【課題】可動部を正確に揺動させることが可能な光偏向装置および光偏向装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】光偏向装置は、基板と、平板形状の可動部と、可動部を基板の上方に離反した位置で揺動軸の周りに揺動可能に支持する可撓梁と、可動部を揺動させるアクチュエータと、基板上に設置されているとともに可撓梁の下方から可撓梁に接離可能な下限規制部と、を備えている。揺動軸に垂直な断面における可撓梁の下面の形状が、下限規制部の上方に位置する領域において、曲面を有して下方へ突起している形状とされているか、または、揺動軸に垂直な断面における下限規制部の上面の形状が、曲面を有して上方へ突起している形状とされている。 （もっと読む）

【課題】投影装置の設置位置および姿勢への制約をなくしつつ、厳密な射影歪補正を行うことにより、所望の映像を正確に投影させることができる投影技術を提供する。
【解決手段】映像光源４１０、映像光源４１０からの入射光の方向を変換して出射光とする光路変換平面と、前記光路変換平面からの出射光によって、投影対象となる投影平面に対する投影を行う投影装置であり、光路変換平面は、入射光の進行方向を個別に変換可能な光路変換素子４２１が複数配列され、映像光源４１０と光路変換平面との間の光路の方向を示す一次輻射ベクトルから、光路変換平面と投影平面との間の光路の方向を示す二次輻射ベクトルへ変換するための光路変換関数を演算する投影演算部４３０と、光路変換関数に基づいて、光路変換素子４２１を制御する光路制御部４２２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】可動部を正確に揺動させることが可能な光偏向装置および光偏向装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】光偏向装置は、基板と、可動部と、可動部を基板から離反した位置で揺動軸の周りに揺動可能に支持している可撓梁と、可動部の下面に対向する位置において基板に設けられている固定電極と、可動部に設けられている可動電極と、を備えている。可動部の下面には、基板側へ突出している突起部が形成されている。突起部は、可動部の揺動軸を含み可動部に垂直な面の面内に頂点を有している。可動部を揺動させている期間において、突起部が基板に接触している。 （もっと読む）

【課題】使用する部材を最小限に抑え、高い信頼性を維持しつつ、チップのパッドとパッケージのパッドの結線組み合わせを自由に変更する。
【解決手段】パッケージは、通常パッドＫ０１〜Ｋ４８と、予備パッドＫ０５”〜Ｋ１０”，Ｋ１５”〜Ｋ２０”，Ｋ２９”〜Ｋ３４”，Ｋ３９”〜Ｋ４４”を有する。チップ１上に配置されたＭＥＭＳミラー素子Ｍ０１〜Ｍ１２の数をＮ、使用する素子の数をｎ、１個の素子あたりの電極数をＮｅ、パッケージの１つの短辺の半分あたりの通常パッドに接続されると想定される素子の最大個数をｈとしたとき、予備パッドを、パッケージの２つの短辺の両端にそれぞれＮｅ／２×（Ｎ−ｎ）／２個ずつ配置すると共に、（Ｎ−ｎ）／２個とｈ−（Ｎ−ｎ）／２個のうち小さい方の個数にＮｅ／２を掛けた個数の予備パッドを、パッケージの２つの長辺の両端にそれぞれ配置する。 （もっと読む）

【課題】パッドから取り出す電気信号のＳ／Ｎ比を向上させることが可能なＭＥＭＳデバイスを提供する。
【解決手段】ＳＯＩ基板１００を用いて形成されたミラー形成基板（デバイス本体）１を備える。ミラー形成基板１は、第１のシリコン層１００ａに形成され電気信号を生成する可動電極（機能部）２２と、第１のシリコン層１００ａ上に形成され電気信号を取り出すためのパッド１３ａと、第１のシリコン層１００ａにおいてパッド１３ａが形成された島状の導電部１１ａｃとを有する。導電部１１ａｃと第１のシリコン層１００ａにおける導電部１１ａｃの周辺部位とを絶縁分離するように第１のシリコン層１００ａに第１の分離部１０ａａが形成され、第２のシリコン層１００ｂのうち導電部１１ａｃおよび絶縁層１００ｃとともに寄生コンデンサを構成する部分の面積を低減するように第２のシリコン層１００ｂに第２の分離部１０ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】複雑な制御が不要で低コストに任意のＰＭＤを発生させることができるようにする。
【解決手段】光入射部２１に入射された光信号を偏波分離手段２３により二つの直交偏波成分に分離し、その一方を第１可変遅延手段２５に与え、他方を第２可変遅延手段２６に与え、第１可変遅延手段２５によって遅延された一方の直交偏波成分と、第２可変遅延手段２６によって遅延された他方の直交偏波成分とを偏波合波手段２８によって合波し、光出射部２９から出射させる。制御部３０は、第１可変遅延手段２５と第２可変遅延手段２６の遅延量を互いに異なる周期で変動させて、その周期差により、偏波合波手段２８で合波された光の偏波成分の群遅延時間差を変化させる。 （もっと読む）

【課題】照明光の走査に拘わらず、波面変調素子によって付与した所望の波面を精度よくリレーでき、かつ、装置の小型化を図る。
【解決手段】光源２からの照明光を、その光軸に交差する方向に走査する走査機構９と、該走査機構９に固定され、光源２から入射された照明光の波面を変調して射出する波面変調部８とを備えるスキャナ４を提供する。また、光源２からの照明光を、その光軸に交差する方向に走査する走査機構９と、光源２と走査機構９との間の光路上に走査機構９との間に間隔を空けて配置され、光源２から入射された照明光の波面を変調して走査機構９に射出する波面変調部８とを備え、該波面変調部８が、該波面変調部８から走査機構９までの光路において波面に発生する変化を相殺する波面を、照明光に付与する波面に加算して付与するスキャナ４を提供する。 （もっと読む）

【課題】方向性のある力以外の力を用いてステージを移動させる駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置１００は、ベース部１１０と、回転可能な被駆動部１３０と、ベース部１１０と被駆動部１３０とを接続し、且つ被駆動部１３０を一の方向に沿った軸を中心軸として回転させるような弾性を有する弾性部１２０と、被駆動部１３０及び弾性部１２０により定まる共振周波数で被駆動部１３０が一の方向（Ｙ軸）に沿った軸を中心軸として共振しながら回転するように被駆動部１３０を回転させるための微振動をベース部に加える印加部１４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶基板の配向膜に細かいピッチの線状の光パターンを照射して一方向に走査すると、その走査した方向に応じた一様な配向特性（プレチルト角）が配向膜に付与されるが、従来のマスクを介して光パターンを照射して露光する方式では露光の時間が長くかかり、実用化する上でネックになっていた。
【解決手段】光源から発射された露光光に偏光特性を付与して微小な可動ミラーを多数備えたマイクロミラーデバイスに入射させ、マイクロミラーデバイスの微小な可動ミラーにより形成された反射パターンで反射された露光光のパターンを投影光学系を介してステージに載置された表面に配向膜が形成された基板に投影して配向膜を露光する液晶用配向膜を露光する方法において、ステージを一方向に連続的に移動させることにより一方向に連続的に移動している基板上を露光光のパターンがステージの移動速度よりも遅い速度で移動して配向膜を露光するようにした。 （もっと読む）

【課題】スペクトルバンドを入力ポート（１２）と出力ポート（１５）との間に選択的に方向付ける波長ルータを提供する。
【解決手段】上記ルータは、上記入力ポートと上記出力ポートとの間に配置された自由空間光学縦列と、経路設定メカニズム（３０）とを含む。上記自由空間光学縦列は、エアスペースエレメント（２０、２５）を含み得るか、または、モノリシック構成であり得る。上記光学縦列は、回折格子などの分散エレメント（２５）を含み、該入力ポートからの光が該分散エレメントと２回当たった後に上記出力ポートに到達するような構成にされる。上記経路設定メカニズム（３０）は、ルーティングエレメントを１つ以上含み、上記光学縦列中の残りのエレメント（３７）と協働して、上記スペクトルバンドのサブセットを所望の出力ポートに結合させる光路を提供する。 （もっと読む）

【課題】マイクロミラー素子の構成に基づいてより大きな光束を用いて投影画像を明るくすると共に、投影画像の明るさの左右のバランスを均等化する。
【解決手段】マイクロミラー23ａを配列面から＋Ａ°または−Ａ°(Ａ＞０)に傾斜駆動させ、反射光で光像を形成するマイクロミラー素子(23)に対し、配列面で各マイクロミラー23ａが＋Ａ°傾斜した際に対向する方向から45°未満の回旋方向より、配列面の法線となる正規の反射方向に対して、入射角が(２Ａ＋α)°(α＞０)、収束する頂角が(２Ａ＋２α)°となる照明系光束φＬを入射させ、各マイクロミラー23ａから頂角が(２Ａ＋２α)°となって拡散しながら出射する投影系光束φＰを入射し、投影対象に向けて投影する投影光学系(24)を備える。 （もっと読む）

【課題】ポート選択特性のみならず減衰率特性についても高精度な温度補償を実現する。
【解決手段】波長選択スイッチの制御回路１０５は、入力ポート１０１と出力ポート１０２間の損失が最小となる条件に対応した最適結合電圧情報、所望の減衰率を実現する減衰率制御電圧情報、温度と最適結合電圧との関係を表す温度補償電圧情報、減衰率に応じて温度補償電圧を修正する補償電圧修正値情報を記憶するメモリ１０８と、メモリ１０８に記憶された情報から所望のポートおよび所望の減衰率に対応する二軸ＭＥＭＳミラー装置１０４の制御電圧を算出し、所望の減衰率に対応する補償電圧修正値を決定し、温度センサ１０６が検出した温度と温度補償電圧情報と補償電圧修正値とから温度補償電圧を算出し、温度補償電圧を制御電圧に加える演算部１０９とを有する。 （もっと読む）

【課題】高精度で、しかも、高い量産性、高い歩留りにて、補強部が備えられたミラー本体部を有するミラー構造体を提供する。
【解決手段】ミラー構造体１０は、（Ａ）ミラー本体部２２、及び、該ミラー本体部２２の表面に設けられた光反射層２１を備えたミラー２０、（Ｂ）ミラー２０を支持するミラー支持部２７、並びに、（Ｃ）ミラー支持部２７を保持する保持部４０から成り、ミラー本体部２２の裏面には、貼合せ層１０４を介して補強部３０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】スペックル雑音の低減率が低いという問題を解決することが可能な投射型画像表示装置を提供する。
【解決手段】光源部１０２は、光ビーム１０７を出射する。ビーム断面形状変化部１０３は、光源部１０２からの光ビーム１０７の断面形状を変化させて光ビーム１０８として出射する。投射部１０４は、ビーム断面形状変化部１０３からの光ビーム１０８を投射して、画像を投射する。制御部１０５は、ビーム断面形状変化部１０３を制御して、投射部１０４から投射される光ビームの断面形状を時間的に変化させる。 （もっと読む）

【課題】光軸調整が必要となる要素を極力省き、高精度で動作が安定な波長選択光スイッチを提供する。
【解決手段】この波長選択光スイッチ１は、光分波器１０と集光光学系２０とミラーアレイ３０とを有する。光分波器１０は、１つの入力ポートＰin及び複数の出力ポートＰｏｒｔ１〜ＰｏｒｔＮを有する入出力導波路１１と、入出力導波路１１と接続された第１スラブ導波路１２と、集光光学系２０と空間結合する第２スラブ導波路１３と、第１スラブ導波路１２と第２スラブ導波路１３とを接続しているアレイ導波路グレーティング１４とを同一基板上に形成してなる平面光波回路である。そして、入力ポートＰin及び各出力ポートＰｏｒｔ1〜ＰｏｒｔＮに光ファイバ１６-０〜１６-Ｎがそれぞれ直接接続されている。光軸調整が必要となるのは、光分波器１０と集光光学系２０間及び集光光学系２０とミラーアレイ３０間のみである。 （もっと読む）

【課題】可変減衰精度および動作の安定性の向上を実現することができる空間光デバイスを提供する。
【解決手段】出力ポート１２に入射する信号光の割合を示す光透過率が、ＭＥＭＳミラー装置１００の電極に電圧を印加してミラー１０３を回動させたときに極大となるようにする。これにより、電極に印加する電圧の全電圧範囲に亘って光透過率の変化が線形に近くなるので、可変減衰精度および動作の安定性の向上を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】実装時の素子の破損を回避し、素子の歩留りを向上させる。
【解決手段】マイクロミラー素子は、ミラー基板１００と、ミラー基板１００と対向して配置される電極基板２００と、ミラー基板１００に変位可能に形成された可動電極である板ばね１０３ｂと、電極基板２００上に、板ばね１０３ｂとの間に空隙を設けた状態で対向して配置された断面略Ｕ字形状の駆動用固定電極２０１ｂと、駆動用固定電極２０１ｂの壁電極部の上に形成された絶縁層２０５ｂと、絶縁層２０５ｂの上に形成されたシールド電極２０６ｂとを備える。板ばね１０３ｂは、駆動用固定電極２０１ｂの底部と壁電極部と絶縁層２０５ｂとシールド電極２０６ｂとによって囲まれる空間の中に入るように配置される。 （もっと読む）

【課題】方向性のある力以外の力を用いてステージを移動させる。
【手段】駆動装置（１００）は、ベース部（１１０）と、回転可能な被駆動部（１３０）と、弾性部（１２０）と、被駆動部及び弾性部により定まる共振周波数で被駆動部が一の方向（Ｙ軸）に沿った軸を中心軸として共振しながら回転するように被駆動部を回転させるための微振動をベース部に加える印加部（１４０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのばねが、機械的な荷重に頻繁にさらされる場合でも、その機能を確実に満たすことが保証されているようにする。
【解決手段】マイクロマシニング型の構成部材であって、保持部材が設けられており、該保持部材に対して少なくとも第１の位置から第２の位置に調節可能な構成要素が設けられており、該構成要素が、保持部材に少なくとも１つのばね２０を介して結合されている。少なくとも１つのばね２０に配置されたシリサイド含有の少なくとも１つの線路区分３０，３２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】従来の３次元積層型導波回路においては、全体の作製プロセスが複雑であるという問題点があった。さらに、有機系の接着剤を用いてスタック構造を形成する場合の長期的な信頼性の問題や、クラッドに使用される材料の軟化点温度の低さのために、各層に渡って一貫して精度の良い回路を作製できない問題もあった。
【解決手段】本発明による光導波回路の作製方法においては、基板上に、アンダークラッド、コア、中間クラッド、コアのように順次積み重なった２層以上のコア層を、フォトマスクを用いて露光し、それら多層コア層を含むガラス膜を一括してエッチングすることによって形成する。同一構造の光導波回路を３次元的に一括して加工形成することを特徴とする。さらに、上述の方法により作製した２つの積層型ＡＷＧをオーバークラッド層を向かい合わせにしてスタックさせる構造により、等価的により多くの層を積層可能となる。 （もっと読む）