【課題】表示領域の周辺部分近傍に見られる表示ムラを無くし、優れた表示品位の液晶表示装置を得る。
【解決手段】各々にスイッチング素子を有する複数の画素１３がマトリクス状に形成された表示領域３と表示領域３の外側であってスイッチング素子に信号を供給する引き出し配線６が形成された引き出し配線領域４とを有するアレイ基板２と、アレイ基板２上に、表示領域３と引き出し配線領域４の境界からアレイ基板２端部に向けて、相互に平行に延在する複数の畝状の凸部１０と、表示領域３を覆う配向膜９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の液晶層を有する液晶素子を容易に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】マザー積層体３０を複数に分断し、少なくともひとつの内部空間１６ｂ、２０ｂ、２５ｂを有する複数の積層体片３１，３２を作製する第１の分断工程を行う。各積層体片３１，３２の内部空間１６ｂ、２０ｂ、２５ｂに注入口１６ａ、２０ａ、２５ａから液晶を注入し、封止することにより液晶層３５ａ〜３５ｃを形成する注入工程を行う。中間マザーガラス板１４，１９を複数のマザーガラス板片１４ａ、１４ｂ、１９ａ、１９ｂにより構成する。第１の分断工程において、マザー積層体３０を、面方向に隣り合うマザーガラス板片１４ａ、１４ｂ、１９ａ、１９ｂの間において切断する。 （もっと読む）

【課題】反射部を構成する溝の構造を改良して、入射した光をより効率よく画素電極に向かわせることのできる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０の基板本体２０ｗ（透光性基板）には、隣り合う画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する第１溝２６０が形成されている。また、基板本体２０ｗの一方面２０ｓおよび第１溝２６０の側面２６１、２６２には透光膜２５が形成されており、かかる透光膜２５によって、第１溝２６０と平面視で重なる領域には、第１溝２６０より深くて第１溝２６０より幅が狭い第２溝２６５が形成されている。このため、第２溝２６５の側面２６６、２６７を反射面として利用し、画素間領域１０ｆに向かおうとする光を画素電極９ａに向かわせる。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことができるとともに、溝の側面が封止用の膜で覆われることを最小限に抑えることのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、溝２６０を中空に封止するにあたって、第１封止膜２７を形成する前、溝２６０内に犠牲膜２４を形成しておき、第１封止膜２７を形成した後、第１封止膜２７の貫通部２７５を介して犠牲膜を除去する。そして、第１封止膜２７上に第２封止膜２８を形成し、第１封止膜２７の貫通部２７５を第２封止膜２８で塞ぐ。このため、第１封止膜２７を溝２６０の開口部２６５を塞ぐように形成することができるとともに、第１封止膜２７が溝２６０の奥まで形成されることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０に溝２６０を形成した後、第２基板２０に封止膜として金属膜２７を形成する。この時点では、金属膜２７において溝２６０の開口部２６５と重なる領域に開口部２７５が形成されているが、金属膜２７を加熱して溶融させると、金属膜２７の開口部２７５が塞がれ、その結果、溝２６０の開口部２６５が金属膜２７によって塞がれ、溝２６０の内部は中空となる。しかる後には、金属膜２７のうち、溝２６０の外部に形成されている部分を除去する一方、溝２６０の内部で開口部２６５を塞ぐ部分を残す。従って、溝２６０の側面２６１、２６２を反射面として利用することができる。 （もっと読む）

【課題】電気光学物質中のイオン性不純物を所定の位置に確実に保持しておくことができる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、素子基板１０には、シール材１０７の封止材１０８が設けられている辺１０７ａと、画像表示領域１０ａとの間に凹状のイオン吸着部１０５が形成されている。イオン吸着部１０５において、凹部の内面はシリコン酸化膜からなる配向膜１６からなり、かかる配向膜１６は、クロマトグラフィーの担体としての機能を発揮し、イオン性不純物を吸着する。 （もっと読む）

【課題】入射する光を効率よく利用可能な電気光学装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、一対の基板と、一対の基板のうち素子基板１０に設けられた画素電極１５と、画素電極１５に対応して設けられた薄膜トランジスター（ＴＦＴ）３０と、一対の基板のうち対向基板２０に設けられた対向電極としての共通電極２３と、画素電極１５、共通電極２３、画素電極１５と共通電極２３との間に挟持された液晶層５０およびＴＦＴ３０を含む画素と、入射した光を画素に向けて集光させる集光素子としてのマイクロレンズ２６と、液晶層５０に対してマイクロレンズ２６と反対側に設けられると共に、ＴＦＴ３０と平面的に重なって配置され、液晶層５０を透過した光の一部を射出側に反射させる光反射部としてのプリズム１１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】使用者の状況（例えば背丈）に応じた視認性のよい表示画像を実現する。
【解決手段】出射光が偏光した画像表示装置１と組み合わせて用いられる画像制御装置１００であって、画像表示装置１の前面側に配置される光学素子５と、画像表示装置１００の使用者の高さを検出するセンサ７と、センサ７によって検出された使用者の高さに応じた電圧で光学素子５を駆動する光学素子駆動部６を備える。光学素子５は、第１基板及び第２基板と、第１基板上に設けられ、光学素子駆動部６と接続された第１電極と、第１基板上に設けられたプリズムアレイと、第１電極及びプリズムアレイの上側に設けられた第１配向膜と、第２基板上に設けられ、光学素子駆動部６と接続された第２電極と、第２電極の上側に設けられた第２配向膜と、第１基板と第２基板の間に設けられた液晶層を有する。 （もっと読む）

【課題】剥離帯電を抑制することができ、白ムラや白曇りが生じ難いフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板を製造するとき、半導体素子が形成されるガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面を洗浄し、洗浄された前記ガラス表面にエッチング処理を施す。前記エッチング処理が施された前記ガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下になるように前記洗浄処理と前記エッチング処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスを形成する過程において薄膜が形成される面への、処理液の付着を抑制できるガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイス用のガラス基板の搬送方向に沿って複数の搬送ローラを配置し、搬送ローラの一部はエッチャントに浸漬し、搬送ローラを駆動してガラス基板を搬送する際、搬送ローラに吸収されたエッチャントがガラス基板の一方の面である第１面に付着することによって粗面化することを前提とする。本発明では、電子デバイスの製造過程において薄膜が形成されるガラス基板の他方の面である第２面に、エッチャントが付着することが抑制されるように、搬送ローラに保持されるエッチャント量を調整する。 （もっと読む）

【課題】シートガラスを搬送して納入先業者に搬送する場合であっても、あるいは、シートガラスを長期間保管する場合であっても、ガラス面の洗浄度の低下を抑制することができる、シートガラス、シートガラスの製造方法、およびシートガラスの積層体を提供する。
【解決手段】シートガラスの製造方法は、薄板状のガラスを切断することによりシートガラスを作製する工程と、前記シートガラスの表面を洗浄する工程と、洗浄された前記シートガラスに、表面に凹凸を有する水溶性保護膜を形成する工程と、前記水溶性保護膜が形成された前記シートガラスをシートガラスの積層体に積層する工程と、を有する。シートガラスには、その表面に凹凸を有する水溶性保護膜が形成されている。前記水溶性保護膜の算術平均粗さＲａは、０．０５〜３０μｍである。 （もっと読む）

【課題】所望の配向方向からのずれが小さな位相差素子およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】位相差素子３０は、配向膜３１の表面に位相差層３２が形成されたものである。配向膜３１は、基板４０の表面に無配向性薄膜５０が形成された構造となっている。無配向性薄膜５０は基板４０表面に形成された複数の微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面に倣って形成されている。無配向性薄膜５０の表面に位置する多数の分子は、配向性を有しておらず、ランダムな方向を向いており、下地である基板４０の表面（特に微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面）の分子配向の、位相差層３２への影響を緩和している。 （もっと読む）

【課題】ギャップ材のサイズを縮小しなくても液晶層の層厚を薄くすることのできる液晶装置および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００では、素子基板側基板本体１０ｄおよび対向基板側基板本体２０ｄのうち、対向基板側基板本体２０ｄにおいて、ギャップ材８１を含むシール材８０と重なる領域には、素子基板側基板本体１０ｄとの間隔を大きくする段差部２０ｈを有している。このため、シール材８０と重なる領域では、素子基板１０と対向基板２０との間隙が広いが、シール材８０より内側の領域では、素子基板１０と対向基板２０との間隙が狭い。従って、ギャップ材８１のサイズを縮小しなくても、液晶層５０の層厚を薄くすることができる。 （もっと読む）

【課題】シーリング材のオーバーフローを避けることができるフレキシブル表示装置を提供する。
【解決手段】フレキシブル表示装置１００は、フレキシブルプレート１０２と、表示ユニット１０４と、シーリング材１０６を含み、フレキシブルプレート１０２は凹部１０８を有する。表示ユニット１０４は、フレキシブルプレート１０２に配設され、凹部１０８に隣接し、シーリング材１０６が、凹部１０８に形成されて表示ユニット１０４の側面を覆う。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、周辺シール部における有機パッシベーション膜と有機パッシベーション膜の上に配置された低温ＣＶＤによって形成された層間絶縁膜の剥離を防止する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材２０を介して接着している。ＴＦＴ基板１００には、有機パッシベーション膜１０９が形成され、その上に、低温ＣＶＤによって形成されたＳｉＮ膜による層間絶縁膜１１１が形成されている。有機パッシベーション膜１０９の表面には、ハーフ露光によって形成された多数の凹凸が形成されている。有機パッシベーション膜１０９表面の凹凸によって有機パッシベーション膜１０９と層間絶縁膜１０９との接着面積が増加することによって接着力が向上し、液晶表示パネルの信頼性が向上する。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率を高めることができると共に比較的容易に製造可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）及び第２基板（２０）と、第１及び第２基板のうち入射光が入射される側の一方の基板上における画素領域の非開口領域に、互いに絶縁膜を介して積層された複数の反射部（２１０）とを備え、複数の反射部は、一方の基板の入射光が入射される基板面から遠いものほど、一方の基板上における平面的な幅が広い。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、例えば各画素における光透過率を高め、明るく高品位な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、素子基板（１０）と、素子基板に設けられた画素電極（９）と、素子基板の少なくとも一部に形成された半導体素子（３０）と、前記素子基板の少なくとも一部に形成された溝（２１０ｖ）からなる光反射部（２１０）とを備え、半導体素子は、素子基板上で平面的に見て、光反射部と互いに重なるように配置されると共に、少なくとも溝の開口部を覆うように設けられた平坦化膜（２１１）上に配置される。 （もっと読む）

【課題】表示パネルの表面に直接貼付される偏光板などの光学部材が剥離し難い表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示パネル１を構成する一対の基板２ａ、２ｂの表面に凹部７を形成し、その凹部７と厚み方向において端部を対向させた状態で偏光板５を配置する。偏光板５の端部に存在していたバリ５ａは凹部７内に逃がされるため、バリ５ａの影響を受けることなく偏光板５を液晶表示パネル１の表面に確実に密着させて貼付することができる。 （もっと読む）

【課題】ハードマスクを使用して斜方蒸着層を形成する限り、ハードマスク起因の合わせずれや寸法誤差によるずれを解決することは困難である。特に、上下導通領域の構成要素である素子電極を覆うように蒸着粒子が回り込んだ場合、上下導通領域は蒸着粒子の付着により電気抵抗値が高くなり、液晶装置の表示にむらが発生するという課題がある。
【解決手段】素子電極１２２を覆うよう付着した斜方蒸着層前駆体１８ａ’を除去して斜方蒸着層１８ａを形成する。素子電極１２２を覆う斜方蒸着層前駆体１８ａ’の除去にはＣＭＰ法が好適な手段となる。自己整合的に位置合わせが行えるため、アライメントずれ等が発生せず、高い形状精度を持った状態で斜方蒸着層前駆体１８ａ’を除去でき、液晶装置の表示むらが抑えられる。 （もっと読む）