【課題】本発明は、洗浄能力の非常に高い基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】板状の基板と、円柱状の氷と、板状の基板に対し、基板の両面に円柱状の氷を一定の圧力で全面に押し当て、これら２つの円柱状の氷の回転軸と基板の中心軸の３者が一致するように保持する加圧手段と、円柱状の氷を互いに逆向きに回転させる回転手段とを有することを特徴とする基板洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】チューブはターンテーブル上のレールに対して常時的な接触となり、洗浄液が回り込まない。洗浄液に接触する部分と接触しない部分とではエッチングに相違が生じ、チューブの底面に凹凸が発生する。チューブを減圧装置に設置し、真空ポンプを用いて減圧状態にすると、底面の凹凸に起因してリークが発生し、所定の減圧ができなくなる。その結果、均一な成膜がむずかしくなる。
【解決手段】半導体製造装置の部材であって洗浄対象となる被洗浄部材（チューブ）ｍを支持した状態で、洗浄液を噴射する洗浄装置であって、被洗浄部材を支持する複数の支持点５ａ…有する第１の支持具５Ａと、第１の支持具の複数の支持点とは別の部位で被洗浄部材を支持する複数の支持点６ａ…有する第２の支持具６Ａと、第１の支持具５Ａと第２の支持具６Ｂを交代的に作用状態と非作用状態とに切り替える支持具切替機構７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 傷がなく、表面光沢の優れる研削加工基板を与える円盤状ポ−ラスセラミック製チャックの洗浄方法の提供。
【解決手段】 研削加工された基板を除去するたびに円盤状ポ−ラスセラミック製チャック１２を洗浄する方法において、この円盤状ポ−ラスセラミック製チャック上でブラシ洗浄された研削加工基板の枚数に応じて始めはセラミック製竿３２のみで１回チャック洗浄し、次ぎのチャック洗浄からｒ回（ｒは１〜１００の整数である。）はブラシ３１のみでチャック洗浄し、以降、研削加工された基板が取り去られた円盤状ポ−ラスセラミック製チャックをセラミック製竿３１のみで１回、続いてブラシのみでｒ回規則正しく円盤状ポ−ラスセラミック製チャック表面をチャック洗浄することを繰り返す。従来のセラミック製竿３１のみでチャック洗浄する方法と比較し、ブラシ洗浄を塀用することでチャックの磨耗量が減少し、傷がなく、表面光沢の優れる研削加工基板を与える。 （もっと読む）

【課題】 少量の洗浄液で再汚染を防止する。
【解決手段】 洗浄システム１００は、装置本体２、ワークＷが載置される基板テーブル３、汚染物質Ｐに対して洗浄液を供給する洗浄液供給ユニット１２、洗浄液に超音波を付与するホーン超音波発振器１３、洗浄液を吸引する吸引ユニット１４、位置検出ユニット１５、および制御手段１６で構成されている。ワークＷを洗浄する際には、ワークＷに存在する汚染物質Ｐに対して洗浄液供給ユニット１２から液滴を供給し、この液滴にホーン超音波発振器１３から超音波振動を付与して汚染物質Ｐを被洗浄物から脱離させる。また、吸引ユニット１４を用いてワークＷから脱離した汚染物質Ｐを液滴とともに吸引して除去する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置、実装基板及び液晶基板において、薄膜材料に限定されることなく、基板表面の端縁及び／又は基板裏面に形成された不要な薄膜を容易に除去することのできる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板１０６の表面の端縁及び／又は基板１０６の裏面に形成された薄膜を除去する基板処理装置であって、被処理基板１０６を支持する基板保持部１０１と、除去すべき薄膜が形成されている被処理基板１０６の領域に向けて高温スチーム又はブラスト材を吹きつける噴射ノズル１０４と、前記噴射ノズル１０４から被処理基板１０６に吹きつけられた高温スチーム又はブラスト材が、被処理基板１０６において薄膜が除去される必要のない領域に侵入することを防止する手段１０２とを備えている基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェハの有機物汚染を軽減する有機物除去装置および除去方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機物除去方法は、減圧された処理室５内に配置される半導体ウェハＷに付着した有機物の除去を行う。半導体ウェハＷに波長２００ｎｍ以下の紫外線を照射し、半導体ウェハに付着した有機物を分解する。そして、処理室５内に、酸素マイナスイオンラジカルまたは酸化物イオンと酸素マイナスイオンラジカルを含む単原子イオンから成るマイナスイオンを供給して、マイナスイオンを紫外線により分解された有機物と反応させる。この酸化反応によって、有機物が半導体ウェハＷから、気体として放出され除去される。 （もっと読む）

【課題】被搬送物を適切に搬送できる搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置２は、無端体６と、無端体６に搬送方向に沿って並設した複数の搬送板８とを備える。各搬送板８は、無端体６に水平状態に固定した固定板部を有する。固定板部の搬送方向に沿った一端部には突出部を設け、固定板部の搬送方向に沿った他端部には回動板部を上下方向に回動可能に設ける。容器Ｗを第１領域ではともに水平状態の固定板部および回動板部上に載せた水平姿勢で搬送でき、第２領域では突出部と起立状態の回動板部とにて支えた傾斜姿勢で搬送できる。
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【課題】 超臨界流体を洗浄媒体として用いたときに、パーティクルの除去効率が向上する洗浄方法を提供するものである。
【解決手段】 被洗浄物を配置したチャンバー内に洗浄媒体を供給し、洗浄媒体に対して、１相状態の超臨界状態（ｃ点）と気液２相状態（ｄ点）を行き来させて、被洗浄物の表面に付着したパーティクルを除去する。 （もっと読む）

【課題】 過冷却液体から氷の微粒子を含む処理液を製造する場合に、汚染物質が混入する心配が無く、生成された氷の微粒子が溶解することもない装置を提供する。
【解決手段】 下部に液体導入口１８および気体噴出口２４を有し上部に氷の微粒子を含む処理液の流出口２８を有する本体部１０を備え、液体導入口１８を通って本体部内１０へ導入された過冷却液体中に気体噴出口２４から気体を噴出して過冷却状態を解除し、生成された氷の微粒子を含む処理液を本体部１０内から流出口２８を通って流出させる。 （もっと読む）

【課題】ピッチングの発生しない、光沢の優れた白肌のステンレス鋼を製造するためのコイル状ステンレス鋼線材の脱スケール方法を提供すること。
【解決手段】予めそのコイル状のステンレス鋼線材をコイル形状に保ったままショットブラストをかけてステンレス鋼線材の表面のスケール層を完全に除去することなく５〜１０μｍの範囲の厚み幅に制御してスケールを残存させ、しかる後に酸洗処理を行う。例えば酸洗処理は、第一の酸洗処理とソルト処理及び第二の酸洗処理とからなり、酸洗液として弗酸と硫酸を含有し、酸濃度が２０〜２５重量％の範囲にある比較的高濃度の酸液と酸濃度が５〜１５重量％の範囲にある比較的低濃度の酸液のうち選択された１種又は２種の酸洗液を用いてそれぞれ１段階又は２段階処理する。 （もっと読む）

【課題】 基板へのダメージを低減しつつ、基板表面の不要物を効率的に除去することのできる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】 スピンチャック１に略水平に保持された基板Ｗを回転させた状態で、基板裏面Ｗｂに対して摂氏７０度以上に加熱された純水（温水）を供給する一方で、基板表面Ｗｆに対して窒素が過飽和に溶解された純水を処理液として供給する。基板裏面Ｗｂに供給された温水により基板Ｗが昇温され、基板表面Ｗｆに接液する処理液から溶解させている窒素を泡として効率的に発生させることができる。これにより、基板表面Ｗｆのパーティクルを効率良く除去するとともに排出される。しかも、基板表面Ｗｆで直接に泡を発生させているので泡が成長することなく比較的小さな泡で基板Ｗを処理することができるので、基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 塵埃を確実に除去でき、しかも、塵埃除去の処理効率（処理数）を確保できる除塵装置を提供する
【解決手段】 複数の載置台５を具備することにより、一の載置台で除塵処理が行われている間、他の載置台においてワーク集積体２１の搬入、搬出の作業を行うことが可能となり、単位時間当たりのワーク２０の除塵処理数を増大させることができる。また、上部エアノズル７１と側部エアノズルと７２を具備し、ワーク集積体２１の上方及び側方からエアを吹き付け、ワーク集積体２１の各ワーク２０が偏り無く拡開して分離するように構成している。これにより、ワーク２０間に挟まった塵埃を確実に除去することが可能となる。従って、ワーク２０の除塵処理数が増大し、処理能率が向上する。また、除塵効果が高まり、ワーク２０への塵埃付着に伴う不良発生を防止できる。つまり、処理効率と除塵効果との向上を同時に実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 段ボールに付着したトナーを飛散させることなく清掃すると共に、清掃時間を短縮する。
【解決手段】 トナーが付着した段ボールＤにウレタンのシート材１８を被せ、段ボールＤとシート材１８との間に、吸込みノズル１６を吸込み口１７を横向きにして挿入し、吸込みノズル１６の下面を段ボールＤに、上面をシート材１８に密接させて矢印Ａ方向にスライドさせながら吸込み装置１２を作動させる。 （もっと読む）

【構成】 本発明は、マット洗浄後に真空吸入手段を設けることで洗浄後に残留する水分などを真空吸収して直ちに乾燥させることを可能とするマット真空洗浄機を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、マット洗浄機２の後端に真空吸入手段３６を設置し、洗浄した後にマット６上に残留する洗浄水と異物質および各種のバイ菌などを真空で吸入・除去して直ちに使用できるように素早く乾燥させ、かつ真空吸入手段３６の周辺には電熱手段１８を設置し、３０℃〜６０℃の常温で暖めることによって洗浄や乾燥の過程でのマット６の変形を直す構成とする。 （もっと読む）

【課題】 基板に接触して洗浄する洗浄部材の表面のみならず内部をも浄化させることができる部材洗浄機構を備えた基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ウエハ洗浄装置１０は、ウエハＷを保持するスピンチャック１１と、ウエハＷの表面に接触して洗浄する伸縮性のある洗浄部材３２を有するブラシ３０と、ブラシ３０を基板処理位置と待避位置との間で移動させるブラシ移動機構２０と、待避位置において洗浄部材３２を洗浄するためのブラシ洗浄機構５０を具備する。ブラシ洗浄機構５０は、洗浄部材３２を圧縮／自然膨張させるように洗浄部材３２と相対的に接離自在に設けられた円柱部材５２と、洗浄部材３２に純水を供給する第１の部材洗浄ノズル５４ａを有する。洗浄部材３２は、自然膨張した状態で純水を吸収し、圧縮される際に吸収した純水とともに洗浄部材３２の表面および内部の汚れを排出し、浄化される。 （もっと読む）

【課題】一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９の外縁部を保持する円環状の基板保持部２、基板９の下面にドライ物理洗浄を行う第１洗浄機構３、および、基板９の上面に液体を用いるウェット洗浄を行う第２洗浄機構４を備える。第１洗浄機構３は、基板９の下面に向けて固形の二酸化炭素の微粒子を噴出する外部混合型の２流体ノズルである噴射ノズル３１を備える。第２洗浄機構４は、基板９の上面に洗浄液を供給する洗浄液供給部４２、洗浄液が供給された基板９の上面を洗浄する洗浄ブラシ４１を備える。基板洗浄装置１では、基板保持部２に保持された基板９の下面に対して第１洗浄機構３によりドライ物理洗浄が行われ、上面に対して第２洗浄機構４によりウェット洗浄が行われることにより、一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 段差のある被処理材を部分的に表面処理する場合であっても、処理ガスを漏洩させることなく、被処理部材の処理領域のみを均一に表面処理を行うことができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】 処理ガスが吹き出す処理ヘッド１の処理ノズル４１の処理表面４１ｄに、被処理材Ｗ１の処理領域Ｆ２を対向配置し、前記処理表面４１ｄと前記処理領域Ｆ２との間に処理ガスを流して、被処理材の表面処理を行う装置であって、処理ヘッド１の処理ノズル４１は、前記被処理材Ｗ１の処理領域Ｆ２に隣接した非処理領域Ｆ１に密着する密着部４１ｃを備え、さらに処理ノズル４１は、キャリアガスが供給される給気流路５４と、前記処理後のガス及び前記供給されたキャリアガスを排気する排気流路５３と、を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】光洗浄では除去しきれない有機物汚染の除去を、効果的に短時間で効率的に行うことができ、洗浄に伴う光学部品の温度上昇も殆どない光学部品の洗浄方法、洗浄装置を提供すること。
【解決手段】この洗浄方法は、容器内を減圧するステップと、減圧された容器内にプラズマを生成可能な所定のガスを供給するステップと、容器内に備えられた電極に電力を印加するステップとを有し、電力印加により容器内に生成されたプラズマを用いて、容器内に配置された洗浄対象を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 ワークチャックにおける異物の残存率を低減することができるワークチャックの洗浄装置を提供する。
【解決手段】 多数のピン１４が下向きに突設され且つその先端で半導体ウェーハを吸着保持した状態で回転するワークチャック１２と、複数の毛束を突設すると共にワークチャック１２に毛束の先端が当接した状態で回転する表面ブラシ４１と、ワークチャック１２又は表面ブラシ４１の少なくとも一方をワークチャック１２の半径方向に変位させる変位駆動機構とを備える。 （もっと読む）