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Fターム[3K107EE50]の内容

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Fターム[3K107EE50]に分類される特許

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【課題】積層数が少なくても高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムを提供する。また、高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムを同一真空槽内において同一形成プロセスで効率よく製造することができる透明ガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成されたガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、無機層と炭素含有層とを積層した積層透明ガスバリア層であり、
前記無機層が、アーク放電プラズマを用いた蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、酸素および窒素の少なくとも一方とを含む層であり、
前記炭素含有層が、アーク放電プラズマを用いた蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と炭素とを含む層であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア層と保護層との密着性に優れるとともに、生産性の高いガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基材12と、その少なくとも一方の面に設けたガスバリア層14と、ガスバリア層上に設けた保護層16とを備えたガスバリアフィルム10において、前記保護層を、(A)芳香環含有ウレタン(メタ)アクリレート、(B)カルボキシル基含有(メタ)アクリレート、及び(C)多官能(メタ)アクリレートを含有するエネルギー線硬化型樹脂組成物を用いて形成する。 (もっと読む)


【課題】耐候性に優れる有機EL用基板を提供する。
【解決手段】液晶ポリエステル層の裏側に、白色顔料含有層が設けられてなる有機EL用基板とする。前記液晶ポリエステル層は、下記式(1)で表される繰返し単位と、下記式(2)で表される繰返し単位と、下記式(3)で表される繰返し単位とを有し、2,6−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、40モル%以上である液晶ポリエステルから構成される層であることが好ましい。
−O−Ar1−CO− (1)
−CO−Ar2−CO− (2)
−O−Ar3−O− (3)
(Ar1は、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。Ar2及びAr3は、それぞれ独立に、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。) (もっと読む)


【課題】良好なガスバリア性及び耐久性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法、及びガスバリア性フィルムを用いた装置を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム10(10A)は、基材1と、基材1上に設けられた有機層2と、有機層2上に設けられた無機層3とを有し、シリコンを有する基が共有結合をしているアクリル系樹脂が有機層2に含有され、無機層3と接する有機層2の面に上記シリコンが0.1原子%以上存在する。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子およびこれを用いた光源装置の外部量子効率を向上させる。
【解決手段】第二の基板の第二の電極が存在する側の表面に第一の光取出し層が形成され、第二の基板の第二の電極が存在しない側の表面に第二の光取出し層が形成され、第一の光取出し層には微粒子およびバインダが含まれ、第二の光取出し層には微粒子およびバインダが含まれ、第一の光取出し層に含まれる微粒子の平均粒子径は0.05μm以上2μm以下であり、第二の光取出し層に含まれる微粒子の平均粒子径は1μm以上10μm以下であり、発光層の発光点と第一の電極との間の光学長L1が(式1)を満たす有機発光装置。(式1)(2m−155/180)λ0/4/cos35°≦L1≦(2m−155/180)λ0/4/cos50°(λ0は発光層の発光中心波長、mは1以上の整数) (もっと読む)


【課題】外部からの水分浸入を防ぎ、十分な発光特性や発光寿命が得られる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としてのEL表示装置1は、基体上に、第1の配線と、第一電極と、前記第一電極に対応する開口を有する隔壁と、前記第一電極上に設けられた有機機能層と、前記隔壁および前記有機機能層上に設けられた第二電極と、前記第二電極と前記第1の配線とを電気的に接続する接続部と、前記第二電極上に設けられた緩衝層と、前記緩衝層上に設けられたガスバリア層と、を備え、前記第二電極は、前記隔壁を覆う第1の領域と、前記接続部に設けられた第2の領域と、を有し、前記緩衝層は、前記第1の領域を覆う第1の緩衝層と、前記第2の領域を覆う第2の緩衝層と、を有し、前記第1の緩衝層と前記第2の緩衝層とは互いに接触していない。 (もっと読む)


【課題】防湿性の向上を図り、光取り出し効率と信頼性に優れた有機EL素子を提供する。
【解決手段】反射性電極2と半透明性電極7との間に、発光層4を含む有機化合物層を配置し、さらに、半透明性電極7の光出射側に、蒸着膜であるバッファ層8と、バッファ層8に接し、CVD法で形成され、バッファ層8と屈折率が異なる第1の無機保護層9と、第1の無機保護層9に接して、CVD法で形成され、第1の無機保護層9と屈折率が異なる第2の無機保護層10と、が順次積層されている。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子を含み、軽量であり、信頼性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】第1の有機樹脂層と、第1の有機樹脂層上の、第1の有機樹脂層の一方の面に接する第1のガラス層と、発光素子上の第2のガラス層と、第2のガラス層上の、第2のガラス層の一方の面と接する第2の有機樹脂層と、を備え、第1の有機樹脂層及び第1のガラス層が、可視光に対する透光性を有し、第1のガラス層及び第2のガラス層は、それぞれ独立に、25μm以上100μm以下の厚さであり、発光素子が、第1のガラス層側から、可視光に対する透光性を有する第1の電極と、発光性の有機化合物を含む層と、第2の電極と、を有する発光装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能、折り曲げ耐性、断裁加工適性に優れたガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】
基材の少なくとも一方の面に蒸着法で形成された第1のバリア層を有し、該第1のバリア層上に、ポリシラザン含有液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層を真空紫外光により第2のバリア層を形成したガスバリア性フィルムにおいて、該第1バリア層はXRD解析においてハロー図形を示し、そのピークのθ値から算出される原子間距離の平均値が6.5Å以下であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】水分や不純物による劣化を抑制できる有機光デバイスを提供する。
【解決手段】支持体と、支持体上に設けられた機能層と、機能層上に設けられた有機化合物を含む発光体とを有し、機能層は、ガリウム又はアルミニウムと、亜鉛と、酸素とを含む絶縁膜を有し、支持体及び機能層は、波長が400nm以上700nm以下の領域で透光性を有する有機光デバイスを提供する。ガリウム又はアルミニウムと、亜鉛と、酸素とを含む絶縁膜を保護膜として用いることで、有機化合物や金属材料への水分や不純物の侵入を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率が高く、且つ製造コストが低い照明装置を提供する。
【解決手段】照明装置に、内面がマイナスフレネルレンズ形状である領域を含む構造体と、当該内面に密接する高屈折率材料層と、を設ける。なお、当該高屈折率材料層は、当該内面に密接する領域においてフレネルレンズ形状となる。これにより、当該高屈折率材料層を介して当該構造体上に設けられた面発光体の光取り出し効率を向上させることが可能である。また、当該高屈折率材料層は、少なくとも当該構造体のマイナスフレネルレンズ形状を埋めることで、当該構造体との界面においてフレネルレンズ形状である領域を含む面を備える。したがって、当該照明装置においては、高屈折率材料層の使用量を低減することが可能である。以上により、光取り出し効率が高く、且つ製造コストが低い照明装置を提供することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】プラスチックフィルムの表面粗さに左右されることなく、所望の水蒸気バリア性を確保できるバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】上記バリアフィルムは、プラスチックフィルムで形成された基材11と、基材11の上に形成された紫外線硬化樹脂からなる下地層12と、下地層12の上にスパッタ法で形成されたSi−Cr−Zr系酸化物からなるバリア層13とを具備する。下地層12は、基材11の表面平坦度の改善を目的として形成され、バリア層13による基材表面の被覆性を高める。これにより、バリア層13の膜質が高まり、所望の水蒸気バリア性を確保することができる。 (もっと読む)


【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を0.01g/m/day以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を1.0g/m/day以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】発光効率が低下しない表示装置を提供する。
【解決手段】発光部15が位置する凹部13が充填膜27で充填されてから無機膜28が形成されるので、無機膜28に亀裂が生じない。無機膜28はダイヤモンドライクカーボンやAlNのように、気密性と熱伝導性が高い材料で構成されているので、発光部15に水や酸素が進入し難いだけでなく、発光部15の熱は無機膜28に伝達され、発光部15が高温にならない。更に、第一パネル10、第二のパネル20の間の隙間は樹脂膜29で充填されているので、外部から大気が進入しない。発光部15は水や酸素や熱によってダメージを受けないので、表示装置1は寿命が長い。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能を有するとともに、折り曲げ耐性、平滑性に優れたガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム、そのガスバリアフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】樹脂フィルムなどの基材1上に、プラズマCVD法などの蒸着法によって形成された金属酸化物を含有する蒸着層2と、ポリシラザンを含む液体を塗布し乾燥した後に真空紫外光を照射して形成されたポリシラザン改質層3とを積層した構成のガスバリアフィルム10において、蒸着層2に真空紫外光を照射するエキシマ処理と、ポリシラザン改質層3にプラズマを照射するプラズマ処理の、少なくとも一方を施すこととした。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子が配列された領域に水分が侵入することを抑制する。
【解決手段】複数のTFT素子が形成された基板GAと、複数のTFT素子の上側に形成される第1の無機絶縁膜IL1と、第1の無機絶縁膜IL1の上側に配列される複数の有機EL素子によって形成される素子配列領域と、素子配列領域内の各画素を隔て、かつ外側を覆う第1の有機絶縁膜OL1と、第1の有機絶縁膜OL1を上側から覆って、第1の無機絶縁膜IL1の第1の有機絶縁膜OL1から露出する部分で重複して密着される第2の無機絶縁膜IL2と、第1の無機絶縁膜IL1に埋設される配線ES3と、を有する有機EL表示装置であって、配線ES3は、第2の無機絶縁膜IL2が密着される密着領域SLの下側を通過する密着領域通過部を有し、密着領域通過部は、主配線部と、主配線部から側方に突出する少なくとも1つの突出部と、を有する、ことを特徴とする有機EL表示装置。 (もっと読む)


【課題】フィルムを屈曲させた場合でもガスバリア性の低下を十分に抑制可能な積層フィルムが提供される。
【解決手段】この積層フィルムは、基材と、前記基材の表面上に形成された少なくとも1層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層は珪素、酸素及び炭素を含有する層であって、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、該層の珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の量の比率(炭素の原子比)との関係を示す炭素分布曲線が、下記条件(i)〜(iii)を全て満たす層を含む:(i)前記炭素分布曲線が実質的に連続であること、(ii)前記炭素分布曲線において、炭素の原子比が、該層の膜厚の全領域において1at%以上であること、及び (iii) 前記炭素分布曲線は、炭素の原子比が増加の傾斜領域と炭素の原子比の減少の傾斜領域とを有すること。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、第1酸化物粉末がMgO粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がCaO粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜99:95〜1であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】封止性能に優れた有機EL装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】基体上に、無機絶縁層と、前記無機絶縁層上に設けられた第1の電極と、前
記第1の電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた第2の電極と、前記第
2の電極を覆うように設けられた第1の封止層と、前記第1の封止層を覆うように設けら
れた樹脂封止層と、前記樹脂封止層を覆うように設けられた第2の封止層と、を備え、前
記第1の封止層、前記樹脂封止層および前記第2の封止層は、それぞれ前記無機絶縁層と
接していることを特徴とする有機EL装置。 (もっと読む)


【課題】極めて高い耐候性、防汚性、ガスバリア性、耐擦傷性とともに、耐曲げ性にも優れる機能性多層フィルムの製造法を提供すること、及びその製造方法で製造された機能性多層フィルムを用いたガスバリア性フィルム、及び有機素子デバイスを提供すること。
【解決手段】基材上に無機系UV吸収剤とUV硬化樹脂とを含有するUVカット性層、ポリシラザン含有の塗布膜に改質処理を施して形成されるシリカ層がこの順で積層されて形成しており、かつUVカット性層はUV硬化処理、シリカ層は波長200nm以下の真空紫外光を照射する改質処理によって形成されたことを特徴とする機能性多層フィルムの製造方法。 (もっと読む)


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