【課題】保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたＰＤＰ用部材の製造方法の提供。
【解決手段】無機粉体含有樹脂組成物は、（Ａ）無機粉体、（Ｂ）下記式（１）で表される構成単位を有する重合体、（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。


（式（１）中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基であり、Ｒ² は炭素数１〜５のアルキル基であり、ｍおよびｎは１〜５の整数、かつ、ｍ≠ｎであり、ａは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数である。） （もっと読む）

【課題】本発明は、支持体上の酸化銀膜から非画像部を簡便な方法で除去して、高精細かつ高導電性の銀画像、またはそのような銀画像を簡便に得ることができる酸化銀画像を作製する方法を提供するものである。
【解決手段】酸化銀塗膜から酸化銀の一部をレーザー光によってアブレーションして除去することにより、酸化銀画像を形成する。さらに、この酸化銀画像を加熱処理により、銀画像に変換する。本方法はドライなプロセスであり、廃液の発生を抑制できる。また、レーザー光のエネルギーを適切に調節することにより、非画像部の除去と画像部酸化銀の銀への変換を同時に行い、効率よく酸化銀塗膜から銀画像を作製できる。 （もっと読む）

【課題】 パターン形状、感度、解像性の全てに優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 ２以上のフェノール性水酸基を有し、分子量が３００〜２５００である多価フェノール化合物（ｘ）における前記フェノール性水酸基の一部が酸解離性溶解抑制基で保護されている保護体（Ｘ１）を含有してなるパターン形成材料用基材（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記（Ｂ）成分が、アルキルスルホン酸イオンをアニオンとするオニウム塩系酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 樹脂中の酸性官能基との反応が抑制される卑金属粉末、その卑金属粉末を用いてゲル化が抑制された樹脂組成物、卑金属粉末の製造方法、樹脂組成物の製造方法、その樹脂組成物を用いた回路基板の製造方法、およびセラミック多層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 内部が卑金属であり、表面が、塩基性卑金属化合物でなく、酸性官能基と反応せず、さらに有機溶剤に実質的に溶解しない物質からなる被覆処理膜と、卑金属の酸化皮膜とにより被覆されている卑金属粉末と、酸性官能基を有する樹脂とを含有する樹脂組成物を作製し、この樹脂組成物を用いて、回路基板およびセラミック多層基板を作製する。 （もっと読む）

改良された流動特性を有している新規な反射防止または充填組成物が提供された。組成物は、スチレン−アリルアルコールポリマーと、好ましくはスチレンアリルアルコールポリマーに加えて少なくとも１つの別のポリマー（例えばセルロースポリマー）とを含む。本発明の組成物は、コンタクトホールまたはビアホールを、続いて行われるデュアルダマシン工程におけるエッチングの間の分解から保護するために用いられる。本発明の組成物は、反射防止コーティング層（続いて行われるフォトレジストの露光と現像の間の反射を低減するかまたは回避する）を形成するための基板（例えばシリコンウェハ）に対しても塗布されうる。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ^bは酸脱離性基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】高感度の光重合開始剤の提供。
【解決手段】特定構造を有するオキシムエステル系化合物が提供される。特に該オキシムエステル系化合物は、（ａ）黒色色材、（ｂ）有機結合材及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物の（ｃ）を構成する。
【効果】高感度の光重合開始剤として利用可能である。これを用いた光重合性組成物は、薄膜において高遮光性でありながら感度、解像性に優れるため、低コストで高品質の樹脂ブラックマトリックス（ＢＭ）を形成することができる。この樹脂ＢＭを用いたカラーフィルターは精度、平坦性、耐久性において優れるため、液晶素子の表示品位を向上させることができる。また、製造工程およびカラーフィルター自体にも有害な物質を含まないため、人体に対する危険性を低減し環境安全性が向上する。フォトスペーサやリブ（液晶分割配向突起）など色材を用いない用途にも応用可能である。 （もっと読む）

【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる微細パターンの形成方法と、それに有効な電場（電界）印加時の露光後ベーク用媒体を提供する。
【解決手段】化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストを用いた高感度な微細パターンの形成方法であって、前記化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストからなるレジスト膜１１を基板１０の上に形成する工程と、前記レジスト膜１１に放射線を照射し、酸を発生させる工程と、前記放射線照射後の加熱時に、レジスト膜１１上に下記（I）及び（II）を満足する媒体１２を配置して、前記レジスト膜１１に電場を印加する工程とを含む。
（I）電気伝導率が０．０１μＳ／ｃｍ以上である。
（II）レジスト膜に対する溶解性が低く、次式を満たす。
媒体を２３℃で６０秒間放置し、水で除去後のレジスト膜厚／媒体配置前のレジスト膜厚×１００≧９５ （もっと読む）

【課題】 液浸リソグラフィによる解像度をより向上させることにより、パターンの形状不良を防止できるようにする。
【解決手段】 基板２０１の上に形成されたレジスト膜２０２と投影レンズ２０５との間に配され、開口数の値を高めるための液浸露光用の液体２０３は、溶媒に極性が水の極性よりも大きい極性分子を含むカルボニル基又はスルフォニル基等が添加されている。これにより、液体２０３の屈折率の値が大きくなって、投影レンズ２０５に負担を掛けることなく解像度が向上するので、良好な形状を有するレジストパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 熱処理温度の範囲を広くすることができ、金属粒子を十分に接触させて信頼性の向上を図ることのできる感光性導電ペーストを提供する。
【解決手段】 紫外線の照射により現像液に対して不溶化するバインダー１と、バインダー１の熱分解温度よりも５０℃以上熱分解温度が高いバインダー２と、熱機械分析の融着開始温度が３００℃以下の金属粒子とを必須成分とする。そして、金属粒子を銀粒子とし、銀粒子の平均粒径を０．０５〜０．５μｍとするとともに、銀粒子の平均粒径±０．０５μｍの範囲に含まれる全銀粒子の割合を３０質量％以上とする。 （もっと読む）

【課題】 解像度、密着性、テント信頼性及びスカム性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなり、前記（Ｂ）成分が、下記一般式（Ｉ）で表される分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と分子内に少なくとも２つの重合可能なエチレン性不飽和結合、エチレングリコール鎖及びプロピレングリコール鎖を有する光重合性化合物とを含むことを特徴とする。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、ｌ、ｍ、及びｎは各々独立に正の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎは３〜３０である。） （もっと読む）

【課題】 ＥＢまたはＥＵＶ照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ｉ線、ｇ線等の紫外線のみならず、可視光線、ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線，Ｘ線、イオンビーム等の放射線にも利用できる感放射線性レジスト組成物を提供する。簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（1）で表される化学構造式で表されることを特徴とするレジスト化合物を一種以上と、可視光線、紫外線、極端紫外線，エキシマレーザー、電子線、Ｘ線およびイオンビームから選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤を一種以上含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。
【解決手段】感光剤と組み合わせて用いられる光活性化合物であって、一般式（１）で表される光活性化合物。
R¹-(OCH₂CH₂)n-O-A-X-Pro （１）
〔式中、R¹は炭素数1〜5のアルキル基を表し、nは1から5の自然数を表しAは下記環状基を表し、Xは-O-あるいは-COO-を表し、Proは光照射にて脱離可能な保護基を表す。〕
【化５】
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【課題】光透過率およびコントラスト比が高い赤色の画素および緑色の画素を形成することができるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ用感放射線性組成物は、（Ａ）顔料、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）感放射線性ラジカル発生剤を含有し、（Ａ）顔料がＣ．Ｉ．ピグメントイエロー２１９を５重量％以上含み、かつ（Ａ）顔料の平均粒径ｒ（単位ｎｍ）が５０≦ｒ≦３００であることを特徴とする。該組成物は好ましくは、平均粒径が３００ｎｍを越える（Ａ）顔料を粉砕しつつ混合・分散して得られる（Ａ）顔料の平均粒径ｒ（単位ｎｍ）が５０≦ｒ≦３００である顔料分散液を、（Ｂ）〜（Ｄ）成分と混合して調製される。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターン形成方法においてアルカリ現像液で剥離可能な保護膜を形成できる新規な保護膜形成組成物を提供する。
【解決手段】１． アニオン部を有する繰り返し単位（Ｘ１ａ）とカチオン部（Ｘ１ｂ）とを含有する樹脂（Ｘ１）を含有する。
２． アニオンを有する樹脂（Ｘ１）が、水不溶性かつアルカリ可溶性である樹脂である。
３． アニオン部を有する繰り返し単位（Ｘ１ａ）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位である。
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【課題】ＴＡＢやＣＯＦ用のレジストパターンとして十分な解像度およびエッチング性能を与える感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】支持層、感光性樹脂層、及び保護層をこの順に積層した感光性樹脂積層体において、感光性樹脂層の厚みが０．５μｍ〜６．０μｍであり、かつ、支持層と感光性樹脂層からなる部分積層体の厚みの標準偏差が０．２μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 白灯によるカブリ変色の抑制と画像露光時の変色感度の両立した画像記録材料およびこれを画像記録層として有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ラジカル開始剤、（Ｂ）ラジカルの作用によって色の変化を生ずる化合物および（Ｃ）加熱することで、ラジカルを捕捉する化学種を発生する化合物を含有する画像記録材料、これを画像記録層として有する平版印刷版原版、および、この平版印刷版原版を画像様に露光した後、加熱処理を施すことにより、画像記録層中に含有される（Ｂ）ラジカルの作用によって色の変化を生ずる化合物の画像様露光後の色変化を抑制する方法。 （もっと読む）

【課題】 光透過率およびコントラスト比が高い赤色画素を形成することができ、かつ大型基板塗布に適したレオロジー特性を有するカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）感放射線性ラジカル発生剤および（Ｆ）溶媒を含有する感放射線性組成物。（Ａ）顔料がＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８を２０重量％以上含み、（Ａ）顔料の平均粒径ｒ（単位ｎｍ）が５０≦ｒ≦２００でありそして（Ｂ）分散剤がリビング重合を経て得られる、アミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）＞０のアクリル系ブロック共重合体である。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】脱保護エネルギーが３級エステルの保護基に比べて低い特定の構造単位（ａ１）、ラクトン含有環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ２）及び、単位（ａ１）と単位（ａ２）以外の単位であって、脂肪族環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含み、かつ極性基を含まない、（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ３）を含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とする。 （もっと読む）