【課題】 波長変動や製造プロセス変動に対するトレランスを高める。ハイΔ化しても大型化することのないようにする。平坦化帯域の高帯域化。
【解決手段】 入力光導波路１０１と、出力光導波路１０２と、導波路アレイ１０７と、入力側カプラー導波路１０５と、出力側カプラー導波路１０６と、入力側接続部導波路１０３と、出力側接続部導波路１０４とを有するＡＷＧにおいて、入力側接続部導波路１０３は、０次モード光と1次モード光とを混合させるモード混合部とモード間の干渉を行わせるモード干渉部とを有するモード変換導波路１０８によって構成し、出力側接続部導波路１０４は、テーパ導波路１０９によって構成する。 （もっと読む）

【課題】 低価格化と量産化が可能な光回路を提供する。
【解決手段】 金属箔上に設けられた溝付きポリイミド基材の溝内に溝の長手方向以外の四周が金属膜で覆われたポリイミドからなる光伝送路が形成されてなることを特徴とする光回路基板、および、金属箔の一方の面に溝付きポリイミド層を形成する溝付きポリイミド層を有する金属箔形成工程、前記溝付きポリイミド層を有する金属箔の少なくとも溝の全内面に金属膜を形成する金属膜形成工程、内面に金属膜が形成された前記溝内あるいはさらにその上部のみにポリイミドを充填、キュアーするポリイミド充填工程、前記溝内に形成されたポリイミドの長手方向以外の露出面を金属膜で覆い、溝内に形成された金属膜とともに、溝内のポリイミドの長手方向以外の四周を金属膜で覆って光伝送路を形成する光伝送路形成工程を有することを特徴とする光回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 面型光素子の実装面に対して垂直に高精度で光導波路を配置した光伝送装置及び光モジュールを提供することを課題とする。
【解決手段】 光伝送装置１０は、実装面１２Ｊ、１４Ｊの裏面にそれぞれ光学面を備えた面型の発光素子１２及び受光素子１４と、実装面１２Ｊ、１４Ｊの法線方向に配置される光ファイバ１６に発光素子１２及び受光素子１４を光学的に結合させる光導波路１８と、発光素子１２、受光素子１４、及び光導波路１８をそれぞれ位置決め位置決め部が形成されたサブマウント２２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 安定した光入出射を行うことができる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】 クラッド２、３とコア４との接合体からなり、コア４を通して光が導かれるように構成されている光導波路１の製造方法において、減圧（例えば絶対圧で０．０１〜０．０５ＭＰａ）又は不活性ガス（例えば窒素ガス）雰囲気のチャンバー３０にてコア４を形成する工程と、減圧又は不活性ガス雰囲気のチャンバー３０にてクラッド２又は３とコア４との接合を行う工程とを有することを特徴とする、光導波路１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
波長４２０ｎｍ以下の短波長のレーザ光を用いた場合においても、光利用効率の高い、光導波路アレイを用いた光記録装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、波長４２０ｎｍ以下の光導波路アレイから出射する複数のレーザ光を感光材料上に変調走査して光記録する光記録装置において、該光導波路アレイはアンダークラッド層と、該アンダークラッド層上に在るコア部と、該コア部上面と該コア部側面とを覆うオーバークラッド層とから成り、前記コア部の材質はＳｉＯ_２にＡｌ_２Ｏ_３を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 実装時における個々のケースに応じた設計、製造の必要をなくすことにより、製品化までのリードタイムを短縮し、かつ、コストの低減を図ることができる光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 クラッド層とコア層とを含み、コア層を介して信号光を入射−伝播−出射する光導波路である。コア層が、少なくとも一部において複数層にて形成されている。クラッド層が下部クラッド層２Ａと、中間クラッド層２Ｂと、上部クラッド層２Ｃとからなる光導波路の製造方法である。塗工された下部クラッド層に対しモールドをプレスして溝部を形成し、溝部内に第一のコア層１Ａを塗工する工程と、下部クラッド層上に塗工された中間クラッド層に、同様にして第二のコア層を形成することを１回以上繰り返して、少なくとも一層の第二のコア層を形成する工程と、第二のコア層の形成された中間クラッド層上に上部クラッド層を塗工する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 残渣を小さくすると共に、泡の発生を効果的に防止することができる光導波路等の成形品及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 成形用の凹部１１を有する型１０にコア材等の成形材料４ａを供給する工程と、この成形材料４ａの表面側の不要部分をスキージング等によって除去して平坦化すると共に、成形材料４ａを凹部１１内に充填する工程と、ＵＶ照射等により成形材料４ａを硬化させる工程と、この硬化物４ａ上にコア材４ｂ又はクラッド材２ａ等の接着性材料を設ける工程と、この接着性材料上にクラッド等の他の部材２を押圧しながら前記接着性材料を硬化させる工程と、成形材料４ａを型１０から分離する工程とを有する、光導波路１Ａ等の成形品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、電波を３次元的に閉じ込めることが可能な導波路を提供する。
【解決手段】 第１の誘電体により、誘電体層２を構成する。また、誘電体層２中の所定の欠陥領域（導波路領域４）を取り囲むようにして、第１の誘電体の誘電率よりも高い誘電率を有する第２の誘電体により、複数の高誘電体柱３を周期的に配列する。さらに、誘電体層２の上下に、一対の導体層５Ａ，５Ｂを設ける。所定の波長領域の電波Ｗ１に対して、誘電体層２の延在方向のみならず、この延在方向と直交する上下方向においても閉じ込めることができる。２次元フォトニック結晶を用い、伝播される波が電波（電波Ｗ１）の場合であっても、その波を３次元的に閉じ込めることができ、導波路領域４を選択的に伝播させることが可能な導波路を得る。 （もっと読む）

【課題】 デバイスの微細化を目指し、導波路材料を限定して比屈折率差を大きくしなくとも光損失を抑えるようにした。
【解決手段】 基板上に光導波路２と電気配線１とが形成された混載回路にあって、上記光導波路２の屈曲部に屈曲に応じて光を上記光導波路内に反射させる反射鏡３を光導波路２と同一平面内に形成した。反射鏡３と同一のインクジェット装置にて、光導波路２及び電気配線１を形成した。反射鏡３の材料は、電気配線１の材料と同一の材料である。 （もっと読む）

【課題】膜厚が５μｍ以上であり、表面上に付着しているパーティクルの数が極めて少ない高品質の酸化膜を持ったシリコン基板の製造方法及び酸化膜付きシリコン基板を提供する。
【解決手段】水蒸気を含む雰囲気下においてシリコン基板を熱処理して膜厚が５μｍを超える所定膜厚の酸化膜を表面に形成し、該酸化膜付きシリコン基板の表面を少なくともＨＦ溶液を含む溶液を用いて酸化膜の膜厚が５μｍ以上残存するようにエッチング処理を行い、その後、洗浄を行う酸化膜付きシリコン基板の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、光導波路デバイスの製造方法及び光導波路デバイスに関し、第１のクラッド層（１）の上に、所定パターンのコア層（２）を形成するとともに、該コア層（２）の一部分を除く領域に、該一部分の特定方向にエッチングレートを変化させるマスクパターンを有するエッチングマスク（５）を形成し、該エッチングマスク（５）をマスクとして該コア層（２）を部分的にエッチングするという極めて簡易な製造工程により、低コストでコア層２に縦型テーパ形状に設けることができる。
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【課題】 簡易かつ高精度に光学素子を光導波路の挿入した低光損失で高密度の高分子光導波路デバイスの製造方法を提供することである。
【解決手段】 少なくとも、１）鋳型形成用硬化性樹脂の硬化樹脂層からなり光導波路のコア部に対応する凹部が形成された鋳型を準備する工程、２）該鋳型をクラッド基材に密着させる工程、３）該クラッド基材に密着させた鋳型の凹部にコア形成用硬化性樹脂を充填する工程、４）充填したコア形成用硬化性樹脂を硬化させる工程、５）硬化したコア部の導波方向の中間部に該コア部を切断するように光学素子設置用の空間または溝を作製する工程、６）該空間または溝の所定の位置に光学素子を挿入し位置決めする工程及び７）該光学素子の光路部とコア部とを光接合する工程を含むことを特徴とする高分子光導波路デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高分子系光導波路と比較して光透過性、耐熱性に優れ、また石英系光導波路と比較して加工性に優れた光導波路を提供する。
【解決手段】基板１と、基板上に設けられたクラッド部３と、クラッド部３に埋め込まれたコア部４とを備えている光導波路１００において、クラッド部は、その出発材料としてポリアミド酸を含む溶液とするイミド化反応によって形成されており、コア部は、その出発材料として加水分解性有機金属化合物を含む溶液とするゾルゲル法によって形成されていることにより、光透過性および耐熱性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】 硬化収縮のために発生するコアやクラッドの寸法精度の低下を抑制することができるとともに、少ない工程数で製造を行うことができる導光板の製造方法及び導光板を提供する。
【解決手段】 クラッド支持基板１０上形成した複数条の細溝１２を片面に備える板状のクラッド１３を、当該クラッド１３より高屈折率であるとともに透光性及び可塑性を有するコア材２１に圧接し、コア材２１をクラッド１３に対応する形状に成型する。また、当該圧接した状態でコア材２１を硬化し、コア支持基板２０を分離する。
この製造方法によれば、コア材２１はコア支持基板２０とクラッド支持基板１０上のクラッド１３とに挟まれた状態で硬化されるため、コア材２１の硬化収縮による寸法精度の低下を抑制することができる。 （もっと読む）

【目的】光導波路基板とプリント配線板との密着性を高めこれらを一体化した光電気混載板およびそれを構成する光導波路基板を提供することを目的とする。
【構成】コア部とハロゲン元素を含む第１樹脂からなるクラッド部とを備えた光導波路の少なくとも１面の表層に、第１樹脂と同種の樹脂を含み、かつハロゲン元素を含まない樹脂層を形成した光導波路基板であり、これらの光導波路基板が電気配線層と電気絶縁層とを有する電気配線基板に貼り合せられており、電気配線基板と光導波路基板の間にハロゲンを含まない前記樹脂層が介在している光電気混載基板である。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、光デバイスと光配線層とを効率よく光学的に接続し、集積化および多層化が可能な光接続装置の製造法に関する。
【構成】 光配線層Ａと電気配線層１からなる光電気混在基板において、前記光配線層Ａは１又は複数層とし、該光配線層Ａの光導波路３の光軸に垂直方向に前記光電気混在基板に対してホール５を形成し、該ホール５内には前記光軸を９０度に折り曲げる４５度ミラー６と、前記ホール５上部にはコアパターンを空隙として除去したフォトマスク基板Ｃとをそれぞれ配置し、該基板Ｃと４５度ミラー６との間に感光性媒質Ｂを充填した後に特定の光を照射して前記感光性媒質Ｂ内に連続的な自己形成光導波路１０を形成する。これは垂直部１０ａと９０度折り曲がる水平部１０ｂとを有する。該水平部１０ｂ端は前記光導波路３のそれぞれに接続する。その後、前記フォトマスク基板Ｃを除去すること。 （もっと読む）

本発明は、それぞれが少なくとも1つの動作可能な面を備える各光デバイスの機能性を拡張する方法に関する。この方法は、上記の動作可能な各面のそれぞれの位置を揃えて1つの複合面を形成するようにこの光デバイスを積み重ねることと、複製を受け入れるように構成された膜を上記複合面に被覆することと、この加えられた膜にナノ構造のパターンを複製することとを含んでいる。実質上、動作可能な各面のそれぞれの面が十分な分の上記複製されたナノ構造パターンで複製されて、上記ナノ構造に伴うある機能を遂行することによりデバイスの動作を拡張する。
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【課題】 生産性、材料選択性、凹凸面の設計の自由度、コストおよび波長選択性に優れた基板生成方法、フォトニック結晶素子の生成方法、フォトニック結晶構造の生成方法を提供することを課題とし、さらには、フォトニック結晶構造の光学特性の向上および形状の小型化を図ることを課題とする。
【解決手段】 矩形の溝形状を表面に有する基板を準備し、この上に、スパッタによる成膜とエッチング処理を繰り返して、断面三角形状の面形状を形成する。さらに、その上に、Ｎｉ電界めっきにより、３００μｍ程度の厚さを有するＮｉ膜を形成し、形成したＮｉ膜を剥離して、断面三角形の表面形状を有するスタンパを取得する。取得したスタンパを用いて樹脂材料を射出成形して基板を取得する。この基板表面には、フォトニック結晶構造を積層形成するための断面三角形の表面形状が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 スラブ導波路とアレイ導波路との結合損失を低減する。
【解決手段】 複数の入力導波路４０１から受光した光信号を分岐するスラブ導波路４０２と、所定の導波路長差で順次長くなる複数の導波路の各々に、スラブ導波路４０２で分岐された各々の光信号を入力するアレイ導波路４０３とを含む導波路型光合分波回路において、入力導波路４０１は、スラブ導波路４０２との接続部に接して、入力導波路４０１より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるホログラフィック波動伝達媒体４０６を含む。 （もっと読む）

【課題】光分岐回路において損失の増大の原因となっていた分岐点でのギャップをなくし、分岐損を小さくすることである。
【解決手段】基板１１上に下部クラッド層１２があり、該下部クラッド層１２上に形成された入力導波路１１１は少なくとも一方が湾曲した二本の分岐導波路１１３，１１４に分岐する石英系の積層光分岐導波路において、前記入力導波路１１１は前記基板１１に垂直な方向に複数積層されたコア層よりなり、前記分岐導波路１１３，１１４は何れも前記積層されたコア層の少なくとも一つのコア層よりなり、前記分岐導波路１１３，１１４の前記入力導波路１１１に対する分岐点１１２においてはギャップが存在しないことを特徴とする。 （もっと読む）