビーム電荷量と、照射線量モニタ５２により測定された照射線量を用いて、照射全体を通して損失する周回ビーム量が最小になるようにシンクロトロンの運転パターンを変更して、照射するエネルギーの順番を決定する。 （もっと読む）

【課題】直線加速器の運転周期に対する最短周期制限を維持したまま円形加速器に対する荷電粒子ビームの入射を任意のタイミングで行うことを可能として照射時間を短縮し、治療時間を短くする荷電粒子ビーム発生装置、荷電粒子ビーム照射装置及びそれらの運転方法を提供する。
【解決手段】加速器機器制御装置２１０はビーム利用系制御装置４００からのビーム出射要求信号によりシンクロトロン２００の運転を制御する。制御装置４００はシンクロトロン２００の出射完了後に次の運転サイクルの入射タイミングを知らせるタイミング信号を発生し、直線加速器１１１の運転タイミングを変更して入射タイミングに合致させる。 （もっと読む）

本発明は、ビーム方向に連続的に配置された少なくとも二つの高周波共鳴器（１７）を有する、荷電粒子を加速するための加速器に関する。複数の粒子バンチ（１５）を有するパルス列（１３）が加速可能であり、また、その加速器は高周波共鳴器（１７）を作動させるための制御デバイス（２１）を有する。高周波共鳴器（１７）にそれぞれ生成可能な高周波場は、パルス列（１３）の加速中に、制御デバイス（２１）によって互いに独立的に設定可能であり、パルス列（１３）の複数の粒子バンチ（１５）が、パルス列の加速中に異なって加速されるようにする。更に、本発明は、このような加速器を作動させるための方法に関し、高周波共鳴器（１７）にそれぞれ生成可能な高周波場は、パルス列（１３）の加速中に互いに独立的に調整されて、パルス列（１３）の複数の粒子バンチ（１５）が、パルス列（１３）の加速中に異なって加速されるようにする。
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【課題】高エネルギー、大電流の荷電粒子ビームが照射されるターゲットを確実に冷却し、ターゲットが破損した場合であっても真空破壊等の甚大な事故を引き起こすことがないこと。
【解決手段】荷電粒子ビーム２が照射されて中性子を発生するビーム照射部３を有するターゲット板１と、このターゲット板と間隔をおいて配置され、冷却構造を有する吸熱板５とを備えている。
さらにビーム照射部を吸熱板に対向する位置に移動させるターゲット駆動機構９、１０とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子照射システムにおいて、ビーム走査とエネルギースタッキングにより動く照射対象を照射し、一様な線量分布を形成したいニーズがある。
【解決手段】目標ビーム電流値を設定してイオンビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置１と、走査電磁石２３，２４及びエネルギーフィルタ２６を有し、イオンビームを出射する照射装置２１と、照射対象の位置を測定し、照射対象の移動によって時間変化する信号を出力する監視装置６６を備え、監視装置から出力される信号に基づいて、イオンビームの出射タイミングを決定し、イオンビームのエネルギーを順次変更して各エネルギーでリペイント照射することで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの出射ビーム電流の増強と安定化により、高い線量率が安定に得られる粒子線治療システム及びシンクロトロンの運転方法を提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。制御装置６００は、シンクロトロン２００で荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速したのち、加速空胴２５に印加した高周波電圧を少なくとも一度ＯＦＦしたのち再びＯＮし、基本波成分とその整数倍の周波数を有する高調波成分を合成した高周波電圧を加速空胴２５に印加した状態で、荷電粒子ビームを出射装置２６と出射偏向装置２７を用いてビーム輸送系３００へと出射する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームを進行方向に垂直な方向に走査して照射する粒子線治療装置において、ビーム走査中に周回ビーム電荷量が不足することがなく、横方向の線量分布がシンクロトロンの二つ以上の運転周期にわたって形成されることによる横方向線量一様度の悪化を防止することができる荷電粒子照射システムを提供することにある。
【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロン２と、走査電磁石２０２を通過したイオンビームを照射対象に照射する照射野形成装置２００と、走査電磁石２０２による荷電粒子ビームの照射位置の一回の走査が完了してから次の回の走査を開始するまでの期間におけるシンクロトロン２の周回ビーム電荷量に基づいて、シンクロトロン２の運転パターンを変更する制御装置を備えたことにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】中性粒子ビームが照射される被処理体の加工状態を把握するため、被処理体と同じ位置において中性粒子ビームの諸特性（全エネルギーフラックス、残留イオン、光エネルギーフラックス）を観測することが可能な測定ユニットを提供する。
【解決手段】測定ユニット１２は、真空処理空間内にあって、中性粒子ビームが照射される被処理体１１と同じ領域内に収容可能なチップ状の基材と、該基材に配された全エネルギーフラックスの測定部および残留イオンの測定部と、を少なくとも備える。 （もっと読む）

ハイパーサーマル分子状水素を生成する方法を開示し、且つ他の結合を切断することなくC-H結合又はSi-H結合を選択的に切断するためのその使用を開示する。水素プラズマを維持し、プロトンを電場で抽出して、適切な運動エネルギーに加速させる。プロトンはドリフト領域に入り込んで、気相の分子状水素と衝突する。衝突カスケードによって、水素プラズマから抽出されたプロトンのフラックスより何倍も大きいフラックスを有する、ハイパーサーマル分子状水素の高フラックスが生成される。ハイパーサーマル分子状水素とプロトンとの公称のフラックス比は、ドリフト領域の水素圧力及びドリフト領域の長さによって制御される。プロトンの抽出エネルギーは、これらのハイパーサーマル分子によって共有され、その結果、ハイパーサーマル分子状水素の平均エネルギーは、プロトンの抽出エネルギー及び公称のフラックス比によって制御される。ハイパーサーマル分子状水素プロジェクタイルは、電荷を帯びていないので、ハイパーサーマル水素のフラックスを使用して、電気絶縁性生成物と導電性生成物の両方の表面改質を達成することができる。このハイパーサーマル分子状水素の高フラックスを生成する方法を適用して、基材上の望ましい一つ/複数の化学官能性を有する有機前駆体分子(又はシリコーン又はシラン分子)を衝撃すると、C-H結合又はSi-H結合は、ハイパーサーマル水素プロジェクタイルから前駆体分子の水素原子へのエネルギー付与の運動学的選択性のため優先的に開裂される。誘導された架橋反応によって、制御可能な架橋度を有し、且つ前駆体分子の望ましい一つ/複数の化学官能性を保持している安定な分子層が生成される。 （もっと読む）

【課題】大電流かつ高エネルギの直流陽子加速器を提供する。
【解決手段】本発明における加速器システムは直流の高電圧・大電流の電力供給装置と、排出イオン加速管と、陽子イオン源と、双極子分解磁石と、高電圧端子に設置された真空ポンプとを有する。大電流・高エネルギの直流陽子ビームは、ホウ素中性子補足治療法（ＢＮＣＴ）、核共鳴吸収法（ＮＲＡ）、及びシリコン分割のようなアプリケーションに応じて、多くの対象に指向することができる。 （もっと読む）