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Fターム[2H048GA61]の内容

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【課題】本願発明の目的は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、安価で大面積化が可能で、温湿度変化後にも、柔軟性が維持され、かつ可視光透過性に優れ、赤外線遮蔽性に優れる赤外線遮蔽フィルムおよび赤外線遮蔽体を提供することにある。
【解決手段】基材上に、第一の金属酸化物の粒子および第一のバインダーを含有する低屈折率層と、該低屈折率層に隣接し第二の金属酸化物の粒子および第二のバインダーを含有し、該低屈折率層より屈折率が0.2以上高い高屈折率層とを有するユニットを有する赤外線遮蔽フィルムであって、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくとも1層が、樹脂粒子を含有することを特徴とする赤外線遮蔽フィルム。 (もっと読む)


【課題】近赤外線が眼に及ぼす悪影響を除去すること。
【解決手段】少なくとも可視域の波長を有する光線を透過する基板21と、基板21の少なくとも片面に設けられた多層膜22と、を有し、多層膜22は、750nm以上1800nm以下の波長域の光線を、減光または遮光する光学フィルタ。多層膜は、二酸化珪素(SiO2)からなる第1層と、二酸化ニオブ(NbO2)、二酸化チタン(TiO2)、二酸化亜鉛(ZnO2)、酸化インジウム(In2O3)、リン化インジウム(InP)、ヒ化インジウム(InAs)、アンチモンインジウム(InSb)、三酸化ニオブ(Nb2O3)、酸化アルミニウム(Al2O3)、二酸化ジルコニウム(ZrO2)、五酸化タンタル(Ta2O5)のいずれか1つからなる第2層と、を含む光学フィルタ (もっと読む)


【課題】水系の分散スラリーを用いた塗布法により、近赤外光反射性、可視光透過性に優れ、塗布液の分散安定性があり生産性が高い、近赤外光反射フィルムとそれを用いた近赤外光反射体を提供する。
【解決手段】支持体上に高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した少なくとも1つのユニットを含む近赤外光反射フィルムにおいて、前記高屈折率層と低屈折率層のうち少なくとも高屈折率層に、金属酸化物粒子と下記一般式(1)で表わされる有機原子鎖を有する高分子化合物を含有させたことを特徴とする近赤外光反射フィルム。
一般式(1) −CO−NH−CH−CH−O−CO− (もっと読む)


【課題】良好な複合ミラーシステムを提供すること。
【解決手段】複合ミラーシステムは、複数のミクロ層と、を有するワイドバンドの薄いフィルム干渉スタックと、大気の屈折率より大きいがスタックの最小屈折率より小さい屈折率を有する光学的に厚い層とを含む。該ミラーシステムは、例えば、支持体構造と接触することによって、汚れまたは吸収材料などの他の障害がミラーの裏側に存在する場合、反射率の低下を避けつつ、超臨界角度で、スタック内と光学的に厚い層中を、光が伝播するための高い反射率を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】分光センサー及び角度制限フィルターを小型化する。また、角度制限フィルターの表面の平坦性を向上する。
【解決手段】角度制限フィルターは、第1の遮光性材料を含み、第1の開口部が設けられた第1の遮光層と、第2の遮光性材料を含み、且つ第1の遮光層を囲む領域に位置する第2の遮光層と、第1の遮光性材料を含み、第1の開口部と少なくとも一部が重なる第2の開口部が設けられ、第1の遮光層の上方に位置する第3の遮光層と、第2の遮光性材料を含み、且つ第3の遮光層を囲む領域であって第2の遮光層の上方に位置する第4の遮光層と、を含む。 (もっと読む)


【課題】光利用効率を一層高くすることが可能なプロジェクターを提供する。
【解決手段】励起光を生成する固体光源と、固体光源からの励起光の一部から蛍光を生成する蛍光層と、蛍光層からの光を平行化するコリメーター光学系30とを備え、平行光を射出する光源装置10を備える照明装置100と、照明装置100からの光を画像情報に応じて変調する光変調装置200と、光変調装置200からの光を投写する投写光学系300とを備えるプロジェクターであって、照明装置100は、光源装置10からの光を偏光変換する偏光変換素子50と、光源装置10と偏光変換素子50との間に配置され、光源装置10の光軸近傍の光を通過させ、光源装置10の光軸から離れた周辺部の光を蛍光層に向けて反射する反射手段40とをさらに備えるプロジェクター1000。 (もっと読む)


【課題】周波数安定度の高い原子発振器を得ることが可能な原子発振器用の光学モジュールを提供する。
【解決手段】光学モジュール2は、量子干渉効果を利用する原子発振器用の光学モジュール2であって、所定の波長を有する基本波F、当該基本波の側帯波W1,W2、を含む光L1を出射する光源10と、光源10からの光が入射し、当該入射した光のうち側帯波W1,W2を透過させる波長選択部20と、アルカリ金属ガスを封入し、波長選択部20を透過した光L2が照射されるガスセル30と、ガスセル30に照射された光のうちガスセル30を透過した光の強度を検出する光検出部40と、を含み、波長選択部20は、所定の波長範囲の光を透過させる光フィルター部20aと、光フィルター部20aが透過させる光の波長範囲を変化させる光フィルター特性制御部20bと、を有する。 (もっと読む)


【課題】光遮断特性の入射角依存性が充分に低減され、光選択透過性に優れるとともに、充分な薄膜化が可能な光選択透過フィルター、該光選択透過フィルターに用いられる樹脂シート、及び、該光選択透過フィルターを有する固体撮像素子を提供する。
【解決手段】樹脂シートと、その少なくとも一方の表面に形成されてなる光学多層膜とを含む光選択透過フィルターであって、該樹脂シートは、600〜800nmの波長域に吸収極大を有する色素を含有する樹脂層を有する光選択透過フィルター。 (もっと読む)


【課題】光学特性を維持しながら防塵効果が向上された光学素子、光学モジュールおよび撮像装置ならびに光学多層膜を提供する。
【解決手段】光学素子は、空気への露出面を有する第1の透明導電層と、第2の透明導電層と、第1の透明導電層と第2の透明導電層との間に介在される低屈折率層と、光透過性基材とを含む。低屈折率層の幾何膜厚が、60nm以下であり、かつ第1の透明導電層、低屈折率層および第2の透明導電層の幾何膜厚の総和に対して、6%以上50%以下の範囲内とされる。 (もっと読む)


【課題】水系の屈折率形成用塗布液を用い、製造コストが安く、大面積化が可能であり、膜柔軟性に優れ、可視光透過率が高く、近赤外反射性と耐久性に優れた近赤外反射フィルムとその製造方法及びその近赤外反射フィルムを設けた近赤外反射体を提供する。
【解決手段】基材上に、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットを少なくとも1つ有し、該高屈折率層と該低屈折率層との屈折率差が0.1以上である近赤外反射フィルムにおいて、該高屈折率層及び該低屈折率層の少なくとも1層が、金属酸化物粒子、ゼラチンまたはコラーゲンペプチド、及び酸またはその塩を含有し、かつ該ユニットの膜面pHが4.0以上、6.0以下であることを特徴とする近赤外反射フィルム。 (もっと読む)


【課題】HTPの低いキラル剤を用いて、脆性に優れ、かつヘイズが良好な赤外光反射フィルムを得ることができる、赤外光反射フィルムの製造方法の提供。
【解決手段】(A)重合性コレステリック液晶化合物、(B)HTPが50μm-1以下であるキラル剤、(C)単官能モノマー、及び(D)有機溶媒を含む重合性液晶組成物を基板に塗布する塗布工程と、熱を加えて前記重合性コレステリック液晶化合物を配向させ、コレステリック液晶相の状態とする配向工程と、前記重合性液晶組成物に活性放射線を照射してコレステリック液晶相を固定し、赤外光反射層を形成する照射工程とを有し、前記配向工程後の残留溶媒量を0.20g/m2以上に制御することを特徴とする赤外光反射フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】厚さの薄い膜を精度良く堆積層に堆積させ、波長の推移に伴う光輝度の推移が自由曲線となる自由曲線多層膜干渉フィルターを提供する。
【解決手段】本発明は、波長の推移に伴う光輝度の推移が自由曲線となる自由曲線多層膜干渉フィルターであって、複数の酸化物の薄膜から構成され、前記複数の酸化物の薄膜は交互に100乃至300層積層され、前記積層には光学膜厚50nm以下の極薄膜が挿入され、前記複数の酸化物薄膜の膜厚およびその積層順序には規則性がなく、前記複数の酸化物は、5酸化タンタルと2酸化ケイ素であり、前記自由曲線多層膜干渉フィルターの特性は、前記5酸化タンタル、前記2酸化ケイ素の積層数、前記5酸化タンタル、前記2酸化ケイ素の薄膜の膜厚の積層順序、及び、光学膜厚50nm以下の極薄膜の挿入位置により決定されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】熱線カット性能を備えかつ軽量化され、かつ高い安全性を備えた熱線反射部材を低コストで提供する。
【解決手段】透明基材、中間膜、熱線反射フィルムの順に積層された熱線反射部材であって、かつ前記熱線反射フィルムがポリエステルAからなるA層とポリエステルBからなるB層とが交互にそれぞれ50層以上積層されてなり、かつ波長850〜1200nmにおける平均反射率が70%以上であることを特徴とする熱線反射部材。 (もっと読む)


【課題】高さが異なる面を有する微小な構造体を製造する。
【解決手段】基板の上方に感光性材料層を形成する工程(b)と、感光性材料層の上方にマスクを配置する工程(c)と、感光性材料層のうち、第1の領域以外の部分をマスクによって遮光しながら、第1の領域を露光する工程(d)と、マスクを感光性材料層の面に沿って移動する工程(e)と、感光性材料層のうち、第1の領域の一部である第2領域と、第2領域に接し、工程(d)で遮光された領域の一部である第3の領域以外の部分をマスクによって遮光しながら、第2の領域と第3領域を露光する工程(f)と、感光性材料層を現像することにより、マスクの移動方向に沿って高さが異なる面を感光性材料層に形成する工程(g)と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成で電極間の導通を可能にする波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供すること。
【解決手段】エタロン5は、固定基板51と、固定基板51に対向する可動基板52とを備える。固定基板51は、接合膜531,532を介して可動基板52に接合される第1接合面515と、第1電極561の一部が形成される第1電極面516とを備える。可動基板52は、接合膜531,532を介して第1接合面515に接合される第2接合面524と、第2電極562の一部が形成される第2電極面525とを備える。固定基板51及び可動基板52が接合膜531,532により接合された状態において、第1電極面516に形成された第1電極561と、第2電極面525に形成された第2電極562とが接触する (もっと読む)


【課題】光利用効率及び光走査の安定性を損なうことなく、小型化を図ることができる光走査装置を提供する。
【解決手段】 波長分離デバイス16及び波長分離デバイス17は、それぞれ波長λaの光束を透過させ、波長λbの光束を反射する波長分離面を有している。そして、各波長分離面は、波長λbの光束の透過率が1%以下となるように設計されており、波長分離デバイス17は、波長分離デバイス16で反射された光束の光路上に配置されている。この場合は、波長λaの光束の一部が波長分離デバイス16で反射されても、そのほとんどは波長分離デバイス17を透過し、感光体ドラム2030bに向かうゴースト光の光量を走査光の光量の1%以下とすることができる。 (もっと読む)


【課題】容易に配線を接続可能な波長可変干渉フィルター、光モジュール、光分析装置、及び波長可変干渉フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】波長可変干渉フィルター5では、第1基板51の第2基板52との対向面に第1電極53、第1電極53から延出する第1電極引出部531L,532L、および少なくとも一部が第2電極引出部542Lと対向する第3電極引出部543Lを設け、第2基板52の第1基板51との対向面に第2電極54および第2電極54から延出する第2電極引出部542Lを設け、第2電極引出部542Lおよび第3電極引出部543Lが設けられた引出部形成溝515と、引出部形成溝515と外部とを連通する貫通孔524と、貫通孔524に接続される引出部形成溝515に配置され第2電極引出部542Lと第3電極引出部543Lとを導通させる導電性部材とを備える。 (もっと読む)


【課題】 画角による赤外カットの半値波長のシフト量が少なく、画面中心から画面周辺に至る広い範囲にわたり良好なる画質の画像情報が得られる撮像装置を得ること。
【解決手段】 画像情報を結像光学系によって、一方向に長い矩形状の受光部を有する受光手段に結像させて前記画像情報を得る撮像装置において、光路中に入射光束の分光特性を変化させて出射させる機能を有する多層膜を平行平板に施した分光特性調整手段を有し、
該分光特性調整手段は、前記一方向であって前記結像光学系の光軸に対し垂直方向の軸を回転軸として、該光軸に対して傾いて配置されており、該光軸に対する前記分光特性調整手段の面法線とのなす角度をα、前記受光手段に入射する光束のうち、最軸外主光線と光軸とのなす角度をθとするとき、
0.3θ<α
なる条件を満足すること。 (もっと読む)


【課題】高断熱性を維持したままで日射透過性を向上できる透明積層フィルムと、これを用いた複層ガラスを提供する。
【解決手段】透明高分子フィルム12の少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部14を有する透明積層フィルム10において、透明積層部14の最外膜は高屈折率の金属酸化物薄膜であり、この最外膜に接して低屈折率層16が設けられている。また、この透明積層フィルム10を2枚のガラス板間に配置した複層ガラスとする。 (もっと読む)


【課題】電極間の絶縁を維持しつつ、低コストで、構造を簡素化できる波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供すること。
【解決手段】第1基板51に設けられた固定ミラー54と、第2基板52に設けられ、固定ミラー54と所定のギャップGを介して対向する可動ミラー55と、第1基板51に設けられた第1電極561と、第2基板52に設けられ、第1電極561に対向する第2電極562と、を備える。第1基板51は、第2基板52に接合される第1接合面513を有し、第2基板52は、第1接合面513に接合される第2接合面524を有する。第1基板51には、第1接合面513、及び第1電極561の第2電極562に対向する面に絶縁性を有する第1接合膜531が形成され、第1接合面513及び第2接合面524は、第1接合膜531により接合された。 (もっと読む)


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