【課題】
危険が少なく、またバッチ処理であっても短時間で処理できる、マイクロ波で加熱して化学反応を促進させる装置を提供する。
【解決手段】
マイクロ波反応装置は、マイクロ波発振器２が付された筐体１内に、マイクロ波が照射される反応物質の入るべき封鎖空間の反応容器３が配置され、反応容器３に付随する温度センサー５の挿入口、不活性ガスまたは反応原料の流入パイプの挿入口、あるいは反応生成物または反応余剰物の排出パイプの挿入口が筐体１内に位置している。 （もっと読む）

【課題】加熱温度制御性及び加熱均一性に優れ、膜均一性に優れた材料が得られるマイクロ波加熱方法を提供する。
【解決手段】マイクロ波吸収体とマイクロ波加熱停止剤とを含む材料にマイクロ波を照射し、該マイクロ波加熱停止剤の作用により、マイクロ波照射中の該材料のマイクロ波吸収を停止させることを特徴とするマイクロ波加熱方法。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波発生装置の複数の出力間の位相を連続的に変化させることのできる位相可変手段を着脱自在な構造体として提供する。
【解決手段】マイクロ波発生装置１０の分配部１２と初段増幅部１３ａを接続するマイクロ波伝送路１４ａの両端部（点Ａ、点Ｂ）に接続される位相可変手段２１は、入力部２２と出力部２３とを接続するジグザグ形状のマイクロ波伝送路２４と、マイクロ波伝送路２４の所定領域を覆う半円形状の誘電体板２８を備え、誘電体板２８をマイクロ波伝送路２４に摺動回転させてマイクロ波伝送路２４を伝送するマイクロ波の位相を遅延させる。そして、位相可変手段２１における位相遅延量の連続的変化はマイクロ波発生装置１０の２つの出力の位相差に反映され、このような位相差が変化する２つのマイクロ波信号を加熱装置に適用することで様々な被加熱物の加熱の均一化を促進させることができる。 （もっと読む）

【課題】広く一般的に利用されるマイクロ波加熱法において、強誘電体の持つキュリーポイント相転移を利用し、加熱対象を急速かつ均一に所定の温度に加熱するマイクロ波加熱方法を提供する。
【解決手段】強誘電体にマイクロ波を照射し、強誘電体のキュリーポイントの前後での誘電特性の変化により加熱温度を制御するマイクロ波加熱の温度制御方法の構成とした。 （もっと読む）

【課題】半導体素子を用いて構成されたマイクロ波発生装置と市販の電子レンジに実装されているマグネトロンとの実装置換を可能にするマイクロ波発生装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発生装置１０は、半導体素子を用いて構成したマイクロ波発生部１１、半導体素子を冷却する放熱手段であるヒートシンク１２、マイクロ波発生部１１の出力端１３に接続したマイクロ波伝送手段である同軸伝送線路１４、同軸伝送線路１４の先端に設けたマイクロ波放射部１５から構成している。同軸伝送線路１４とマイクロ波放射部１５とは一体的に構成し、マイクロ波放射部１５の根元には同軸伝送線路１４の外周に嵌合組立した取付板１６を設けている。また、取付板１６とマイクロ波発生部１１との間の同軸伝送線路１４の外周には放熱手段１７を配している。 （もっと読む）

【課題】金属部材と金属キャビティとの間における放電の発生を防止できるとともに、少ない作業工数で金属部材を金属キャビティに取り付けることができ、しかも金属部材の取り外しを自由に行うことができるマイクロ波焼成炉の金属キャビティ内部への金属部材取り付け方法を提供する。
【解決手段】１〜５ｍｍの間隔で金属板３０を金属キャビティ１３に取り付けて、金属板３０と金属キャビティ１３との間の電界強度を１ｋＶ／ｍｍ未満に抑えるようにした。これにより、金属板３０と金属キャビティ１３との間の放電を防止でき、放電による金属キャビティ１３の破損を防止できる。また、金属板３０を金属キャビティ１３に取り付けるネジ３１の間隔をマイクロ波の波長の１／８以上にできるので、作業工数を削減できる。また、金属板３０を自由に取り外せるので、金属キャビティ１３のメンテナンスを容易に行える。 （もっと読む）

【課題】被処理体の表面の材料に影響を受けることなく面内の温度の均一性を維持したまま高速で昇降温させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対して所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記被処理体を収容する処理容器４と、前記被処理体を載置する載置台２８と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系２４と、前記被処理体に対して加熱用の電磁波を照射する電磁波供給手段５６と、前記被処理体に対してプラズマが立たないような高真空の圧力下、又は電磁波照射エネルギー密度を落とした状態で前記電磁波を照射するように制御する制御手段７８とを備える。これにより、被処理体の表面の材料に影響を受けることなく面内の温度の均一性を維持したまま高速で昇降温させる。 （もっと読む）

【課題】高周波出力手段として高周波発振半導体素子を使用するため、高周波出力手段を小型化して低コスト化することができる。設置スペースを少なくして表示手段に有効に取付けることができる。
【解決手段】高周波出力手段を、金属製シールドケース内にマイクロ波発振半導体素子及び複数の増幅半導体素子を内蔵すると共に高周波出力手段の出力端子に、磁性体に向かって高周波を出力するアンテナを接続する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波発生器からのマイクロ波によって定着ローラ内に封入された液体を発熱させる従来の構成の場合、この液体の封入に要する構成が複雑になってしまう恐れがある。
【解決手段】定着ローラに装置の使用温度範囲内において固態とされる発熱層を設け、この発熱層をマイクロ波により発熱させることにより定着を行う構成とする。 （もっと読む）

【課題】電磁波ｗを発生する電磁波発生手段４３と、この電磁波発生手段からの電磁波により発熱する発熱体４１ａを有し記録材上の画像をニップ部Ｎにて加熱する加熱回転体４１と、を有する画像加熱装置について、高周波のシールド構造を容易にし、温度むらのない、効率の良い、且つ、品位の高い画像の定着が可能な、小型の装置構成を提供する。
【解決手段】前記電磁波発生手段４３による電磁波を前記加熱回転体の長手方向一端側から他端側に向けてその内部へと導く導波管４５を有し、この導波管に電磁波を照射する開口４５ａを長手方向に複数設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

金属含有材料を用意するステップ（５）と、対流及び／又は伝導及び／又は輻射手段によって前記金属含有材料を加熱するステップ（２）と、マイクロウエーブ（ＭＷ）エネルギーに前記金属含有材料を暴露するステップ（３）と、ラジオ周波数（ＲＦ）エネルギーに前記金属含有材料を暴露するステップ（４）と、還元剤に前記金属含有材料を暴露するステップ（８）とを含む金属含有材料を還元するための方法。ＭＷ及びＲＦエネルギーへの暴露中に誘電加熱をしないこの方法によって、金属含有鉱石及び精鉱のエネルギー効率のよりよい化学還元が可能になり、金属化収率が増加する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波加熱によりセラミック等を焼成する際に、焼成炉内に雰囲気ガスを供給しても収縮、ばらつきが小さく、高寸法精度に焼成可能なマイクロ波焼成方法を提供する。
【解決手段】マイクロ波発信器１７と接続されたマイクロ波の導入管３が設けられた焼成炉本体２と、焼成炉本体内部に配置されたマイクロ波を透過する断熱材１１から成る囲いと、断熱材から成る囲いの内部に配置されたマイクロ波によって発熱する筐体１０と、筐体内部に雰囲気ガス４を導入する雰囲気ガス供給手段と、筐体内部と焼成炉本体外部とを連通する排出手段７とを有するマイクロ波焼成炉１において、筐体側面に隣接して、雰囲気ガスが筐体に達する前にマイクロ波によって加熱される材質から成る雰囲気ガスを加熱するための雰囲気加熱部分６を具備した。 （もっと読む）

【課題】金属線などの被加熱物にマイクロ波エネルギーを十分かつ効率よく吸収させることができるようにし、また、複数本の金属線などの複数の被加熱物を同時に加熱することができるようにする。
【解決手段】 マイクロ波発振器と円形導波管を有して構成されたマイクロ波加熱炉とを接続導波管を介して接続したマイクロ波加熱装置において、マイクロ波加熱炉は閉塞された両方の端部にそれぞれ被加熱物を挿通可能な貫通孔を有し、上記マイクロ波加熱炉に伝送モードがＴＭ_０１のマイクロ波を伝搬し、上記マイクロ波加熱炉に発生した壁面電流を上記被加熱物に変位電流として導くことにより上記被加熱物を加熱する。 （もっと読む）

【課題】多様な処理条件に対して適用でき、大面積のガラス基板等に対し、均一でムラのない安定した迅速な熱処理を連続的に行える方法であり、該方法を実行する熱処理炉がコンパクトである経済的な熱処理方法及び熱処理炉の提供。
【解決手段】互いに異なる設定温度に昇温されている直列に配置した２以上のバッチ式の加熱室を用い、その加熱室内の表面積と同程度又は小さい表面積をもつ被加熱物を順次、各加熱室に移動させながら所望の温度になるまで熱処理する連続式の熱処理方法であって、各加熱室の設定温度を予め放射伝熱量を用いて、各加熱室における被加熱物に対する熱処理時間が同一となるように決定し、設定温度の低い加熱室の順に被加熱物を移動させながら熱処理を行うことを特徴とする連続式の熱処理方法及び該方法を実行する連続式の熱処理炉。 （もっと読む）

【課題】航空機用のサンドイッチ構造体内の水の検知及び位置特定化システムにおいて、検査のための作業時間を短くし、また、検査対象の構造体内の製造過程の接着剤などが、水と混同されるような問題などを改善し解決する。
【解決手段】航空機用のサンドイッチ構造体（１）内の水を検知し、その位置を突き止めるシステムであり、そのサンドイッチ構造体の中間層の中にある水を加熱する手段と、そのサンドイッチ構造体の表面で、その中間層の中の水のありかに対応する目立っている部位を示す表面画像を少なくとも一枚、撮影するための手段（５）を備え、その水を加熱する手段に、そのサンドイッチ構造体の内部に水の微粒子の共振周波数にほぼ等しい周波数のマイクロ波を発するための装置（２、３、６）を具備しているシステム。 （もっと読む）

【課題】 ガラスなど脆性材料の厚み方向に均一な加熱、あるいは同加熱と冷却の併用によって熱応力を惹起し、脆性材料の全厚さにわたるスクライブを発生させ、同スクライブのみにより材料割断を行う高周波加熱割断方法を提供する。
【解決手段】 脆性材料の両面に、断面が割断予定線に近似できる形状の高周波電極を接触させ、両電極２，３に誘電損失が電極にはさまれた領域に熱応力を発生させ、割断を行うに十分な加熱をする周波数の電圧を印加する。また一定の加熱時間後、電圧印加を停止させ、冷却液４，５で電極ならびに脆性材料を冷却し、熱応力の発生を増大させる。割断面における分離を、補助割断面やテーパ割断面を利用して容易化する。 （もっと読む）

【課題】 容易に製作でき、しかも電源コードが熱の影響を受けにくい、新規な流体加熱装置を提供する。
【解決手段】 円筒形状を有する石英ガラス製の内筒部１ａ及び外筒部１ｂと有し、前記内筒部と外筒部の間の空間が密閉空間１ｄとされた石英ガラス製のガス導入管１と、前記密閉空間１ｄに収容された被加熱部材２と、前記被加熱部材２に対して、マイクロウェーブを照射するマグネトロン１１と、前記ガス導入管１の外周囲を覆い、前記マグネトロンから照射されたマイクロウェーブの拡散を抑制する遮蔽部材１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 加熱効率が高くかつ均一加熱特性に優れるとともに、小型化、低価格化が図れるマイクロ波などの高周波を用いた定着装置、および画像形成装置を提供する。
【解決手段】 高周波により未定着画像を定着する定着装置１１において、高周波発生手段２０と、この高周波発生手段２０により発生された高周波を伝播する伝播手段２２と、この伝播手段２２に接続されたキャビティ２３とを有し、このキャビティ２３には、前記未定着画像を有した被加熱定着物Ｓの搬入用開口２７、排出用開口２８を形成するとともに、該キャビティ２３内に、電磁界制御素子３２を配置した。 （もっと読む）

【課題】 加熱装置における加熱時間の短縮化および表面から内部までの均一な加熱を実現する。
【解決手段】 高周波誘電加熱装置１０は金型３０、金属ベルト３１、第１のローラ３２、３２、第２のローラ３３、および高周波電圧源３６を有する。金型３０を導電部材により形成する。金型３０、第１のローラ３２、３２、および第２のローラ３３を平行に配置する。金属ベルト３１を第１のローラ３２、３２と第２のローラ３３とに掛け渡す。金型３０を金属ベルト３１に付勢する。高周波電圧源３６を金型３０と金属ベルト３１とに接続する。交流電圧源は金型３０と金属ベルト３１とに高周波電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】 電気ヒータやバーナに頼ることなく触媒を加熱することができる触媒反応装置、触媒反応方法、燃料改質方法を得る。
【解決手段】 マイクロ波改質装置１０では、改質原料と改質用ガスとが反応管２２内に供給されて触媒層２４に接触すると、改質反応が生じて水素を含有する改質ガスが生成される。触媒層２４は、マイクロ波加熱装置２５によってマイクロ波が照射されて加熱され、改質反応を生じさせる。 （もっと読む）