【課題】光を集束するように動作可能なシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】例示的な一実施形態は、ＭＥＭＳ基板と、第１のシリンドリカル面（３０６）を有する第１のシリンドリカルレンズ（３０２）と、第１のシリンドリカル面（３０６）に対して垂直に向けられている第２のシリンドリカル面（３０８）を有する第２のシリンドリカルレンズ（３０４）とを有する。第１および第２のシリンドリカルレンズ（３０２、３０４）中を通過する光が集束される。 （もっと読む）

この発明は、導波路と、内部にＴＩＲ光を含む導波路の上面に隣接して展開される１つ以上の画素とを含む装置を提供する。各々の画素は、第１の導体を有する変形可能な活性層と、第２の導体を有するドライバ電子機器層とを含む。ドライバ電子機器層は、活性層に対して間隔を空けた配置関係で、導波路の反対側に展開される。画素の静止状態では、活性層は、ＦＴＩＲを介して外部で光を光学的に結合する（すなわち画素のＯＮ状態）ように導波路の上面と接触またはほぼ接触している。画素を作動させるために、電子機器層は、第２の導体に選択的に電位差を印加し、これにより活性層を上面から遠ざけて、導波路外への光の光学的結合（すなわち画素のＯＦＦ状態）を防ぐ。
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【課題】プラズモニック材料またはメタマテリアルとしての機能を発現する微小構造体と、これを基板上に担持した光制御素子、及びそれらの簡易で安価な製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に,硫黄化合物および酸化ケイ素(SiO₂)を含む混合材料からなる薄膜層を形成し(工程1a),薄膜層上にレーザ光を照射して微細孔を形成すると共に,該微細孔を囲う外壁を構成する領域を変質させ(1b),微細孔内に,Au、Ag,Cu,Al,Ti,Cr,Si,Geもしくは前記金属の合金から選ばれる１種の材料を充填し(1c),選択的なエッチング処理により微細孔を囲う外壁を残し,凸状構造体に形成(1d)して、ナノメートル乃至マイクロメートルサイズの微小構造体及び光制御素子を作製する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の液体で充填され且つ少なくとも１つの膜で閉鎖された少なくとも１つの閉鎖筐体が設けられたデバイスを作製する方法であって、
ａ）液体状態の少なくとも１つの所定の材料を支持体（１００）上に堆積する段階と、
ｂ）所定の材料（１３０）を少なくとも部分的に凝固させるかまたはゲル状態にする段階と、
ｃ）膜及び支持体が、所定の材料で充填された少なくとも１つの閉鎖筐体を形成するように、凝固した材料上に膜を作製する段階と、
ｄ）閉鎖筐体中で所定の材料が再度液化するように、所定の材料（１３０）を融解させる段階と、を含む方法に関する。
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照明装置は、光を受光するための第１端部を有すると共にその長さに沿って光の伝播をサポートするように構成された光導波路を備える。ターニング微細構造は、前記光導波路の第１側面に配置されていると共に前記第１側面上に入射する光の方向を変更させて前記光導波路 の対向する第２側面へ光を導くように構成され、且つ複数の凹部を備える。カバーは、物理的に光導波路に結合（coupling）すると共に前記ターニング微細構造上に配置されている。中間層は、前記カバーを前記光導波路に物理的に結合すると共に前記カバーと前記光導波路との間に位置する。いくつかの実施形態において、中間層は、省略され、カバーが、光導波路と直接に接触する。複数の開放領域が中間層又はカバーと複数の凹部との間に位置する。各種実施形態は、中間層の有無にかかわらず、カバーと複数の凹部との間に開放領域が保存される間に、カバーを光導波路に結合する方法を含む。
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本開示は、続いて微細構造物品を作製するために使用してもよい工具の製造方法に関する。本明細書に詳細に記述する方法は、マスター工具を作製するために基板上に微細構造アレイを形成するためのパターンのある微細構造工具構造体の形成について記載している。本方法は、基板の第１の面を光重合性液体でコーティングした部分的に透明な基板を提供する工程を含む。作製したマスター工具は、続いて、複製用工具の作製、ひいては導光体を作製するのに使用できる。 （もっと読む）

【課題】三次元構造体を精度良く容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】基板１０に第１の構造体２０を形成し、犠牲層３０をスピンコートにより塗布し、第２の構造体４０を犠牲層３０上に形成し、犠牲層３０を除去して三次元構造体１を形成する。これにより、第２の構造体４０が第１の構造体２０の上に落下する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、モールド作製方法に関し、一定面積のマスクを電子描画で作製し、作製したマスクを電子線露光でモールド上に順次マスク露光した後に現像し、大面積のモールドを短時間に作製してスループットを向上させることを目的とする。
【構成】マスクを、レジストを塗布したモールドの所定位置に近接して位置づけるステップと、近接して位置づけた状態で、電子線をマスクに照射してマスク上の微小パターンを透過した電子線をマスク上のレジストに露光するステップと、露光した後に、マスクを次の位置に位置づけた後、露光することを繰り返すステップと、繰り返した後に、モールド上の露光されたレジストを現像するステップと、現像した後のモールドをエッチングし、マスク上のパターンに対応するパターンをモールド上に形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】高出力を維持しつつ、駆動装置の小型化を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】駆動装置であって、固定部と、該固定部の所定部から突設される板状の可動部と、該所定部の近傍に設けられ、可動部に対して電圧を印加する電極部と、を備える。そして、可動部が、所定部から突設される突設部と、突設部上に設けられ、電圧の印加に応じて伸縮する薄膜状の第１変位素子部と、該第１変位素子部上に設けられる薄膜状の絶縁部と、該絶縁部上に設けられ且つ絶縁部を第１変位素子部とともに挟み、電界の印加に応じて伸縮する薄膜状の第２変位素子部と、第１変位素子部と第２変位素子部とを、所定部とは反対側の端部近傍において電気的に接続する導電部と、を有する。更に、電極部が、第１および第２変位素子部に対して、電気的に接続されるとともに電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】微小共振器構造を有する電場増強光デバイスにおいて、複数の波長に対し共振可能となるように共振幅を拡大する。
【解決手段】電場増強光デバイスＤ３を、半透過半反射性を有する第１の反射層と、透過性を有する透光層と、反射性を有する第２の反射層とからなる微小共振器構造を有するように構成し、かつ微小共振器構造を、複数の波長に対して共振可能とするように光路長が異なる複数の共振領域Ｗ〜Ｚによって構成する。 （もっと読む）

【課題】 例えば、三次元微細構造体やμｍオーダ以下のパターンやバイナリー立体光学素子等の微細構造体を真空蒸着とエッチングのみで容易に形成することができる微細構造体製造方法を提供することにある。
【解決手段】 微細凹凸パターンを備えた構造体を該微細凹凸パターン側を真空蒸着源に指向させた状態で対向・配置させ、その際微細凹凸パターンの凹部の一部が蒸着されないように上記構造体を上記真空蒸着源に対して所定角度だけ傾斜させ、その状態で真空斜め蒸着を施して上記構造体の微細凹凸パターン側にエッチングマスクを堆積・設置させ、次いで、エッチングを行うことにより上記微細凹凸パターンよりもさらに細かな微細凹凸パターンを形成するようにしたもの。 （もっと読む）

【課題】高低差の小さい光学素子を高精度に形成し易い光学素子アレイの製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材１１上にフォトレジスト層１５を設け、フォトレジスト層１５を露光及び現像してフォトレジスト層１５表面に凹凸形状部２１を形成し、フォトレジスト層１５及び光学基材１１をエッチングすることで、光学基材１１表面に凹凸形状部２１に応じた形状を有する光学素子１３を形成して光学素子アレイ１０を製造する方法であり、フォトレジスト層１５と光学基材１０との選択比を１未満に調整してエッチングすることにより、凹凸形状部２１の高低差より小さい高低差を有する光学素子１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】 アクチュエータアレイ用の基板とミラー面用の基板を別に製造することなく、効率の良く形状可変ミラーを製造する。
【解決手段】 形状可変ミラーの製造方法において、圧電膜と、圧電膜の下に配置された第１の電極と、圧電膜の上に配置された第２の電極と、を有する圧電アクチュエータが基板上に複数配置されたアクチュエータアレイを準備する工程と、最終的に除去される犠牲層を形成する工程と、犠牲層に孔を形成し第２の電極の少なくとも一部を露出させる工程と、露出した第２の電極の上に柱部を形成するために、犠牲層に形成された孔を柱部用材料で埋没させる工程と、犠牲層及び柱部の上面を平坦化させる工程と、平坦化した犠牲層及び柱部の上面にミラー面を形成する工程と、ミラー面が形成された後，犠牲層をエッチング法により除去する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】薄型で発生力が大きく、特性バラツキが少なく、応答性に優れ、消費電力が小さく、製造も容易な駆動機構を提供する。
【解決手段】駆動機構４は、形状記憶合金薄膜１２１よりなる伸縮アクチュエータと、Ｘ字状に組み合わされた２組のレバー４１１，４２１と、移動部４３１とで構成される。レバー４１１ｂ，４２１ｂの一端は弾性ヒンジ４１３ｂ，４２３ｂを介して伸縮アクチュエータの両端にそれぞれ連結され、弾性ヒンジ４１５ｂ，４２５ｂを介して移動部にそれぞれ連結されてＸ字状に組み合わされ、レバーの中央部分は回転部４４１ｂで相互に回動可能に接続されている。伸縮アクチュエータが伸縮すると、回転部を中心にレバーが回動し、移動部が伸縮アクチュエータの伸縮方向に垂直なＺ方向へ移動する。 （もっと読む）

【課題】 垂直方向のみから荷重をかけることで、接合強度を向上させることができ、さらにＸ−Ｙ位置精度を高く維持することができるＭＥＭＳデバイスとＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ＭＥＭＳデバイス１０は、マイクロミラーチップ１と、マイクロミラーチップ１に対向し、積層する電極基板２と、マイクロミラーチップ１と電極基板２に介在し、厚み方向に貫通する貫通孔４を有する複数の中間部材３と、電極基板２に形成され、貫通孔４を貫通することでマイクロミラーチップ１と電極基板２を接合させる金バンプ８を有し、貫通孔４は、垂直方向からの荷重と熱によって金バンプ８が接合パッド６によって垂直方向につぶれると同時に貫通孔４に沿って水平方向にも広がるように変形できる大きさを有し、そのため貫通孔４は、例えば端面３ａに向かって径が大きくなるテーパ形状の段差部５を有している。 （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳ光学台において自由空間を介した光のルーティングを正確に制御する。
【解決手段】 光学台（１０２）は、台に形成された複数の溝の自由空間を介して光を伝達し、各溝は深掘りイオン反応性エッチングにより形成されて２つの対向する側壁により定義され、対向する側壁間に自由空間が存在する。例示的な実施例は、光ビームを受け取り、自身の自由空間を介して光ビームを伝達するように動作可能な第１の溝（１０４）と、第１の溝を介してルーティングされた光ビームを受け取り、光ビームの少なくとも一部を反射するように動作可能な角度のついた反射側壁（１０８）と、角度のついた反射側壁（１０８）から反射された光ビームの一部を受け取り、自身の自由空間を介して光ビームの一部をルーティングするように動作可能である第２の溝（１０６）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】所定のパターン形状及び曲面形状を有する微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】アウターレンズ１４の製造に際して、レジスト塗布、露光及び現像の各工程からなるフォトリソグラフィ工程を、平面基板２１及びフレキシブル基板２２からなる二層基板２３上で行うことにより、フォトマスク２５のドットパターンをレジスト層２４に正確に転写し、形成精度の確保されたレジスト微細構造体２４ａを製作する。この後、フレキシブル基板２２を平面基板２１から剥離して曲面構造体２７の表面に貼り付けることにより曲面母型Ｍを構成し、金属による電鋳を施すことにより金属微細構造体２８ａを形成する。レジスト微細構造体２４ａの形成精度が確保されていることから、レジスト微細構造体２４ａに基づき製造される金属微細構造体２８ａの成形精度、さらには金属微細構造体２８ａを金型として製造されるアウターレンズ１４の光学特性も確保される。 （もっと読む）

【課題】長寿命化及び応答速度の高速化を図り、しかも、被駆動体自体を変形させずに被駆動体の向きのみを変更することを可能にし、更には静定時間を短縮して駆動をより高速化する。
【解決手段】板状部材２の両端を脚部３を介して基板１に対して固定する。板状部材２は、基板１に対して固定された箇所間で撓み変形可能である。被駆動体であるミラー４が、接続部１１を介して、板状部材２の撓み変形可能な領域の所定部位に、局所的に機械的に接続される。板状部材２の中央部と対向する領域において、基板１上に固定電極５が設けられる。固定電極５とこれに対向する板状部材２の可動電極との間に電圧を印加して両者の間に静電力を発生させると、ミラー４自体は変形することなく、ミラー４の傾きが変化する。基体における板状部材２との対向領域が平坦化され、基板と板状部材２との間の間隔が狭められる。 （もっと読む）

【課題】相互接続構造などに必要な機能性材料を含む、高精度な複合多機能ミクロ構造とその製造方法を提供する。
【解決手段】第１の層（１６）、および第２の層（１７）を設ける。第２の層（１７）は、その上にレリーフ機構（１８）を有し、レリーフ機構間に溝（１９）を形成し保持機構とする。溝には導電材料などの機能性材料からなる第３の層（２０）が堆積され、オプションの浸漬オーバーレイヤ（２２）をその上に含む。層（２０）は、その基部にわたって連続する。 （もっと読む）

【課題】共振振動数の温度変動が少なく、低電圧駆動が可能な光走査装置を提供する。
【解決手段】ミラー振動子１０のミラー部材１に永久磁石４が固定される。ミラー振動子１０及び永久磁石４は上下カバー２１，２２により包囲され、外部から熱的に隔離される。上下カバー２１，２２の外側に駆動用の電磁石３０が配置される。電磁石３０の熱、その他の熱源の熱は、ミラー振動子１０及び永久磁石４に伝わりにくいため、ミラー振動子の共振周波数の温度変動が生じにくい。 （もっと読む）