【課題】転写後の成形品に生じた箔バリを簡単に除去する箔バリ除去装置を提供する。
【解決手段】成形品の側面に生じた箔バリを付着させるための粘着テープを送り出すテープ供給装置と、成形品を保持する治具と、上記治具をその中心が楕円を描くように移動させる治具駆動部とを備え、上記治具の中心が楕円を描くように移動させて上記成形品の側面を上記粘着テープに押し付けることによって、上記箔バリを上記粘着テープに付着させて除去する。 （もっと読む）

【課題】連続して搬送される小径の管体の管内異物除去を、ばらつきなく確実に行うことができる管内異物除去装置を提供することにある。
【解決手段】所定間隔で所定方向に配列した複数のノズル４と、気体状の媒体をノズル４に供給して高圧力で噴射させる媒体供給手段５と、ノズル４の媒体噴射方向と管体２の管軸方向を一致させ、かつ該ノズル４の先端開口４ａと所定の距離を設けて該管体２の片方の管端開口２ａが対向配置され、他方の管端開口２ｂが開放されるように複数の管体２をそれぞれ保持し、ノズル配列方向に管体２を搬送する管保持搬送機構３とを備え、管保持搬送機構３に順次供給保持され搬送される各管体２の片方の管端開口２ａに、各ノズル４から媒体が噴射され、該媒体が該管体２の管内を管軸方向に流下するようにする。 （もっと読む）

【解決手段】 搬送コンベヤ３は、左右一対のチェーン１４、１４と、搬送方向に等間隔で設けられた複数の当接手段４を備えている。組み立て状態の折り畳み式容器２は、その開口部を下方に向けた状態で当接手段４に被せるようにして搬送コンベヤ３上に供給される。
搬送コンベヤ３によって搬送される各折り畳み式容器２は、洗浄ゾーンＢにおいて洗浄液が噴射される。その際、洗浄液の圧力によって各容器２の側面板２Ｃ，２Ｃが内方側へ折り込まれようとしても、それらは当接手段４に当接して折り込まれるのが防止されて各容器２の組み立て状態が維持される。
【効果】 折り畳み式容器２の内外を確実、かつ十分に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを水平姿勢で保持する基板保持部１と、基板Ｗに接触して基板Ｗを洗浄する洗浄ブラシ７と、洗浄ブラシ７の側方に設けられ、処理液の液滴をキャリアガスとともに基板に噴射して基板を洗浄する二流体ノズル９と、洗浄ブラシ７と二流体ノズル９とを保持する保持アーム５と、この保持アーム５に連結して設けられ、基板Ｗ面に沿って洗浄ブラシ７と二流体ノズル９とを移動させる単一のアーム移動機構と、を備えている。このように構成される基板処理装置によれば、洗浄ブラシ７と二流体ノズル９を移動させる単一のアーム移動機構を備えているので、装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能が一層向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】クリーン度の高い磁気記録媒体の両面に付着した塵埃を効率良く除去すること、また塵埃の再付着のない処理方法を提供すること。
【解決手段】第１の発明は、磁気記録媒体の少なくとも表面の付着物を粘着テープを用いて捕集するに際し、磁気記録媒体を粘着テープを介して接触させた複数のロールで挟み、このロールを回転させて粘着テープを走行させると共に、磁気記録媒体をロールに対して移動させるか又はロールを磁気記録表面に沿って移動させ、磁気記録媒体の少なくとも表面の付着物を粘着テープにより捕集する。
第２の発明は、磁気記録媒体の少なくとも表面の付着物を粘着テープを用いて捕集するに際し、磁気記録媒体を中央の開口部を中心に回転させ、回転する磁気記録媒体の表面に粘着テープを介してロールを接触させ、磁気記録媒体の少なくとも表面の付着物を粘着テープにより捕集する。 （もっと読む）

【課題】一辺が１ｍを超える大型ガラス基板の加工後の洗浄において、大型ガラス基板の各洗浄、乾燥工程間の搬送経路が短く、広い設置スペースを必要としないコンパクトな構成の大型基板洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】薬液用スプレーノズル３１と、該ノズルの上部に配置され、上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツールを１つ以上３２、３３有し、且つ、１つ以上の上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツール３３の最上部に配置された対向する一対のシャワーノズル３４と、該ノズルの上部に配置された対向する一対のジェットノズル３５とを有する洗浄部３０と、洗浄部３０の上方に配置された対向する一対のエアーナイフ４１を具備する乾燥部４０と、大型基板９０を直立させて保持する基板保持搬送治具５０と、洗浄部３０の下方に配置された投入払出部６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の被洗浄表面上に付着あるいは析出した種類の異なる異物を基板の一度の相対移動工程中に確実に除去して洗浄できる基板洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板１の被洗浄表面に向けて大気圧プラズマの二次プラズマを吹き出すプラズマ洗浄手段５と、プラズマ洗浄手段５と並列して配設され、テープ状の洗浄クロス１２にて基板１の被洗浄表面を拭き取り洗浄する拭取洗浄手段４と、基板１の被洗浄表面をプラズマ洗浄手段５と拭取洗浄手段４の並列方向に相対移動させる移動手段３とを備え、拭取洗浄手段４は洗浄クロス１２にオゾン水を含浸させる手段を有している。 （もっと読む）

【課題】基板の外周端部の全体を洗浄することが可能な基板保持回転装置、それを備えた基板洗浄装置および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗのベベル洗浄処理時には、マグネットプレート６１４ａが下方位置に配置され、マグネットプレート６１４ｂが上方位置に配置される。この場合、マグネットプレート６１４ａの外方領域Ｒ１においては各チャックピン６１５が閉状態となり、マグネットプレート６１４ｂの外方領域Ｒ２においては各チャックピン６１５が開状態となる。すなわち、各チャックピン６１５の保持部６１５ｃは、マグネットプレート６１４ａの外方領域Ｒ１を通過する際に基板Ｗの外周端部に接触した状態で維持され、マグネットプレート６１４ｂの外方領域Ｒ２を通過する際に基板Ｗの外周端部から離間する。 （もっと読む）

【課題】衛生用紙等の連続紙の製造工程において、クレームの原因となるような紙粉の塊が加工設備に大量に堆積する前に紙粉を除去し、製品内への紙粉の混入を防止する紙粉除去装置、及び衛生用紙の折り機を提供する。
【解決手段】走行する連続紙７に接してその連続紙の走行方向を変化させるガイド手段１０が製造ライン上に備えられており、ガイド手段１０に押えられた連続紙７は、ガイド手段１０の下流側端部１１から離脱することによって走行方向を変化する。ガイド手段１０は、板状に、また下面は、平坦に形成されており、その下面に沿って、連続紙７が走行するように構成されている。紙粉除去装置１は、ガイド手段１０の下流側端部１１から連続紙が離脱する離脱領域５に、連続的にエアを吐出する連続エア吐出部２と、その連続エア吐出部２に隣接し、間欠的なエアを吐出するエアパージ吐出部３とを備える。 （もっと読む）

【課題】内刃を水洗い洗浄する際に外刃も同時に洗浄して、内刃や外刃に付着した毛屑や皮脂などを効果的に洗い落とすことができる電気かみそりの清掃具を提供する。
【解決手段】清掃具は、外刃ホルダー１２が装着された状態のヘッド部２に着脱自在に装着される洗浄部４５と、ヘッド部２に装着した洗浄部４５を分離不能に係合保持する保持構造８５を備えている。洗浄部４５は、洗浄液を貯留できるよう容器状に形成してあり、洗浄部４５に貯留した洗浄液に内刃１８と外刃１９とを浸漬した状態で同時に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】モータユニットに付着した塵埃や汚染物質を、ユニットが完成した状態でも、軸受などに対して影響を及ぼすことなく効果的に除去することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】超臨界状態よりも低い圧力のチャンバ内で、超臨界二酸化炭素を噴出する第１のノズルと、超臨界二酸化炭素を吸引回収する第２のノズルとが一体になったノズルユニットを、被洗浄物の被洗浄表面に対して相対的にトラバースさせ、被洗浄面に対して第１のノズルから超臨界二酸化炭素を噴出すると共に、第２のノズルから、超臨界二酸化炭素と共に被洗浄物の表面から剥離した粉粒体または被洗浄物の表面から溶解した汚染物質を吸引回収する。これにより軸受オイルの二次汚染することなく確実に洗浄できると共に、被洗浄物に大きな荷重を与えないので、変形を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 多数の容器を使用する工場において、容器乾燥装置の前工程として必ずあった容器洗浄装置の設置場所の確保が必要であった。
【解決手段】 扉部１３を有する外装部１２を有し、外装部１２の内部に積層された容器Ｃを載置するターンテーブル１と、ターンテーブル１の上部にターンテーブル１の回転中心から同距離で対向する位置に２本づつ立設させるコラム２と、クランプ部４を開閉するクランプ開閉用シリンダー６と、ターンテーブル１から間隔を有した外周に外周方向において略等間隔に垂直方向に複数の洗浄管２０を立設し、各々の洗浄管２０は上下方向に複数ほぼ等間隔に洗浄ノズル２１を内側に向かって設けた容器洗浄遠心乾燥機Ａを有する容器洗浄遠心乾燥装置による。 （もっと読む）

【課題】ベベル部の汚染に起因する基板の処理不良の発生を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、ベベル処理ブロック１０、反射防止膜用処理ブロック１１、レジスト膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜用処理ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。ベベル研磨部５０では、ベベル研磨ユニットにより基板Ｗのベベル部に研磨処理が施される。それにより、基板のベベル部に付着する汚染物が確実に取り除かれる。 （もっと読む）

【課題】基板とフォトマスク及びプラテンの除塵を効率的に行うことにより、歩留まりの高い露光を実現する。
【解決手段】搬入ハンドの搬入と退避動作の際に、第１クリーニングヘッドがプラテンの上面に接触し除塵を行う。第２クリーニングヘッドはフォトマスクの除塵を行う。除塵に際して加圧装置１６により軸受１７を通して軸２２に荷重をかけ、この荷重は硬質連結カラー２３、軟質連結カラー２４、ローラ芯２１、クリーニング部２０へと伝わり、クリーニング部２０がクリーニング面８に押し当てられる。加圧装置１６の荷重により軸２２は撓むが、軸２２の撓みは軟質連結カラー２４により吸収され、ローラ芯２１は撓まずにフラットな状態を保つ。これにより、クリーニング面への圧力分布が均一になり、効率的なクリーニングが可能となる。 （もっと読む）

【課題】加工製品洗浄装置の回転冶具における加工製品固定手段を改良することにより、回転時における加工手段の脱落等をなくす。
【解決手段】ターンテーブル上に植立させた保持ピンを、ターンテーブルの回転軸線方向に向けてそれぞれ一定の角度傾倒させて取り付ける。これによりターンテーブルが回転した際に加工製品に遠心力を生じても、加工製品の全質量がターンテーブルの回転力に応じて次第に保持ピンの傾倒する基部方向に引き寄せられる結果、保持ピンによって固定された被洗浄材である加工製品が、ターンテーブルの回転による遠心力に伴って保持ピンより外れて離脱し、洗浄装置内での加工製品の暴れを生じ、また他の加工製品等との干渉接触により損傷を生じ、また鉄粉の飛散による作業者の目の損傷や工場内作業環境の悪化をなくすことができる。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、洗浄の際、過度なテンションを付加しないで、薄いテープ状部材のばたつきを防止する洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 テープ状部材を移動させる一対のガイドローラと、このガイドローラ間に配置される上記テープ状部材の洗浄ノズルと、この洗浄ノズルよりも下流側に配置されるエアーナイフとを備え、上記洗浄ノズル又はエアーナイフの上流と下流とに上記テープ状部材を挟持する押さえローラを設けたテープ状部材洗浄装置。
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【課題】
洗浄効率を向上させかつブラシの交換のメンテナンスが容易なディスク洗浄ブラシ、ディスク洗浄機構およびディスク洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、孔の外形よりも大きい外形を有する所定の長さの多孔質のブラシ部材を各孔に弾性変形により縮小させて挿着して回転ブラシとしている。いずれかの多孔質のブラシ部材が摩耗して接触圧が均一でない部分が発生したときには、多孔質のブラシ部材単位でそれを取り外して摩耗していない新しい多孔質のブラシ部材を取り付ければそれでメンテナンスが済む。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に付着している汚れを効果的に除去する。
【解決手段】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に 100度Ｃ以下の湿り飽和蒸気を接触させて汚れを膨潤させているが、このとき、タイヤ加硫モールド12が、カーボンブラックのみからなる充填材、または、少なくともシリカからなる充填材が配合されているゴム組成物を用いた未加硫タイヤを加硫するモールドであると、前者では汚れが比較的膨潤し易いため、型付け面13に湿り飽和蒸気を 100秒以上接触させ、後者では比較的膨潤し難いため、 240秒以上接触させる。 （もっと読む）