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Fターム[2H079KA18]の内容

光の変調 (22,262) | 組合せ光学要素 (2,194) | 光源 (472)

Fターム[2H079KA18]に分類される特許

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【課題】QPSK光送信装置を用いてBPSK光を安定して生成し、単一装置で複数の伝送方式に対応することで、装置生産コスト削減を図る。
【解決手段】第1の位相変調部12aと第2の位相変調部12bに入力されるデータ信号の出力形態を、2並列か直列かに切り替えられる機能を持つフレーマ16を備える。フレーマ16は複数のデータフォーマットから任意のフォーマットのデータ信号を選択して出力する機能を有する。また、受光素子14と第1の制御回路15aの間に反転回路19を設ける。第1の制御回路15aに入力される電気信号は当該回路15aの前に反転回路19に入力されることになる。これにより、第1の位相変調部12aに入力されるデータ信号を遮断し、反転回路19を反転設定として第1の位相変調部12aの透過率を最小点に固定させ、残る一方のデータ信号によって生成された光出力信号の振幅調整を行う。 (もっと読む)


【課題】温度調節手段を用いることなく比較的長波長帯でも長距離伝送が可能な半導体レーザモジュールを提供すること。
【解決手段】半導体レーザ部と、該半導体レーザ部の出力側に配置される電界吸収型変調部と、が形成されるレーザ素子と、該レーザ素子を内部に収容する筒状の筐体と、を含む半導体光モジュールであって、前記電界吸収型変調部は、光導波路層を含むとともに上下に電極が配置されるメサ構造と、該光導波路の両側部に隣接して配置される半絶縁半導体からなる埋め込み層と、を含み、前記埋め込み層は、鉄が不純物として添加されたインジウム燐により構成され、リン酸トリブチルを燐の原料とした埋め込み成長法により形成されたり、不純物としてルテニウムが添加されたりする。或いは、前記メサ構造の最上層は、炭素が不純物として添加された半導体により構成され、上側の前記電極に接触する。 (もっと読む)


【課題】制御を開始したときに、初めに設定したバイアス点が最適なバイアス点から180°位相がずれていても、速やかにバイアス点を最適なバイアス点となるように制御することができる光変調器を提供する。
【解決手段】光送信機10のマッハツェンダ型光変調器12は、低周波信号Psが重畳された入力信号Msと印加されたバイアス電圧Vbsに応じて光CWを変調し、光信号Osとして出力する。MCU40は、光信号Osの低周波成分と低周波信号Psの位相差に基づき、バイアス電圧Vbtを設定する。MCU40は、制御を開始したときに、光信号Osの低周波成分と低周波信号Psの位相差がゼロであった場合、バイアス電圧Vbtにオフセット電圧Vtを重畳して、バイアス電圧をオフセットする。 (もっと読む)


【課題】3値の入力信号を光変調器に印加して光を変調する変調方式において、制御を開始したときに、初めに設定したバイアス点が最適なバイアス点から180°位相がずれていても、速やかにバイアス点を最適なバイアス点となるように制御する。
【解決手段】光送信機は、MCU30を用いてMZ型光変調器に印加するバイアス電圧Vを制御する。MCU30は、低周波信号sをバイアス電圧Vに重畳する。このとき制御入力値fは制御誤差eとなる。制御誤差eがゼロであった場合、MCU30は、低周波信号sを入力信号に重畳する。このとき制御入力値fは判別量dとなる。MCU30は、判別量dの正負符号からバイアス電圧Vが最適なバイアス点にあるかを判定する。 (もっと読む)


【課題】空間光変調器を通過する高強度の光源を必要とせずに、単一通過、高解像度、高速度の画像形成システムを提供する。
【解決手段】高エネルギ赤外レーザから均質光を発生させる均質光発生器110、2次元アレイ内に配列された光変調素子を含む空間光変調器120、およびアナモフィック光学システム130を含む画像形成システム。光変調素子は、各変調素子が関連均質光部分を受信するように配置され、「オン」変調状態と「オフ」変調状態との間で個々に調整可能であり、それによって「オン」変調状態において各変調素子は、関連変調光部分がアナモフィック光学システム130の中の対応する領域上へ向けられるように、受信した均質光部分を変調する。次いでアナモフィック光学システム130は、変調光部分をアナモフィックに集光して、スキャンライン画像を形成する。 (もっと読む)


【課題】 アームの光学特性を得ることができる光干渉素子の測定方法を提供する。
【解決手段】 光干渉素子の測定方法は、入力カプラと、前記入力カプラに接続された第1および第2の半導体アームと、前記第1および第2の半導体アームの出力を干渉させる出力カプラと、を備える光干渉素子の測定方法であって、前記第1の半導体アームを光透過状態にせしめた後に前記第2の半導体アームのバイアスをスイープし、前記出力カプラの出力状態を得るステップと、前記第1の半導体アームを前記光透過状態に比べて大きな光吸収特性を生じるバイアスを印加した状態で前記第2の半導体アームのバイアスをスイープし、前記出力カプラの出力状態を得るステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 光干渉素子の干渉特性の調整を行うことなく、光干渉素子に入力される入力光の特性を精度よく測定することができる、光干渉素子の入力光の特性測定方法を提供する。
【解決手段】 光干渉素子の入力光の特性測定方法は、入力カプラと、前記入力カプラに接続された複数の半導体アームと、前記半導体アームの出力を干渉させる出力カプラと、を備える光干渉素子の入力光の特性測定方法であって、前記複数の半導体アームのうち、1つを除く他のすべての半導体アームに光吸収特性を生じさせる制御を行う第1ステップと、前記第1ステップの後に、前記出力カプラから出力される前記入力光の特性を測定する第2ステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 光干渉素子のクロスポイントチューニングを行うことなく、光デバイスの位置決めを行うことができる、光デバイスの位置決め方法を提供する。
【解決手段】 光デバイスの位置決め方法は、入力カプラと、前記入力カプラに接続された複数の半導体アームと、前記半導体アームの出力を干渉させる出力カプラと、を備える光干渉素子において、前記複数の半導体アームのうち、1つを除く他のすべての半導体アームに光吸収特性を生じさせる制御を行う第1ステップと、前記第1ステップの後に、前記出力カプラから出力される前記入力光を測定しつつ、前記光干渉素子と光結合する光デバイスの位置決めを行う第2ステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数の一次元スキャンライン画像を同時に生成するために使用が可能な高信頼かつ高速の画像形成システムを提供する。
【解決手段】複数行および複数列に配置される光変調素子を有する空間光変調器120を用いて二次元均質光場119Aを変調することにより、2つの略一次元スキャンライン画像SL1、SL2を同時発生させる。上側の変調素子グループは、第1のスキャンライン画像データグループを用いて構成され、かつ下側の変調素子グループは、第2のスキャンライン画像データグループを用いて構成される。次に、二次元均質光場を空間光変調器上へ方向づけるために、均質光源110がパルスされる。二次元変調光場119Bはアナモルフィック光学系130を介して方向づけられ、アナモルフィック光学系は、画像形成面上に2つの平行する一次元スキャンライン画像が同時に形成されるように、変調光を画像形成面上へ画像化し、かつ集中させる。 (もっと読む)


【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系130Eは、画像形成面162Eから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、1つまたは複数の円柱/非円柱レンズ134Eにより全屈折配置に形成される、または円柱/非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系137Eを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場119Bを工程横断方向に画像化するために1つまたは複数の円柱/非円柱レンズ138Eおよび任意選択の円柱/非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系133Eも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、1200dpi以上での印刷を容易にする。 (もっと読む)


【課題】周波数間隔が等しく且つ強度が一定で平坦な光サブキャリアを生成することができ、且つ、装置構成が簡易で装置規模が小さい光サブキャリア生成器を提供する。
【解決手段】非線形な位相−電圧特性を有する光位相変調部25,26を備えたマッハツェンダ型光変調器20と、CW光源31と、光位相変調部25,26に同一振幅電圧Vmの正弦波電圧信号を印加する正弦波電気信号源32と、光位相変調部25に直流バイアス電圧Vb1を印加する直流電圧源33と、光位相変調部26に直流バイアス電圧Vb2を印加する第2の直流電圧源34とを有し、且つ、これらの電圧の大小関係がVb1>Vb2≧Vmであり、光位相変調部25,26のそれぞれを、同一振幅電圧Vmの正弦波電圧信号と互いに異なる直流バイアス電圧Vb1,Vb2とで駆動して、光位相変調振幅を制御することにより、光位相変調部25,26間で非対称に光位相変調を行う構成とする。 (もっと読む)


【課題】光変調しない画素有効領域外からの出射光を抑制して、コントラストを向上させた反射型の空間光変調器を提供する。
【解決手段】基板7上に2次元配列された画素4からなる空間光変調器の画素アレイ40は、各画素4の光変調素子同士を絶縁する素子間絶縁層5を、光の入射される側から順に低屈折率絶縁層52およびそれよりも屈折率の高い高屈折率絶縁層51の少なくとも2層を積層して備える。光が高屈折率絶縁層51の上下界面で多重反射して閉じ込められることにより減衰して、出射光が抑制される。 (もっと読む)


【課題】SHF帯の電波のセンシングを高感度に行うことができる電波受信・光伝送システムを提供する。
【解決手段】電波受信・光伝送システムは、SHF帯の電波を受信するアンテナ11と、アンテナ11から出力された電気信号の電界強度を増幅するデプレッション型トランジスタ23から形成された増幅器13と、トランジスタに一定のバイアス電圧を印可するバイアス回路14と、トランジスタ23に駆動用電源を供給する光電変換素子15と、光電変換素子15に光電変換用の光を出射する光源15と、バイアス回路14にバイアス電源を供給する光電変換素子17と、光電変換素子17に光電変換用の光を出射する光源18とから形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、各構成部品を等長化して組み立てる必要がなく、部品の温度特性及び経時変化が生じてもスキュー調整が容易である位相変調装置を提供することを目的とする。
【解決手段】位相変調装置301は、連続光を出力する光源10と、2つの位相変調器12及び強度変調器15を有し、光源10からの連続光を位相変調器12がそれぞれに入力されるデータ信号(DATA1、2)で位相変調して2つの位相変調光信号を生成し、位相器13が位相変調光信号の一方の位相をπ/2ずらして位相変調光信号の他方と合波した合波信号を強度変調器15が入力されたクロック信号CLKで強度変調しRZ化して出力するRZ位相変調回路101と、RZ位相変調回路101の出力が最大となるように、RZ位相変調回路101の位相変調器12が生成する位相変調光信号の位相をそれぞれ調整する位相制御回路111と、を備える。 (もっと読む)


【課題】光変調器に入力される信号のバイアス電圧を高速かつ効率的に制御すること。
【解決手段】光変調装置は、生成回路と、重畳器と、光変調器と、算出回路と、制御器とを備える。生成回路は、所定の周波数を有する電気信号よりも周波数が低く、かつ、振幅の平均値が振幅の中心値と一致しない低周波信号を生成する。重畳器は、生成回路によって生成された低周波信号を電気信号に重畳する。光変調器は、重畳器によって低周波信号が重畳されて得られた電気信号である入力信号を用いて、光源からの光を変調し信号光を出力する。算出回路は、光変調器によって出力される信号光の周波数成分のうち低周波信号と同一の周波数を有する低周波成分の振幅の平均値と、振幅の中心値とを算出する。制御器は、算出回路により算出された低周波成分の振幅の平均値が振幅の中心値に近づくように、光変調器へ入力される入力信号のバイアス電圧を制御する。 (もっと読む)


【課題】半導体レーザ素子のレーザ光スペクトルの線幅を抑えること。
【解決手段】複数のレーザ素子と、複数のレーザ素子のそれぞれに導波路を介して接続され、複数のレーザ素子が出力するレーザ光を合流する光合流器と、光合流器から出力されるレーザ光を増幅する半導体光増幅器と、記光合流器及び半導体光増幅器と同一の基板上において、複数のレーザ素子のそれぞれと光合流器との間の経路上にそれぞれ形成された複数の波長選択フィルタとを備える半導体光素子。 (もっと読む)


【課題】従来の光送信装置で問題となっていた位相変調光の平均値変動による直交制御最適点の誤検出を防ぐことにより、安定した位相シフト量(動作点)の調整を行うことができる光送信装置を提供する。
【解決手段】分岐部39とLPF32と加算器(減算器)33とを有する構成の信号補正手段40を、光送信装置の制御ループ22に設ける。分岐部39ではモニタPD31で得られた電気信号b3を、第1の分岐信号b3−1と、第2の分岐信号b3−2とに分岐する。LPF32では第2の分岐信号b3−2の低周波成分を通過させて、第2の分岐信号b3−2から高周波成分を除去することにより、第2の分岐信号b3−2の平均値b4を得る。加算器33では、第1の分岐信号b3−1から、LPF32で得られた第2の分岐信号b3−2の平均値b4を差し引くことにより、補正モニタ信号b5を得る。 (もっと読む)


【課題】パルス幅が200フェムト秒以下で、パルス繰り返し周波数が高い短パルス光の発生を可能とする。
【解決手段】短パルス光発生装置は、任意の中心光周波数をもつCW光源1と、CW光源1からの連続レーザー光を位相変調する位相変調手段2と、位相変調手段2からの光パルスを間引いてピークパワーを高める光ゲート5と、光ゲート5を通過した光パルスを増幅し、光増幅器6内での非線形効果によって光スペクトル帯域を拡大した広帯域光を発生させる光増幅器6と、光増幅器6によって増幅された光パルスを圧縮する分散付与手段7とを備える。 (もっと読む)


【課題】MgOを障壁層として磁化反転電流を低減したTMR素子構造を備える光変調素子を提供する。
【解決手段】光変調素子5は、磁化固定層11、MgOからなる障壁層12、磁化自由層13を積層してなるTMR素子構造1と、その上下に接続した上部電極3、下部電極2を備える。下部電極2は、組成がCu1-xCrx(0.07<x<0.42)である非晶質のCu−Cr合金からなり、磁化固定層11は非晶質の磁性体からなり、このような非晶質の層の上に、障壁層12としてMgO膜が形成されるため、MgO膜が強い(001)面配向を示して、TMR素子構造1の磁化反転電流を低減できる。 (もっと読む)


【課題】周波数特性の劣化を防ぐことができる光デバイスを得る。
【解決手段】n型InP基板1上に、光分波器2、マッハツェンダ光変調器3,4、及び光合波器5が設けられている。光分波器2は入力光を第1及び第2の入力光に分波する。マッハツェンダ光変調器3,4は、第1及び第2の入力光をそれぞれ変調する。光合波器5は、マッハツェンダ光変調器3,4により変調された光を合波する。マッハツェンダ光変調器3の位相変調電極8a,8bとマッハツェンダ光変調器4の位相変調電極14a,14bは、マッハツェンダ光変調器3,4の光導波路6a,6b,12a,12bの延在方向に対して垂直な方向から見て互いに重ならない。 (もっと読む)


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