【課題】硬化レリーフパターンが永久材料として具備すべき実用レベルの力学物性を有し、現像後の硬化レリーフパターン底部に残滓や剥離などのダメージの無いレリーフパターンであるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法の提供。
【解決手段】
金属配線を含む基材上又は金属配線を含まない基材上に、特定の感光性ポリオルガノシロキサン組成物を塗布してポリオルガノシロキサン膜を形成する工程、該ポリオルガノシロキサン膜を露光する露光工程、現像する工程、得られたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンをアルコール系化合物によって洗浄する工程、基材ごと加熱する工程、からなるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用、三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、基板からのアミン性の汚染物質を中和する機能があり、これにより、上層レジストのレジストパターンの裾引きなどの悪影響を低減できるレジスト下層膜材料を形成する方法を提供する。
【解決手段】化学増幅型フォトレジスト層の下層を形成するためのレジスト下層膜材料であって、架橋性のポリマーと、一般式 Ａ^-（Ｒ¹）₄Ｎ⁺ （１） で示される１００℃以上の加熱により酸を発生する熱酸発生剤とを含んでなるレジスト下層膜材料、及びこのレジスト下層膜材料を用いて形成されたレジスト下層膜を備えるレジスト下層膜基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートを、低いコストで製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明による、所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートの製造方法は、基板上に紫外線硬化樹脂層を形成するステップと、紫外線硬化樹脂層に、微細開口部に対応したパターンの、紫外線露光を行うステップと、現像を行うステップと、紫外線硬化樹脂層を基板から剥離させてプレートを得るステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】固体表面に超微細のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、該ラジカル重合可能な不飽和化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位からラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】熱処理中の収縮を最小限に抑え、さらに高い安定性を有した感光性のある耐熱性高分子材料を提供すること。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマー１００重量部と、（ｂ）光重合開始剤および／または増感剤０．１から１００重量部を含有することを特徴とする感光性耐熱性重合体組成物。
【化１】


（Ｒ^０、Ｒ^２は少なくとも１個の不飽和結合とアルコキシ基を有するシリコン原子含有基、Ｒ^１は少なくとも６個以上の炭素原子を有する芳香族を有する基、ｎは１０から１０００００である。） （もっと読む）

【課題】引火するおそれや人体に悪影響及ぼす危険性の高い液体を使用せずに現像することができる光カチオン硬化型エポキシ樹脂組成物の現像方法を提供する。
【解決手段】光照射により発生するカチオンでエポキシ基の反応を開始させて硬化する光硬化型エポキシ樹脂組成物層の一部分を、光照射により硬化反応を開始させた後、未硬化部分を除去して硬化部分を残す現像処理において、現像液としてジエチレングリコールモノアルキルエーテル誘導体と水を含む液体を使用することで、引火や人体に悪影響を及ぼす危険性をなくした。 （もっと読む）

【課題】 青紫外光レーザに対し高感度であるとともに、黄色安全灯下での光安定性及び熱安定性に優れ、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、熱架橋剤、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリジン誘導体と、オニウム化合物を含む感光性組成物、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料、前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体、前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置、などである。 （もっと読む）

【課題】 現像後の膜の凹凸によるコントラストが増強されたパターンを得ることのできる膜形成組成物、これを用いたパターン形成方法及び三次元モールドを提供する。
【解決手段】光及び／又は熱に感応して、形成される膜の現像液への溶解度を制御することができる化合物を、下記化学式（Ａ）で示されるアルコキシ金属化合物の加水分解物及び／又は縮合物を含む組成物に配合する。
【化１】


（式中、
Ｍは、ケイ素、ゲルマニウム、チタン、タンタル、インジウム、又は、スズであり、
Ｒ^１は、水素原子、または１価の有機基であり、
Ｒ^２は、１価の有機基であり、
ｎは、１〜３の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 液体吐出型記録ヘッドの信頼性を向上させる。
【解決手段】
液体吐出エネルギ発生素子３３ａが形成されると共に液体を供給する流路の一部を構成する基板３３と、基板３３上に形成され、流路の一部を構成すると共に液体を吐出する液体吐出口３５を有する被覆樹脂層３６とを有し、被覆樹脂層３６を分子中に少なくとも１個のオキセタニル基を有するオキセタン化合物と光カチオン重合開始剤とを必須成分とするオキセタン樹脂組成物で形成する。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型フォトレジスト又はネガ型フォトレジストを自在に得る。
【解決手段】 ポリマーとしてポリ乳酸系樹脂を用い、現像液を使い分けることによりポジ型フォトレジストとネガ型フォトレジストを自在に得ることを可能にした。本発明は、基板上にポリ乳酸系樹脂及び光酸発生剤から成るフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射し、その後この層を現像液で洗浄することから成る現像画像形成法であって、該ポリ乳酸系樹脂がポリ乳酸又はＬ−乳酸及び／又はＤ−乳酸をモノマーとして５０重量％以上含むポリエステル共重合体であり、該現像液が、アミンを含む溶液、又はアルコキシドと極性溶媒を含む溶液である反応現像画像形成法である。
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【課題】半導体集積回路、プリント配線基板、液晶パネル又は光導波路の製造に用いることのできるフォトレジスト技術の分野において、反応現像画像形成法の改良に関し、現像が容易であり、かつそのパターンの強度が高いという特長を有する技術の提供。
【解決手段】反応現像画像形成法において、エステル結合がベンゼン環などの芳香環又はスルホン基などの電子吸引性置換基が結合した芳香環と結合する構造を持つポリエステルイミドを用いる。このようなエステル結合は、アミンの求核置換反応を起こし易くし、現像を容易にし、かつそのパターンの強度を高くする。所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層が上記ポリエステルイミドと光酸発生剤とから成る反応現像画像形成法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、網点再現性を損なうことなく、環境負荷低減に寄与する感光性平版印刷版材料の製版方法を提供することにある。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）高分子結合材、（Ｃ）重合可能な、エチレン性不飽和結合含有化合物および（Ｄ）増感色素を含有する感光性層を有する感光性平版印刷版材料を画像露光した後、現像処理する感光性平版印刷版材料の製版方法において、該（Ａ）光重合開始剤がビイミダゾール化合物であり、該現像処理に用いられる現像液が下記一般式（１）で表される化合物を含有するｐＨ８．５〜１２．０のアルカリ性水溶液であることを特徴とする感光性平版印刷版材料の製版方法。
一般式（１）
Ｒ₁₁−Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）Ｏ）_p（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_q−ＳＯ₃^-Ｘ⁺ （もっと読む）

【課題】 良好な現像性を有し、高耐刷が得られ、しかも現像カス発生を抑制できる、レーザー露光画像記録が可能なネガ型平版印刷版原版の製版方法を提供する。
【解決手段】 親水性支持体上に、（Ａ）４０５ｎｍの波長に吸収を有する増感色素、（Ｂ）ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、および（Ｅ）連鎖移動剤を含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザ露光した後、アニオン界面活性剤を１．０〜１０．０質量％含有し、ｐＨが１０．０〜１２．５である現像液で現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

ａ）以下の加水分解物および／または縮合物：少なくとも１つのアルキル基を有する少なくとも１つの加水分解性アルキルシラン、少なくとも１つのアリール基を有する少なくとも１つの加水分解性アリールシランもしくは少なくとも１つのアルキルアリール基を有する少なくとも１つの加水分解性アルキルアリールシラン、およびエポキシ基を含む少なくとも１つの加水分解性シラン、ｂ）少なくとも２つのエポキシ基を有する少なくとも１つの有機化合物、ならびにｃ）カチオン開始剤を含む、重合性複合組成物は、硬化されると、パターン化コーティングを有する支持体またはパターン成形品を提供する。得えられるパターン化コーティンおよび成形品は、高緩和能、高耐薬品性および機械的安定性を示す。高形状安定性を有するマイクロパターンが得られ得る。 （もっと読む）

【課題】 エッジラフネスを低減した高解像度のポジ型パターンが得られる感放射線組成物、およびそれを用いた電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 ベンゼン環を５個以上、水酸基を５個以上有し、かつ１個のベンゼン環に有する水酸基が２個以下である多核フェノール化合物を酸分解性基を介して少なくとも２個以上結合した構造を有する化合物もしくは樹脂を感放射線組成物の主成分とし、前記多核フェノール化合物の純度がゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した主成分に該当するピーク面積の割合で９０％以上であるポジ型感放射組成物をレジストに用いることにより、エッジラフネスを低減した高解像度のポジ型パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】 改良されたクリーン−アウトおよびクリーン−アウト能力の改良された貯蔵期間安定性を有するネガ−作用性平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 （１）親水性表面を有する研磨されそして陽極酸化されたアルミニウム支持体上に、（ｉ）疎水性の熱−軟化可能な芯および親水性の殻を有する芯−殻粒子である重合体粒子および（ｉｉ）赤外線吸収剤を含んでなるコーティングを含んでなる平版印刷版前駆体を準備し、（２）該コーティングを熱に露呈し、それにより該コーティングの露呈された領域で該重合体粒子の合着を誘発し、そして（３）ゴム溶液を該コーティングに適用することにより該前駆体を現像し、それにより該コーティングの露呈されなかった領域を該支持体から除去する段階を含んでなるネガ−作用性平版印刷版の作製方法が提供される。
上記方法に従えば、印刷版はエージング後に改良されたクリーン−アウトおよび減じられた背景汚れを示し、調色のない印刷を生ずる。 （もっと読む）

【課題】 高透明性、低誘電率、低熱膨張係数、高ガラス転移温度、且つ十分な靭性を併せ持つ実用上有益で、アルコール類で現像できるネガ型の感光性樹脂組成物、及び、これを用いた微細パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 式（１）で表される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、架橋剤、架橋補助剤及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。前記の感光性樹脂組成物を基板上に流延・乾燥して製膜し、フォトマスクを介してこれを露光し、アルコール、グリコールまたはグリコールのモノアルキルエーテルで現像後、加熱あるいは脱水環化試薬を用いて脱水閉環して、式（２）で表される繰り返し単位を有するポリイミド膜とする微細パターンの製造方法。
【化１】
（もっと読む）

本発明は、最初に、フォトレジストの電子バンドギャップより大きいエネルギーで露光されると相変化を示す無機フォトレジストを提供するフォトニック結晶の製造方法に関する。このフォトレジストを、エネルギーがフォトレジストの電子バンドギャップ未満であるが焦点における強度がそこで非線形作用を生ずる大きさのレーザービームで露光させることにより、このフォトレジスト内で相変化が生ずる。次いで、この露光されたフォトレジストを、好ましくはこのフォトレジストの１相を溶解させるエッチング溶液に曝し、最後にこれから現像されたフォトレジストをフォトニック結晶の形で取り出す。本発明にかかる方法により製造された無機フォトニック結晶は、完全光学装置、回路及び光学通信又はコンピュータシステムに好適である。
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【課題】 カルボン酸無水物構造を有するアクリル樹脂を用いたポジ型感光性樹脂組成物の露光感度を向上させるととも、感光波長の選択幅を広げること、更には、このポジ型感光性樹脂組成物を用いることで基板から吐出口方向への高さ方向に形状が変化するインク流路を精度良く、かつ効率良く形成できるパターン形成方法及びそれを用いたインクジェットヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】 少なくともカルボン酸無水物構造を有するアクリル樹脂と光酸発生剤とを用いてポジ型の感光性樹脂組成物を調製する。 （もっと読む）

【課題】目的とするインク流路を正確に形成可能なインクジェットヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】 流路パターンを規定する型となる溶解除去可能な固体層（流路となる構造）とそれを被覆するネガ型レジスト層とを少なくとも用いたインクジェットヘッドの製造において、流路となる構造を、一般式（１）で表されるポリメタクリレート共重合体系樹脂とメラミン系の縮合性架橋剤とを有する分子間架橋型のポジ型感光性樹脂組成物の、電離放射線の照射による主鎖の崩壊反応により形成する。
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