【課題】有機ＥＬ素子からの引出電極と接続対象との接続を確実に行うこと、良好な各有機ＥＬ素子の表示性能を確保すること。
【解決手段】有機材からなる層を含む下地層２と、下地層２上の有機ＥＬ素子領域３と、基板１上周辺部分の有機ＥＬ素子３Ａからの引出電極３０に対し接続対象４を接続する接続部５とを有する有機ＥＬ表示装置で、下地層２は有機ＥＬ素子３Ａ毎の凹凸を埋める平坦化層２０を有し、その上にパシベーション層２１，有機ＥＬ素子３Ａが順次形成され、接続部５は全てパシベーション層２１で覆われ、その上に引出電極３０が形成され、有機ＥＬ素子領域３から接続部５までパシベーション層２１上に形成され、引出電極３０と接続対象４との間に異方性導電膜６を介在させ熱圧着で接続され、熱圧着箇所に合わせ平坦化層２０を除去し、接続部５に面する下地層除去面２０Ａは基板１に対し４５°±３０°の範囲内で傾斜した上向きのテーパ面である。 （もっと読む）

【課題】 ボトムエミッション・タイプの有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、パッシベーション層のガスバリア不足に起因するブラックスポットおよびブラックエリアの発生が抑制された有機ＥＬディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】 色変換フィルタ素子の高分子平坦化層上のパッシベーション層が、透明無機薄膜と透明高分子薄膜とが交互に積層された最上層に透明無機薄膜層を有する多層積層体からなり、かつ、前記最上層の透明無機薄膜の表面が研磨表面からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子の形成時およびその後の経時でもガスバリア性を維持することを目的とする。
【解決手段】基板と、該基板上に設けられた一対の電極と、該電極の間に設けられた有機化合物層とを有する有機ＥＬ素子が、基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられたガスバリア層とを有するガスバリアフィルムで封止された有機ＥＬ素子を製造する方法であって、前記ガスバリアフィルムを、電極上に、該ガスバリアフィルムの基材フィルムが電極側面に位置するように設けることを特徴とするガスバリアフィルムで封止された有機ＥＬ素子を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】高輝度および高効率の発光が可能であり、かつ、容易に製造可能な発光素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の発光素子は、発光層３と、発光層３に電流を注入する一対の電極２，４と、を備えている。発光層３は、蛍光体粒子７と、蛍光体粒子７を分散させるバインダ６とを含んでいる。蛍光体粒子７は、バインダ６中で、一対の電極２，４間に電流パスが形成されるように整列している。このような蛍光体粒子７の整列は、蛍光体粒子７とバインダ６とを含むペーストを用いて発光層３を形成した後、一対の電極２，４間に電圧を印加することによって、実現することができる。 （もっと読む）

【課題】発光素子を有する表示装置の水分によるダークスポットの発生や陰極の剥離を抑える。
【解決手段】第１の基板上に、第１の電極と、第１の電極上の有機化合物層と、有機化合物層上の第２の電極と、を有する発光素子を形成し、第２の基板をサンドブラスト法により選択的に掘削し、第１の領域と、第１の領域に囲まれ前記第１の領域に対して凹状である第２の領域と、第２の領域に対し凹状である第３の領域と、を形成し、第３の領域に乾燥剤を設け、第２の基板が有する第１の領域と第１の基板とを接着材を用いて貼り合わせる。このように、第２の基板に第１の領域に対して凹状である第２の領域を形成することにより、第１の基板と貼り合わせるときに用いる接着剤層の厚みを薄くでき、封止空間への水分の浸入を防ぐことができる。それとともに、乾燥剤を設ける部分だけをさらに凹状に加工しているので、水分が浸入するおそれのある封止空間の体積自体を極力小さくすることができる。これにより、発光素子の劣化を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】膜の固化状態を簡便に検出しながら固化する乾燥方法及び乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板１５に形成される膜の乾燥方法に係り、基板に隔壁部６０を形成する隔壁形成工程と、隔壁部６０に囲まれた塗布領域６１に液状体６２を塗布する塗布工程と、塗布された液状体６２を乾燥して固化する固化工程と、を有し、固化工程は、液状体６２の表面に対して斜め方向から光４０を照射し、液状体６２の表面から反射する光４０の光量を検出する検出工程と反射する光４０の光量を用いて液状体６２の固化状態を判断する固化判断工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】微結晶半導体でなるチャネル形成領域を有する薄膜トランジスタの電気特性を向上させる。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に設けられ微結晶半導体でなる第１の半導体層と、第１の半導体層上に設けられ非晶質半導体を有する第２の半導体層と、第２の半導体層上に設けられたソース領域およびドレイン領域とを薄膜トランジスタに設ける。第１の半導体層には、オン状態でチャネルが形成され、アクセプタとなる不純物元素を含んでいる。第１の半導体層を構成する微結晶半導体層はプラズマ励起化学気相成長法に形成される。微結晶半導体層の形成では、周波数の異なる２以上の高周波電力によりプロセスガスを励起する。 （もっと読む）

【課題】設計目標通りの位置精度および寸法精度で薄膜に開口パターンが設けられた蒸着マスクを得ることが可能な蒸着マスクの作製方法を提供する
【解決手段】設計値に基づいて薄膜１０に開口パターン１０ａが設けられたマスク薄膜１を形成する。開口パターン１０ａの寸法および位置を検知する。検知した値と設計値とのずれ量だけ、レーザ光ｈｒ照射によって開口パターン１０ａ周縁の薄膜１０部分を除去する。 （もっと読む）

【課題】有機発光デバイスの性能を確保する。
【解決手段】第１の電極と第２の電極との間に配置された少なくとも１つの発光性有機材料層を有し、前記第１の電極及び第２の電極の一方が多層構造であり、前記多層構造の各層がＤＣマグネトロンによりスパッタされた層である有機発光デバイスにつき開示する。さらに、第１の電極と第２の電極との間に配置された２つ以上の発光性有機材料層を有し、有機材料の最上層が有機材料の下側層よりもスパッタ付着に対し耐性を有し、さらに前記有機材料の最上層の上に形成された電極がスパッタ層である有機発光デバイスについても開示する。さらに、この種の構造の構築方法についても開示する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、静電気による電荷を保持することができる静電容量を大きくすることによって、表示領域の破壊を抑制し、もって製造歩留まりを向上させるとともに、絶縁基板の切断工程を単純化し、製造工程を短縮することが可能な有機ＥＬパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板上に形成される複数個の表示領域２のうち、隣接する表示領域２同士を、それぞれの表示領域２が有する平板状の共通電極を介して、互いに直接接続し、複数個の表示領域２同士が同電位に形成された基板を準備する工程と、表示領域２の外周に沿って絶縁基板を切断し、隣接する共通電極同士を分断する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高く、発光画素の大きい表示装置およびその製造方法を提供すること
【解決手段】本発明にかかる表示装置は、複数の発光画素が設けられた表示装置であって、少なくとも発光画素となる領域に開口部１ａを有する基板１と、基板１上に形成された下地絶縁膜３と、下地絶縁膜３上に形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１３）と、開口部１ａ内において、下地絶縁膜３のＴＦＴ１３が設けられた面と反対側の面に形成された有機ＥＬ素子２２と、を備え、発光画素では、有機ＥＬ素子２２の発光が、ＴＦＴ１３の設けられた側と反対の視認側から出射されているものである。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、電子デバイス用可撓性基板の製造方法、電子デバイスの製造方法およびそれによって製造された電子デバイスを提供するものである。
【解決手段】可撓性支持体上に少なくともバリア層と平坦化層を有する電子デバイス用可撓性基板の製造方法であって、前記平坦化層が少なくとも熱硬化性樹脂層を有し、前記可撓性支持体上に前記バリア層を設置する工程、および前記熱硬化性樹脂層を前記バリア層面に対面させて加熱により密着させて前記平坦化層を設置する工程を有することを特徴とする。電子デバイスの製造方法およびそれによって製造された電子デバイスも提供される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の基板と大気との間に反射・屈折角を乱れさせる領域を設けることで光取り出し効率を向上するにあたり、広い範囲のなかで有機発光層の厚みを設定して、外部に出射する光の成分の量を向上するための有機エレクトロルミネッセンス素子の設計方法を提供する。
【解決手段】基板６、光透過性の電極１、発光層３及び他の有機層４の、各厚み、屈折率及び消衰係数、並びに光反射性の電極２の屈折率及び消衰係数と、発光層３における発光材料のフォトルミネッセンススペクトルと、発光層３における発光点の位置及び発光分布とをファクターとして、光学伝搬解析を行う。これにより、前記基板６内部を導波する光の成分の量と、上記発光点から光反射性の電極２の表面までの寸法との間の関係を導出する。この関係に基づいて、基板６に反射・屈折角を乱れさせる領域７を設ける場合の有機発光層５の厚みを設計する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属触媒を利用して結晶化した半導体層において、半導体層のチャネル領域内に残存する金属触媒をゲッタリングして半導体層のチャネル領域に残存する金属触媒の量を減少させて電気的特性が優れた薄膜トランジスタ、その製造方法、及びこれを具備した有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明は基板と；基板上に位置して、金属触媒を利用して結晶化した半導体層と；半導体層上に位置するゲート絶縁膜と；ゲート絶縁膜上に位置するゲート電極と；ゲート電極上に位置する層間絶縁膜；及び半導体層のソース／ドレイン領域の一定領域を露出させるコンタクトホールを介して半導体層のソース／ドレイン領域に電気的に連結されるソース／ドレイン電極を含み、コンタクトホール下部の半導体層領域内には半導体層の表面から一定深さまで金属触媒とは異なる金属の金属シリサイドが形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタを提供する。 （もっと読む）

【課題】額縁領域の幅を低減し、且つトランジスタ特性のばらつきの影響を受けることのない駆動回路を設けた表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】単結晶半導体層が着接された絶縁表面を有するベース基板を短冊状に分断し、表示装置の駆動回路に用いることを特徴とする。また本発明においては、絶縁表面を有するベース基板に複数の単結晶半導体層を着接し、当該基板を短冊状に分断することにより、表示装置の駆動回路に用いることを特徴とする。これにより、表示装置のサイズに応じた駆動回路を表示装置に用いることができ、額縁領域の幅を低減し、且つトランジスタ特性のばらつきの影響を受けることのない駆動回路を設けた表示装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】生産コストを削減することができる半導体装置の作製方法、及び該作製方法を用いる製造装置の提案を課題とする。
【解決手段】ボンド基板（半導体基板）をベース基板（支持基板）に貼り合わせた後に、該ボンド基板を劈開させて半導体膜を形成するのではなく、先にボンド基板を複数箇所において劈開することで複数の第１の半導体膜（マザーアイランド）を形成してから、該複数の第１の半導体膜をベース基板に貼り合わせる。そして、上記複数の第１の半導体膜をそれぞれ部分的にエッチングすることで、１つの第１の半導体膜から単数または複数の第２の半導体膜（アイランド）を形成し、該第２の半導体膜を用いて半導体素子を作製する。複数の第１の半導体膜は、半導体素子が有する第２の半導体膜がレイアウトされるべき領域を少なくともカバーするように、上記レイアウトに合わせてベース基板に貼り合わせる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の製造工程で発生するボイドを抑え、有機ＥＬ素子の有機化合物層への水分や酸素の浸入を防止することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１に積層された下部電極２と有機化合物層３、４と上部電極５とそれらを覆うパッシベ−ション層とで、少なくとも構成され、前記有機化合物層４にアルカリ金属又はアルカリ金属化合物を含み、前記上部電極５が酸化膜からなる有機ＥＬ素子において、前記上部電極５の直上に水素を含まない第一パッシベーション層６が形成されており、前記第一パッシベーション層６の上に第二パッシベーション層７が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の基板と大気との間に光拡散層等を設けることで本来基板内を導波する光を外部に取り出して光取り出し効率を向上するにあたり、発光源と光反射性の電極の表面との間の寸法を広い範囲のなかで設定することで、外部に出射する光の成分の量を向上することができる有機エレクトロルミネッセンス素子の設計方法を提供する。
【解決手段】有機発光層５の厚みを異ならせた複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する。各有機エレクトロルミネッセンス素子について、基板６の表面に有機発光層５から基板６内部に到達した光の略全部を取り出すための光取出し手段１２を設けて、この光取出し手段１２から出射する光の成分の量を計測する。これに前記出射する光の成分の量と、有機発光層５の厚みとの関係を導出し、この関係に基づいて、基板６に反射・屈折角を乱れさせる領域７を設ける場合の有機発光層５の厚みを設計することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の基板と大気との間に反射・屈折角を乱れさせる領域を設けることで光取り出し効率を向上するにあたり、広い範囲のなかで有機発光層の厚みを設定して、外部に出射する光の成分の量を向上するための有機エレクトロルミネッセンス素子の設計方法を提供する。
【解決手段】基板６、光透過性の電極１、発光層３及び他の有機層４の、各厚み、屈折率及び消衰係数、並びに光反射性の電極２の屈折率及び消衰係数と、発光層３における発光材料のＰＬスペクトルと、発光層３における発光点の位置及び発光分布とをファクターとして、光学伝搬解析を行う。これにより、前記基板６内部を導波する光の成分の量と基板６から外部に出射する光の成分の量との和と、上記発光点から光反射性の電極２の表面までの寸法との間の関係を導出する。この関係に基づいて、基板６に反射・屈折角を乱れさせる領域７を設ける場合の有機発光層５の厚みを設計する。 （もっと読む）

【課題】堆積法で形成される微結晶半導体層の成膜速度を向上させ、微結晶半導体ＴＦＴにより構成される表示装置の生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】並置された複数の導波管と、壁面で囲まれた処理室にヘリウムを含む反応性気体を供給し、処理室内の圧力を大気圧若しくは準大気圧に保持しつつ、並置された導波管で挟まれた空間にマイクロ波を供給してプラズマを生成し、処理室内に載置された基板上に微結晶半導体でなる微結晶半導体層を堆積する。プラズマは、並置された複数の導波管の対向する面にスリットが設けられ、該スリットを介して処理室内にマイクロ波が供給されることにより生成され高密度化が図られる。プラズマを生成するときの圧力は大気圧若しくは準大気圧であり、代表的には、１×１０^２Ｐａ以上１×１０^５Ｐａ以下の圧力が適用される。 （もっと読む）