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Fターム[3C049AB01]の内容

3次曲面及び複雑な形状面の研削、研磨等 (13,165) | 装置の構造(ワーク) (1,672) | ワーク運動機構 (279)

Fターム[3C049AB01]に分類される特許

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【課題】簡易な機構により、研磨荷重を効率良く掛けて、微小な研磨物品である微小レンズ、その微小レンズの金型などを研磨する方法および装置を提供する。
【解決手段】ワークをワーク保持手段で保持した状態で、ワークの研磨面の上方に研磨面と接触するようにツールを配置して、ワークを研磨する小型チルト研磨方法であって、ツールを揺動させる一方で、ワークを回転軸心のまわりで回転させつつ、ワークをワーク保持手段と一緒に傾動軸心のまわりで傾斜させることを特徴とする小型チルト研磨方法。 (もっと読む)


【課題】セラミックス製の軸受軌道輪における軌道面の表面粗さを小さくすることができるとともに、加工コストを安くすることができる軸受軌道面の鏡面仕上げ加工方法を提供する。
【解決手段】軸受軌道輪としての内輪4を軸線L回りに回転させつつ、当該内輪4の軌道面4aに、所定の曲率半径を有し且つケイ素を含むセラミックスからなるボール6を、水酸基を有する加工液3中で摺接させることにより、軌道面4aの表面を鏡面仕上げする。 (もっと読む)


【課題】ワークのコンベックス加工時間が長くなるのを抑えるとともに、一定形状のコンベックス加工を加工対象のワーク全てに施す。
【解決手段】コンベックス研磨装置1には、曲面成形された研磨面31を有する研磨部3と、ワークである水晶素板2を取り付ける取付治具4と、取付治具4を支持する支持部5と、取付治具4を挿脱可能な孔部63を有し、研磨面31の曲面補修をする補修治具6と、が設けられている。このコンベックス研磨装置1では、研磨面31に補修治具6が配され、かつ、補修治具6の孔部63に取付治具4が挿通されて取付治具4に取り付けられた水晶素板2が研磨面31に配された状態で、補修治具6および取付治具4に取り付けられた水晶素板2は研磨面31上を摺動する。 (もっと読む)


【課題】光学素子の表面に対して、真球度の高い研磨加工面を容易に得る事ができる。
【解決手段】光学素子の表面を球面研磨皿に摺り合わせてその表面を球面状に研磨する球面研磨装置である。前記光学素子を前記球面研磨皿に当てた状態で支持する研磨シャフトと、軸心が、前記光学素子の表面の研磨目標球面の曲率中心を通り前記研磨シャフトを回転させる回転駆動部と、当該回転駆動部と前記研磨シャフトとの間に設けられ、前記研磨目標球面の曲率中心を中心とする球面状又は円筒状の曲面を有し、この曲面に沿って前記研磨シャフトをずらすことで当該研磨シャフトをその軸心又は軸心の延長線が前記曲率中心を常に通るように傾けて支持し、当該研磨シャフトの回転に伴って当該研磨シャフトに支持された前記光学素子を前記研磨目標球面に沿って移動させる支持機構とを備えた。 (もっと読む)


【課題】円柱状の被加工物の端面を、凹型曲面形状面を有する研磨プレートを使用せず、常に一定の曲率で、極めて表面粗さが細かい凸型曲面形状に加工することが可能な加工装置を提供する。
【解決手段】加工装置1は、研磨プレート24と、筒状治具55と、押圧機構60と、を備えている。研磨プレート24は、平坦な研磨面24aを有し、回転する。筒状治具55は、研磨プレート24の研磨面24aに対して軸方向が略垂直に配置され、被加工物10が遊貫される貫通孔56が形成されている。押圧機構60は、被加工物10を研磨プレート24の研磨面24aに対して所定圧力で押圧する。 (もっと読む)


【課題】簡易的且つ正確に加工を行うことが可能な光コネクタ端面加工装置を提供する。
【解決手段】保持部7の形状は、保持部7の回転中心とフェルールの中心とが異なるように定められている。このため、光コネクタ1(フェルール3)の研磨定盤9上における軌跡は、図3(c)に示すとおりとなる。光ファイバ2は上記のような軌跡をとりながら研磨定盤9により加工されるため、最終的には光ファイバ2がフェルール3から突出していない状態となる。 (もっと読む)


【課題】被加工物における研削加工後の面粗さの向上や挽き目の除去を効率良く行えると同時に、被加工物の形状修正も行うことができ、うねりのない平滑な研磨面を得る研磨加工技術を提供する。
【解決手段】加工作用面4の外径が被加工物5の加工主面5aの外径よりも大きな研磨工具10を用い、研磨工具10の加工作用面4の回転中心4aと加工主面5aが当接する点Pが被加工物5の加工主面5aの外周から中心部までの子午線上を走査するように被加工物5および研磨工具10を相対的に移動させることで研磨加工を行う。研磨工具10の走査速度又は研磨荷重を加工中に制御することにより、研磨工具10の外周部による加工主面5aの加工量の制御が可能になるため、研磨工具10による被加工物5のスムージング加工の途中で同時に、被加工物5の加工主面5aの形状を修正することができる。 (もっと読む)


【課題】機械的振動を付与するのみで230N/mm2以上の疲労強度を有するリンクチェーン用振動式バレル研磨機を提供する。
【解決手段】熱処理前、熱処理後或いは表面処理後の低炭素鋼リンクチェーン用振動式研磨機において、基台上にスプリングバネを介して研磨台を載置し、この研磨台の上面にリンクチェーンを振動研磨する研磨槽1を設け、該研磨槽の長手方向両端部にリンクチェーンの搬送方向転換のためにリンクチェーンを巻き上げ、送り出すための搬送用シーブ装置10を交互に設けて、研磨槽の下部にはカウンターウエイトユニットを該研磨槽と一体的に設け、このカウンターウエイトユニットは該研磨槽の下部に直接取り付けた振動モーターの回転を伝達する回転軸を介して振動に変換して研磨槽上に配した仕切り壁を設け、或いは設けることなく、研磨槽上のリンクチェーンに振動を付与するように構成したことを特徴とするリンクチェーン用振動式研磨機。 (もっと読む)


【課題】研磨パッドの表面状態を効率的に修正することで、研磨効率を向上させることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板110とガラス基板110の主表面を研磨するナップ層を有する研磨パッド200との間に遊離砥粒を含有する研磨液を供給し、ガラス基板110と研磨パッド200とを相対的に移動させることで研磨する研磨工程と、修正面に研磨砥粒を固定した修正部材を、研磨パッド200のガラス基板110を研磨した面と接触させて、修正部材と研磨パッド200とを相対的に移動させることで研磨パッド200を修正する修正工程とを含み、研磨工程時と修正工程時とで、研磨パッド200に対するガラス基板110と修正部材の移動方向が異なることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】光ファイバ付きフェルールの端面研磨に要する消耗品費のコスト低減可能な研磨方法を提供する。
【解決手段】端面研磨方法は、光ファイバ付きフェルール1の端面を、環状の砥石面を有する円筒形砥石40の砥石面に押し付けながら、円筒形砥石をその中心軸まわりに自転させ、かつ、光ファイバ付きフェルールを中心として公転させる。また、端面研磨装置10は、環状の砥石面を有し、中心軸まわりに自転可能に、かつ、自転の際に砥石面が通る1点を中心として公転可能に装置本体に支持された円筒形砥石40と、円筒形砥石の公転軸線と実質的に直交する保持面を有し、公転軸線の延長上に光ファイバ付きフェルールの挿通孔55を備えた保持盤50と、挿通孔に挿通された光ファイバ付きフェルールを、その先端部が挿通孔から突出して円筒形砥石の砥石面に対し加圧力をもって接触するように保持する保持部材60とを備える。 (もっと読む)


【課題】多様な外形仕様の光学素子を単一の研磨装置で高精度に研磨することが可能な研磨技術を提供する。
【解決手段】研磨皿2を支持して揺動可能に設けられた下軸ユニット4と、この下軸ユニット4に対向しレンズホルダー6を介して被加工レンズ5を支持して揺動可能に設けられた上軸ユニット9と、上軸ユニット9に対して揺動変位および揺動平面に直交する方向の直線変位を与える直進軸62を備え、被加工レンズ5の形状仕様に応じて、研磨皿2と被加工レンズ5を摺動させる下軸ユニット4および上軸ユニット9の揺動角度および揺動面に直交する方向の直線変位を組み合わせることで、1台の研磨装置で多様な形状仕様の被加工レンズ5の研磨加工を可能にした。 (もっと読む)


【課題】 異形状物体に対しても微細な研磨を行なうことができるようにし、物体の表面を良好な仕上げ面にする。
【解決手段】 研磨体40を物体1の表面2に接触させ、研磨体40の先端41の軌道がリサージュ図形を描くように微小振動させながら、研磨体40を物体1の表面2に対して相対移動させて、物体1の表面2を研磨する物体の研磨方法において、研磨体40の先端41の軌道を、平面から見て8の字形状であって、正面から見て8の字の交点が物体1に接触する頂点となるU字形状にした。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造で、各種形状の異なるレンズに対しこれに付着した異物を確実に除去することができるレンズのクリーニング方法およびクリーニング装置を提供する。
【解決手段】レンズLに付着した異物をワイピング部材41により拭き取るレンズLのクリーニング方法であって、レンズLおよびワイピング部材41の一方を保持するロボット2と、他方を保持する保持機構71と、を用い、レンズLの拭取り面を撮像し、拭取り面の形状を画像認識する形状認識工程と、認識した拭取り面の形状に基づいて、レンズLに対するワイピング部材41の、拭取り動作における移動軌跡を生成する移動軌跡生成工程と、生成した移動軌跡に基づいて、ロボット2および保持機構71により、レンズLに対しワイピング部材41を相対的に拭取り動作させる拭取り工程と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】ITや医療機器産業に用いられるガラス等の脆性材に用いられる砥粒を分散させた流体を用いた研磨加工を行うことができ、大きな加工量を求められる粗研磨から高精度の平滑性が求められる精密仕上げ研磨まで連続的に適用できる平面両面研磨方法及び平面両面研磨装置を提案する。
【解決手段】本発明の平面両面研磨方法は、下面に研磨パッド2を取り付けて上定盤1とし、上面に研磨パッド2を取り付けて下定盤6とし、前記各定盤1,6をそれぞれの研磨パッド2,2を対向させた状態でそれぞれ面向きを一定とした偏芯旋回運動を可能とし、前記研磨パッド2,2の対向空間に、面向きを一定として1軸又は2軸往復する摺動運動又は円軌道運動を可能とするキャリア7に複数の被加工物9を保持させて臨ませ、砥粒を分散させたスラリー3を各定盤1,6から加工面に供給しつつ、前記各定盤1,6を偏芯旋回運動させると共に、前記キャリア7を往復状に摺動させる。 (もっと読む)


【課題】 加工後の球体の寸法に差が生じやすいという問題や回転盤の外周部が磨耗しやすいという問題を解消した球体加工装置を提供する。
【解決手段】 固定盤3に、回転盤2上面との間に球体通過間隙Gを有する撹拌促進用遮蔽板5が少なくとも1つ設けられている。遮蔽板5の球体Bが衝突する面に、回転盤2の回転方向に移動する球体Bを下方および径方向内方に案内する案内面5fが形成されている。 (もっと読む)


【課題】裏面に再配線層を備えた半導体チップ等のデバイス製造過程において、デバイスに個片化される前の薄いウェーハの剛性を確保する。また、ウェーハの段階で、チップの裏面に再配線層を好適に形成する。
【解決手段】ウェーハ1の裏面の、半導体チップ3が形成されたデバイス形成領域4に対応する領域のみを、研削およびエッチングによって薄化し、裏面に凹部11を形成する。凹部11の周囲の環状凸部12によってウェーハ1の剛性を確保し、裏面側再配線層40を形成する工程への移送時のハンドリングを安全、かつ容易に行えるものとする。 (もっと読む)


【課題】ツールの剛性が十分に得られ、砥石の摩耗が少なく、加工能率・研削精度が高く、安定生産できる凸曲面研削方法を提供する。
【解決手段】Z軸方向に移動自在、C軸に回転自在のワーク支持手段57aにワークW3を支持し、外径がワークの非研削部の外径より所要大きいカップ状のツールT3をX軸方向に移動自在な回動テーブル53に備えたツール支持手段67の先端に取り付け、ツールT3の先端面外端を回動テーブル53の回転中心に一致させ、ツール支持手段67のX−Z平面内のZ軸に対する傾き角を所要範囲内に可変し、ワーク支持手段57aに回転とZ軸方向スライド、ツール支持手段67に回転とX軸方向スライド、回動テーブル53の回動を与え、B軸上にツールとワークを点接触させてワークの端面に形成された点対偶凸曲面に倣って研削する。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウェーハのノッチ端面の研磨を十分かつ短時間で簡単に行える技術の提供。
【解決手段】駆動装置により回転駆動する駆動ローラと、回転可能な少なくとも1以上のフリーローラと、前記駆動ローラと前記フリーローラとに掛架されて走行するエンドレスな研磨ベルト18と、研磨ベルト18を押圧して緊張させる緊張手段とを備えてなることを特徴とする研磨ヘッド17と、研磨ベルト18が鉛直面上を走行する状態におかれた研磨ヘッド17を、半導体ウェーハノッチ16と研磨ベルト18とが当接する研磨当接部分を中心に鉛直面上を回動させる研磨ヘッド揺動アーム33と、半導体ウェーハ12を水平状態に保持する半導体ウェーハ保持台13とを有してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】テーパーローラベアリングをセンタレス研磨するに必要なドラム型状の調整車の螺旋ねじ溝を高精度に研磨加工するためのドラム型調整車の研磨装置を提供する。
【解決手段】調整車1を回転及び軸線方向に移動すると共に調整車1の研磨用の砥石9を回転及び調整車1の外輪郭2に対応する位置に位置付けるための回動や、砥石9を調整車1に近接又は離隔する方向に移動させる動作を同期制御することにより所望の螺旋ねじ溝3を研磨仕上げすることができる。 (もっと読む)


【課題】基板縁部のノッチを洗浄または研磨する、改善された方法及び装置を提供する。
【解決手段】基板縁部のノッチ244を研磨する装置であって、基板216を支持するように適合された基板支持体と、基板縁部のノッチ244に接触するように適合された研磨ヘッドと、研磨ヘッドが基板216のノッチ244に接触する間に、少なくとも第1及び第2の振動位置の間で基板216を振動させるように適合されたコントローラと、を備える装置。 (もっと読む)


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