【課題】異なる波長のレーザー光を出射する光源、又は異なる方式の光源に付け替えても感光体ドラム上の光量分布の均一性を保つこと。
【解決手段】ポリゴンミラーの反射面を構成する金属層の各膜厚について、反射面の主走査方向の各位置における赤色波長領域及び赤外波長領域のレーザー光のＳ偏光成分及びＰ偏光成分の反射率をそれぞれ測定する。そして、測定した反射率の最大反射率と最小反射率の差が等しく、最大反射率と最小反射率の差の和が最小であるときの膜厚をポリゴンミラーの金属層の膜厚として採用する。 （もっと読む）

【課題】１の光源による複数の被走査対象の走査をより効率的に行う。
【解決手段】ポリゴンミラーは、回転軸に対して第１の角度で周設された第１の反射面と、回転軸に対して第２の角度で周設された第２の反射面とを備え、回転軸を中心とした回転により、光源からの光ビームを第１の反射面および第２の反射面で順次偏向させる。ポリゴンミラーの第１の反射面で偏向された光ビームを第１の被走査体に結像させる。また、ポリゴンミラーの第２の反射面で偏向された光ビームを第２の被走査体に結像させる。ポリゴンミラーの回転に従い、第１の被走査体および第２の被走査体に対して順次、第１および第２の反射面で偏向された光ビームにより主走査方向への走査を行う。 （もっと読む）

【課題】有害光の影響を低減するように配置されたフォトダイオードを提供する。
【解決手段】光ビームを生成する複数の光源３ａ、３ｂ、３ｃと、複数の光源からの光ビームを重ね合わせて重合せ光ビームを生成するビームコンバイナ７と、重合せ光ビームを受けて一次光ビームと二次光ビームとに分割するビームスプリッタであり、二次光ビームの１つ又は複数の特性が一次光ビームの１つ又は複数の特性を示し、一次光ビームが通る第１の面１７と、二次光ビームが通る第２の面１９とを備える、ビームスプリッタ１１と、ビームスプリッタの第１の面により放出される一次光ビームを反射し、一次光ビームを走査することができる、ミラー構成要素２１と、二次光ビームの特性を検出するフォトダイオードとを備え、フォトダイオードは、第１又は第２の面と非平行とされ、ミラーに向けられる有害光の量を低減する。 （もっと読む）

【課題】高反射率を実現しつつ、スキャンミラーの揺動に応じてレーザ光の偏光異方性を解消することができる赤外光学膜を提供する。
【解決手段】基板１上に０．０１〜１．０μｍの膜厚にて形成された金（Ａｕ）膜２と、金膜２上に屈折率ｎＬが１．３〜１．４の低屈折率層と、屈折率ｎＨが１．９〜２．１の高屈折率層とが交互に、第１層３ａ：０．２６λ≦ｎＬｄ１≦０．２８λ、第２層４ａ：０．２５λ≦ｎＨｄ２≦０．２６λ、第３層３ｂ：０．２５λ≦ｎＬｄ３≦０．２７λ、第４層４ｂ：０．２２λ≦ｎＨｄ４≦０．２４λ、第５層３ｃ：０．２１λ≦ｎＬｄ５≦０．２３λ、第６層４ｃ：０．１７λ≦ｎＨｄ６≦０．１９λ、第７層３ｄ：０．１６λ≦ｎＬｄ７≦０．１８λ、第８層４ｄ：０．１７λ≦ｎＨｄ８≦０．２０λ、（但し、λ＝レーザ光の波長、ｄ１〜ｄ８は各層の膜厚）である。 （もっと読む）

【課題】 熱膨張性が小さく、平滑な表面を有する成形体を得ることができるシクロオレフィン樹脂組成物およびその成形体を提供する。
【解決手段】 シクロオレフィン樹脂組成物を成形してなる成形体であって、前記シクロオレフィン樹脂組成物は、シクロオレフィン樹脂とシリカ微粒子を少なくとも含有し、前記シリカ微粒子の平均一次粒子径は、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、前記シクロオレフィン樹脂組成物は、前記シリカ微粒子を１５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下含有し、前記形体の０℃から８０℃の線膨張係数が５０×１０^−６／℃以下であることを特徴とする成形体。 （もっと読む）

【課題】成形物の機械強度が高く、耐熱性に優れ、しかも高い反射率が安定して得られ、特に、ＬＥＤの製造工程およびリフローはんだ工程での加熱による反射率の低下が少ない反射材用熱可塑性樹脂組成物および該樹脂組成物を成形して得られる反射板を提供する。
【解決手段】融点もしくはガラス転移温度が２５０℃以上でのポリエステル樹脂と、芳香族炭化水素構造を有する低分子量熱可塑性樹脂と、白色顔料と無機充填材とを含む反射材用熱可塑性樹脂組成物が、前記の目的を達成する性能を有する。 （もっと読む）

【課題】小型・簡易制御の焦点が可変なミラーにおいて、球面収差の補正と、信頼性向上を図る。
【解決手段】焦点が可変なミラーおよびこれを用いた光ピックアップは、可撓み膜と、前記可撓み膜の片面に形成する反射膜と、前記可撓み膜に前記反射膜を形成する面と反対の面に形成する環状の構造体と、から構成されたミラー素子部と、前記環状の構造体に対して電力で駆動力を印加する駆動手段と、から成る焦点が可変なミラーにおいて、前記環状の構造体は弾性体であり、また前記環状の構造体の可撓み膜との接触面の外形と前記可撓み膜の膜厚方向から見た面の外形は楕円形である。 （もっと読む）

【課題】不所望の波長の放射を減少することができる光学装置およびリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ（極端紫外線）リソグラフィ装置において、照明システムは、マルチファセットフィールドミラーとマルチファセット瞳ミラーとを含む。ミラー内のフィールドファセットミラーは、ＥＵＶ放射を特定の関連付けられた瞳ファセットミラー上に合焦させ、瞳ファセットミラーからＥＵＶ放射はターゲット領域に誘導される。各フィールドファセットミラーは、不所望のＤＵＶ（深紫外）放射を広範囲の方向に散乱するように変更される。ＤＵＶの大部分は、瞳ミラー内の隣接する瞳ファセットミラーに当たり、それにより、ターゲットＥに到達するＥＵＶ放射の量は、所望のＥＵＶ放射に比べて抑制される。ミラー間の距離が個々の瞳ファセットミラーの幅よりもかなり大きいので、良好なＤＵＶ抑制が、狭い散乱角だけで達成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属ミラーの表面におけるレーザ光の光反射率を向上させて、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることの可能な金属ミラーの表面の改質方法を提供することを課題とする。
【解決手段】光透過性反応用容器２１を囲むように配置され、かつ光化学反応に用いるレーザ光を反射する金属ミラー１９の表面１９ａの改質方法であって、金属ミラー１９の表面１９ａに、炭酸ガスレーザまたはチタンサファイヤレーザを照射して、金属ミラー１９の表面１９ａをアニーリングするアニーリング工程を有する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみをマスクに供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ミラー５１０の表面には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝５１３が形成される。ＥＵＶ光源装置１から入射する光２０３，３０１は、ミラー５１０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０４（ＥＵＶ回折光を含む）と、他の波長の光３０１Ａ，３０１Ｂとは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光３０１Ａ，３０１Ｂを除去することにより、純度の高いＥＵＶ光をマスク６００に照射することができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で優れた形状精度を持つミラーを得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】ミラーの製造方法は、熱により膜厚が変化する形状修正層１２を基板１１の上に配置する第１工程と、第１層、第２層、および、前記第１層と前記第２層との間に配置されて前記第１層を構成する材料と前記第２層を構成する材料との反応を防止するバリア層１６を含む反射層１３を前記形状修正層１２の上に配置する第２工程と、前記第２工程の後に、前記形状修正層１２の膜厚分布を変化させることによって前記反射層１３の形状を目標形状に近づける第３工程とを含み、前記第３工程は、前記形状修正層１２を部分的にアニールする処理を含む。 （もっと読む）

【課題】光学系に使用されるミラーの熱変形は、抑えることが望ましい。
【解決手段】光反射面を有する反射膜１１と、反射膜を支持するミラー基部１２とを備えた平面ミラー１でのミラー基部に、当該ミラー基部の外表面の少なくとも１箇所に開口するとともに、当該ミラー基部での反射膜の背面側の少なくとも１箇所に開口する第１流路Ｐ１と、少なくとも一部が反射膜の背面側に位置し、第１流路側から当該ミラー基部の側端側にかけて放射状に延在する複数の第２流路Ｐ２と、複数の第２流路の各々に接続されるバッファタンク部ＰＢと、バッファタンク部に一端が接続され、他端が前記ミラー基部の外表面に開口する第３流路Ｐ３とを含む流路ＦＰを設ける。 （もっと読む）

【課題】 蛍光体からの蛍光光の利用効率が高い蛍光体基板を提供する。
【解決手段】 蛍光体基板200は、円板形状であって外周縁近傍位置に環状凹部が形成された基板201と、環状凹部の内面に形成された微細反射構造210と、この微細反射構造210上であって環状凹部に敷設された蛍光体層と、を備え、この微細反射構造210は、平面部221と、平面部221から突出する略錐形状とされた複数の凸部223と、から形成され、この凸部223の側面は、放物線面形状とされており、蛍光体層から基板201の平面と略平行方向に発光された蛍光光の光軸を射出面から射出されるように変換することにより蛍光光の利用効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィシステム等、従来の比較的厚いミラーを採用するように設計された光学システムにおいて、比較的薄い電気鋳造ミラーが使用可能となるようなＥＵＶミラーシステム及び方法。
【解決手段】曲線状の上面２２を有する基板２０と、曲線状の電気鋳造ミラー３０とを備えるＥＵＶミラーモジュール１０が開示される。自己調整接着材料４０は、基板２０と電気鋳造ミラー３０との間に配置されている。この接着材料４０は、溶融温度で流動可能であり、基板２０と電気鋳造ミラー３０との間の領域を形状に合わせて充填され、基板２０と電気鋳造ミラー３０とを接着するように自己調整を行なう。基板２０は、ミラーモジュール１０を冷却するために、少なくとも一つの冷却チャネルを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】光反射面の形状を高精度に可変させる。
【解決手段】可変形状鏡１は、光反射面１０ａを有するミラー１０と、ミラー１０を変形させるアクチュエータ２０と、アクチュエータ２０を保持するバックプレート３０と、ミラー１０、アクチュエータ２０、バックプレート３０の各温度を測定する温度センサ５０と、温度センサ５０から入力された各温度測定値と予め設定されたミラー１０、アクチュエータ２０、バックプレート３０の線膨張係数に基づいてミラーの変形量を調節するための調節値を算出する温度補償演算部６０と、温度補償演算部６０で算出した調節値に基づいて、与えられた駆動指令値を調節してアクチュエータ２０を駆動させるアクチュエータ制御部４０とを備えた。 （もっと読む）

【課題】熱に対して優れた安定性を持つミラー、およびそれを用いたＥＵＶ光生成装置を提供する。
【解決手段】ミラーは、基板１１１と、基板の主面上に形成され基板よりも高い熱伝導率を有する熱拡散層１１２と、熱拡散層上に形成され、熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する高反射膜１１３と、を備える。これによりレーザ光照射部分ので発生した熱が熱拡散層１１２によって広く分布し、この結果、基板１１１全体を介して効率よく放熱される。 （もっと読む）

【課題】光出力減衰器からの出力光の光軸を再度位置決めする作業を必要とせず、かつ、エネルギーの吸収による変形や破損を抑制できるようにする。
【解決手段】入射するレーザビーム１２ａを繰り返し反射させて出射側に案内した後、入射する前記レーザビーム１２ａの光軸と一致する光軸で出射するように、反射面を向かい合わせて配置したミラー２ａと２ｂ，３ａと３ｂ対を複数組み合わせる。
【効果】出力光の光軸を再度位置決めする作業が不要である。また、透過型の光学素子により減衰できない波長のレーザであっても、ミラーの変形や破損を抑制して減衰できる。 （もっと読む）

【課題】光源装置において光を集光するために用いられるミラー装置において、温度調節機構からミラー基板に力が加わっても、ミラーの歪みを発生しにくくする。
【解決手段】ミラー装置は、一方の面に反射層が形成され、内部に温度調節媒体のための少なくとも１つの流路が形成されたミラー基板と、ミラー基板を複数の位置においてそれぞれ支持する複数の支持部と、ミラー基板が複数の支持部によって支持される複数の位置の内の少なくとも１つの位置の近傍において少なくとも１つの流路に接続された少なくとも１つの供給配管及び少なくとも１つの排出配管とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面からデブリを除去するための方法および装置を提供する。
【解決手段】電流源（ＤＣ電圧源）２２０は、コレクタミラー１５０、ミラー１５０のための金属製バッキング材（アルミニウムまたはニッケル）に接続されてよい。ミラー１５０は、チャンバ２６の内側を満たす周囲ガス（ヘリウムガス）の温度よりも高い温度に加熱されてよい。デブリ洗浄のもう一つの側面、ＲＦ周波数電圧２３０およびチャンバ２６内の２３２で模式的に示すアンテナからの、ＲＦの導入が組込まれてもよい。ＲＦは、ミラー１５０または金属製バッキング材に接続されてもよく、この場合、適切な導電性材料製で且つアース電位に接続された暗シールドが、コレクタミラー１５０の背面を覆って形成されてよく、これは絶縁体（空気ギャップ）および電圧（ミラー１５０にも接続されたＤＣ電源２２０からのＤＣ）によってミラーから分離される。 （もっと読む）

【課題】光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる光学部材変形装置、光学系、露光装置、及び、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の形状を変形させるミラー変形装置５３において、凹面鏡４１に対して吸着する吸着部と、アクチュエータ６１から伝達される駆動力に基づいて、吸着部を変位させる変位機構と、変位機構から吸着部に伝達される変位量を縮小する弾性部とを備える。 （もっと読む）