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Fターム[2H150BC02]の内容

光ファイバ、光ファイバ心線 (14,865) | 心線の構造 (460) | 被覆層構造 (342) | 2層 (186)

Fターム[2H150BC02]に分類される特許

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【課題】細径光ファイバ裸線を用いても伝送損失の増加を抑制できると共に、VCSELなどのアレイ状光素子との接続作業が容易なテープ状光ファイバを提供する。
【解決手段】コア2の周囲にクラッド3を有して外径が125μmよりも小さい細径光ファイバ裸線4と、細径光ファイバ裸線4の外周に形成された被覆層とからなる複数の光ファイバ10と、複数の光ファイバ10の外周に設けられた一括被覆層11とを備え、複数の光ファイバ10は、コア2の間隔が一定であるとともに、被覆層が相互に接するように並列されており、被覆層は、その被覆層の外径がコア2の間隔と等しくなる被覆厚さを有するものである。 (もっと読む)


【課題】フォトニック結晶ファイバーの強度及び統合性を、適切に保護するコーティングを提供。
【解決手段】フォトニック結晶ファイバー及び前記フォトニック結晶ファイバーを取り囲む保護コーティング、ここで前記保護コーティングが1.45より低い屈折率を有する、を含む被覆されたフォトニック結晶ファイバーであって、前記保護コーティングが組成物を硬化させることにより得られたものであり、前記組成物が、少なくとも1のエチレン性不飽和基を有するオリゴマー;アルコキシ化アルキル置換されたフェノールアクリレートを含む反応性希釈剤;及び少なくとも1つの光開始剤を含む、被覆されたフォトニック結晶ファイバー。 (もっと読む)


【課題】低吸水率、高屈折率及び高柔軟性の硬化物を与えるとともに、硬化性に優れた放射線硬化型樹脂組成物、及び、光ファイバ用被覆組成物、並びに、これを用いた光ファイバ素線、及び、光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で示される化合物と
(B)ラジカル重合開始剤と
を含有することを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物。


[一般式(I)中、Rは水素原子またはアルキル基を表し、Zは2つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。] (もっと読む)


【課題】水または高湿度下に曝された場合においても伝送ロスが増加しにくい光ファイバ提供する。
【解決手段】光ファイバ14は、ガラス光ファイバ11と、該ガラス光ファイバ11の外周に被覆された少なくとも軟質層12と硬質層13の2層の被覆層と、を有し、湿熱下における前記ガラス光ファイバ11と前記被覆層の限界密着力を0.50N/10mm以上としたことを特徴とする。前記硬質層のガラス転移温度は、好ましくは90℃以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、非加熱式リムーバを用いた場合でも、オーバーコート層を容易に除去することができ、かつ、ピストニング特性および耐外傷性に優れた光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の光ファイバ心線1は、光ファイバ2と該光ファイバ2の外周を被覆する被覆層3とを有する光ファイバ素線4と、該光ファイバ素線4の外周を被覆するオーバーコート層5とを有しており、光ファイバ素線4の表面動摩擦力が0.12N/回〜0.48N/回の範囲とされている。 (もっと読む)


【課題】光ファイバの被覆材の剥ぎ取り荷重を精度良好に測定することができるとともに、光ファイバの被覆材の剥ぎ取りにおける被覆材の切断に必要な第一の引き抜き荷重と、剥ぎ取り開始直後から剥ぎ取り中に引き抜く際の第二の引き抜き荷重を同時に測定することができる光ファイバの被覆材剥ぎ取り荷重測定装置及びその測定方法を提供する。
【解決手段】光ファイバの被覆材に押し当てられて前記被覆材に圧縮応力を印加するためのカシメ部材、及び印加された圧縮応力によって前記被覆材に切り込みを入れるための刃からなる剥ぎ取り機構と、前記刃を前記光ファイバの軸方向にスライドさせる際に、引き抜き荷重をゼロから徐々に増加させていくことによって前記被覆材の剥ぎ取り荷重を測定する剥ぎ取り荷重測定機構とを有することを特徴とする光ファイバの被覆材剥ぎ取り荷重測定装置。 (もっと読む)


【課題】破断強度の平均値が高いと共にばらつきが小さい、長手方向に安定した破断強度の信頼性の高いプラスチッククラッド光ファイバ心線およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラスチッククラッド光ファイバ心線6は、純シリカなどの石英系ガラスからなるコアガラス1の外周に、紫外線硬化型フッ化アクリレート樹脂などのフッ素系樹脂からなるクラッド層2と、紫外線硬化型樹脂からなる紫外線硬化層3とを前記コアガラス1から離れる方向に順に設けてなるプラスチッククラッド光ファイバ素線4の外周に、さらに、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)などのフッ素系熱可塑性樹脂からなる樹脂被覆層5を押出被覆して形成される。 (もっと読む)


【課題】取得できるホーリーファイバのファイバ長を大幅に増やし、かつ、製造過程で、クラック等の発生も生じることがない新規なホーリーファイバ用母材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】軸中心にコア部2を備えた石英ガラスコアロッド1のコア部2以外の領域に複数の孔開け加工を施して孔開け石英ガラスロッド4を形成し、その孔開け石英ガラスロッド4を延伸して延伸石英ガラスロッドを形成し、その延伸石英ガラスロッドを石英管で一体に覆ってホーリーファイバ用母材を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、光ファイバのクラッドに可視光を入射させ、光ファイバから漏光させ、外被覆も一部透過させることにより、光ファイバコードを目視で区別できる光ファイバコードを提供することにある。
【解決手段】本発明は、光ファイバコード11に取付けられた光コネクタ17に設けられ、光ファイバコード11の光ファイバのクラッド15に可視光を入射させる可視光導入部13と、前記可視光導入部13に可視光を入射する可視光源12とを具備することを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】シリコーン樹脂を被覆材とした光ファイバ素線の作製において、被覆材の偏肉を改善すること。
【解決手段】光ファイバ裸線に対し、第1の塗布装置によって熱硬化型樹脂を塗布し、次いで第1の熱架橋炉によって熱硬化型樹脂を硬化させることで1層目の被覆層を形成する工程と、第2の塗布装置によって熱硬化型樹脂を塗布し、第2の熱架橋炉によって熱硬化型樹脂を硬化させることで2層目の被覆層を形成する工程とを有する光ファイバ素線の製造方法において、線速をV[cm/分]とすると、第1の塗布装置のダイス出口から第1の熱架橋炉までの距離L[cm]が、線速20000cm/分以下の範囲において、1≦L≦−0.0005×V+15.5なる関係式を満たすこと。 (もっと読む)


【課題】 伝搬される光の損失が小さい光ファイバ素線の製造を実現できる光ファイバ素線の製造方法及び光ファイバ素線製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 光ファイバ素線10の製造方法は、光ファイバ母材1から溶融ガラス11を線引きする線引工程と、冷却装置30により、溶融ガラス11を冷却固化することで光ファイバ12とする冷却工程と、被覆装置40により、光ファイバ12に樹脂を塗布し、塗布した樹脂を硬化することで、光ファイバ12を樹脂層により被覆して光ファイバ素線10とする被覆工程と、を備える光ファイバの製造方法であって、線引工程における溶融ガラス11、及び、被覆工程における光ファイバ12の振動周波数が10Hz以上200Hz以下とされていることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】 UVランプを用いた紫外線照射装置と比較して長寿命、低消費電力、且つ、低ランニングコストの紫外線照射装置及び光ファイバの被覆形成方法を提供する。
【解決手段】 光ファイバF1の表面に紫外線硬化型樹脂からなる被覆層C1,C2を塗布し、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させる紫外線照射装置において、紫外線硬化型樹脂に、紫外線を照射可能な位置に設けられた少なくとも2つ以上の半導体発光素子34を備え、第1及び第2半導体発光素子は紫外線を発し、それらのピーク波長が異なっている。この装置は、光ファイバFを囲むと共に内部にガスが流れる包囲管31を有している。 (もっと読む)


【課題】十分な光学特性を有し、外観の優れたPOFケーブルを得るための製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック光ファイバの外周に被覆内層(A)と被覆外層(B)を被覆したプラスチック光ファイバケーブルの製造方法において、ニップルとダイスを備えた第1の押出被覆装置を用いて、プラスチック光ファイバの外周にポリアミド系樹脂被覆材からなる被覆内層(A)を被覆して一次被覆ケーブルを形成し、ニップルとダイスを備えた第2の押出被覆装置を用いて、前記一次被覆ケーブルの外周にポリアミド系樹脂被覆材からなる被覆外層(B)を被覆する。 (もっと読む)


【課題】 光ファイバを被覆する紫外線硬化型樹脂を十分に硬化可能な紫外線照射装置及び光ファイバの被覆形成方法を提供する。
【解決手段】 半導体発光素子35は、矢印K1〜K4で示されるように、光ファイバFに近づいたり、離れたりするように移動し、集光レンズ34を介して集光される紫外線UVの集光位置が移動する。この集光位置は、被覆樹脂上とすることもできるし、被覆樹脂の位置からは外すこともできる。光ファイバの高速線引時には、外層C2の表面又は内層C1の表面上に集光位置を合わせるが、光ファイバの低速線引時には、外層C2の表面又は内層C1の表面上から集光位置をずらす。換言すれば、線速に応じて、半導体発光素子35の光ファイバFからの距離が変わり、低速時には照射強度が小さくなり、高速時には照射強度が高くなる。 (もっと読む)


【課題】 UVランプを用いた紫外線照射装置と比較して長寿命、低消費電力、且つ、低ランニングコストの紫外線照射装置及び光ファイバの被覆形成方法を提供する。
【解決手段】 光ファイバF1の表面に紫外線硬化型樹脂からなる被覆層C1,C2を塗布し、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させる紫外線照射装置において、紫外線硬化型樹脂に、紫外線を照射可能な位置に設けられた少なくとも2つ以上の半導体発光素子34を備え、第1及び第2半導体発光素子は紫外線を発し、それらのピーク波長が異なっている。 (もっと読む)


【課題】被覆樹脂の硬化性及び装置寿命を向上させることが可能な紫外線照射装置及び光ファイバの被覆形成方法を提供する。
【解決手段】導光路61の長手方向両端部からは、半導体発光素子35から導光路61の長手方向に沿って紫外線UVが導入されるが、この紫外線UVは、導光路61の光ファイバF側の側面から出射され、集光レンズ62によって集光され光ファイバ表面に塗布された被覆樹脂C1,C2に照射される。樹脂被覆上でライン幅1mm程度に集光される。紫外線光源は、その発光波長のピーク位置が紫外線硬化型樹脂の吸収波長のピーク位置と重なることが好ましい。紫外線光源から発せられた紫外線UVは、ライン状に導光路全体にわたって上下方向に沿って広げられ、その光ファイバ側に具備された集光レンズにて、2層の樹脂被覆上で1mm幅程度の縦長ライン状に集光される。 (もっと読む)


本発明は、新たな被覆システムを用いた小径光ファイバに関する。曲げ感度の低いガラスファイバと組み合わせたとき、本発明に係る新たな被覆システムは、非常に低い損失を有する。この被覆システムは、(1)いかなる環境および厳しい物理的条件においてもマイクロベンディングから保護するために非常に低い温度特性を備える柔らかい一次被覆と、(2)改良されたカラー強度および鮮明さを有する着色された二次被覆とを特徴とする。二次被覆は、ロバストな構成であるが、容易に入れられる改善されたリボン特性をもたらす(すなわち、分離および剥離)。選択的な二重被覆は、特にファイバリボンにおける優れた熱ストリップ用(ガラス状に実質的に何も残らない)にバランスが取られている。これは、迅速なスプライシングと終端を促進する。改良された被覆システムは、全てではないかもしれないが多くのファイバー・トゥ・ザ・プレマイズ(FTTx)システムの展開に大きな利点を与える光ファイバを提供する。 (もっと読む)


脂肪酸変性エポキシアクリレートである少なくとも1種の放射線硬化性オリゴマー;少なくとも1種のエチレン性不飽和反応性希釈剤を含み;前記オリゴマーおよび希釈剤は、ウレタン化学的性質を有する部分を含まない基から選択される、内側一次コーティング、外側一次コーティング、単一被覆、マトリックス、または緩衝樹脂組成物として使用され得る放射線硬化性コーティング組成物を含む、内側一次コーティング、外側一次コーティング、単一被覆、マトリックス、または緩衝樹脂組成物として使用され得る放射線硬化性コーティング組成物。この組成物は、試験すると、自然対流炉中180℃で100時間の硬化試験片の曝露後に、10%未満の重量損失で測定されるような熱分解に対する耐性を有することがわかっている。 (もっと読む)


【課題】伝送損失、耐湿熱性、耐屈曲性などを維持しつつ、被覆層との密着性に優れた屋内配線や自動車内配線用のプラスチック光ファイバコードを提供する。
【解決手段】コアと、少なくとも1層のクラッドからなるプラスチック光ファイバ1の外層に少なくとも1層の被覆層2を設けたプラスチック光ファイバコードであって、プラスチック光ファイバの最表層のクラッドが下記の成分を含有し、かつ、30mm長さにおける被覆層とプラスチック光ファイバ素線との密着力が50N以上であるプラスチック光ファイバコード。フッ化ビニリデン:52〜72モル%、テトラフルオロエチレン:26〜46モル%、ヘキサフルオロプロピレン:2〜8モル% (もっと読む)


【課題】透光性、耐湿熱性、耐屈曲性、被覆層との密着性などを維持しつつ、耐熱時の寸法安定性、特に、ピストニングに優れた屋内配線や自動車内配線用のプラスチック光ファイバコードを提供する。
【解決手段】コアと、少なくとも1層のクラッドからなるプラスチック光ファイバ1の外層に少なくとも1層の被覆層2を設けたプラスチック光ファイバコードであって、プラスチック光ファイバの最表層のクラッドが下記の成分を含有し、かつ、85℃24時間加熱処理後のピストングが±0.5mm以内であるプラスチック光ファイバコード。フッ化ビニリデン:52〜72モル%テトラフルオロエチレン:26〜46モル%ヘキサフルオロプロピレン:2〜8モル% (もっと読む)


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