【課題】蒸着装置の機構を複雑にすることなく、基板とマスクとを確実に密着させて素子の蒸着を行うことができる、発光特性に優れた有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１０は、絶縁性基板１１上の各有機ＥＬ素子３０間に形成され、着磁された強磁性体材料を有する構造体１３を備える。 （もっと読む）

【課題】外気の遮断性及び密着性に優れると共に外力に強い保護膜を提供する。
【解決手段】有機機能素子２０側に形成されたポリシラン化合物を主体とするポリシラン化合物層３１と、有機機能素子２０とは反対側に形成されたシロキサン化合物を主体とするシロキサン化合物層３２とを少なくとも含むことを特徴とする保護膜３０。 （もっと読む）

【課題】密閉性の向上をはかり、長期にわたって信頼性の高い有機ＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】透明基板１と、透明基板１の一面１ａにあって、局所的に順に積層された第一電極２、有機層３、及び第二電極４からなる構造体６とから少なくともなる有機デバイスであって、微粒子から構成される封止部材５が、構造体６を覆うように透明基板１の一面１ａに配され、封止部材５を構成する微粒子が透明基板１の一面１ａにめり込まれてなること。 （もっと読む）

【課題】水分の影響を効果的に除去し、かつ、製造コストを抑えることが出来る有機ＥＬ表示装置の封止方法を得る。
【解決手段】有機ＥＬ層２２がマトリクス状に形成された素子基板１０と対向して封止基板４０がシール材５２を介して設置されている。素子基板１０、封止基板４０、シール材５２で囲まれた内部には、ゲル状乾燥剤３０が充填されている。ゲル状乾燥剤３０はゲル状態であるから、有機ＥＬ表示装置の内部を柔軟に充填し、隙間を完全に無くすことが出来る。内部にはゲル状乾燥剤３０が充填されているので、外部から水分が浸入しにくく、また、有機ＥＬ表示装置としての機械的強度も向上する。封止基板４０に乾燥剤設置のための凹部を形成する必要はなく、平板を用いることが出来るので、製造コストを低減することが出来る。 （もっと読む）

【課題】 フレキシブル基板として、酸素や水蒸気等の透過に対するガスバリア性が要求される電子部品に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なっても、クラック等の変形を防止できる表示素子用プラスチック基板及び表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルム１の少なくとも片面に、無機化合物層２と紫外線硬化樹脂層３が該順序で交互に１回以上積層してあり、さらに最外層に無機化合物層４が積層された表示素子用プラスチック基板１０であって、該紫外線硬化樹脂層は、２官能以上の環状構造を有したアクリルモノマーを主成分とする樹脂を硬化したもの、またはポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂を硬化したものからなる構成とした。これにより、上記課題を解決できた。 （もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、また発光特性及び寿命特性が良好な有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板６上に、陽極２、正孔注入層７、発光層４、電子注入層５および陰極３がこの順に積層されて構成される。電子注入層５が、モリブデン、タングステン、バナジウム、タンタル、チタン、およびＩＩｂ族から成る群から選ばれる１種以上の金属の酸と、カリウム、ルビジウムおよびセシウムから成る群から選ばれる１種以上のアルカリ金属との塩を含む。 （もっと読む）

【課題】ファイバ基板素子上に形成された絶縁膜を挟む導電膜間の電気的接続を容易に得ること。
【解決手段】略矩形のファイバ基板１を基板としてファイバ基板１の表面上に素子および／または配線を形成する場合、ファイバ基板１の表面１ａおよび表面１ａに隣接する表面１ｂにわたって第１導電膜２を形成し、さらに少なくとも表面１ａの第１導電膜を覆った絶縁膜３を形成し、その後、絶縁膜３を覆うとともに表面１ｂに形成された第１導電膜２を覆うように表面１ａおよび表面１ｂにわたって第２導電膜４を形成し、表面１ｂ上で第１導電膜２と第２導電膜４とを電気的に接続する接続部５を形成する。 （もっと読む）

【課題】立体的な高さを持つ壁としての枠部を形成しなくて済む表示パネル及び表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板１２上に画素電極１３をマトリクス状に形成し、この透明基板１２をシラザン化合物溶液塗布して、ラザン化合物を加水分解重合させ、濡れ性可変層１４’を形成する。光触媒膜４３を透過した活性光線を囲繞領域１９及び画素電極１３の配列された範囲を囲繞する領域に照射する。濡れ性可変層１４’が親液性領域１４ａ，１４ｃと撥液性領域１４ｂ，１４ｄにパターン化される。親液性領域１４ａに有機化合物含有液を塗布することによって、ＥＬ層１５を成膜し、次にＥＬ層１５上に対向電極１６を形成する。その後、対向電極１６に水分遮断シート８１を接着し、水分遮断シート８１の外周部に樹脂を塗布し、樹脂シール８２及び水分遮断シート８１をガスバリア薄膜８３で被覆する。 （もっと読む）

【課題】パネルの外観性を向上させ、封止部材の剥離強度を担保し、更に、生産性の向上を図る。
【解決手段】基板上１１に、有機ＥＬ素子２０を形成し、有機ＥＬ素子２０を外気から遮断する封止部材１５を基板１１に貼り合わせ、基板１１と封止部材１５との接着領域Ｍの一部を横切って、引き出し配線１２Ａ，１４Ａを形成した有機ＥＬパネル１０であって、少なくとも接着領域Ｍにおける引き出し配線１２Ａ，１４Ａが形成されていない領域を覆うように、引き出し配線１２Ａ，１４Ａの疑似パターン３０を形成し、疑似パターン３０は、基板１１の側辺に対して斜めの同方向に形成された複数のライン状開口パターン３０ａを有する。 （もっと読む）

【課題】脆性基板を用いた表示パネルの破損を抑制する。
【解決手段】脆性を有する第１基板１ａと、第１基板１ａに対向して配置された第２基板２ａと、第１基板１ａ及び第２基板２ａの間に設けられた表示媒体層とを備えた表示パネル１０ａであって、第１基板１ａの端面における第２基板２ａ側にクラックＣが形成されている。 （もっと読む）

【課題】複数の単結晶半導体基板をガラスを例とする大判支持基板に貼り合わせを行う際に、効果的な位置あわせ方法を提案する。また、同工程の際に、貼り合わせ界面の異物の付着を低減する方法を提案する。
【解決手段】複数の単結晶半導体基板を、対応するトレイに基板表面を鉛直下向きとして配置し、大判支持基板を該基板の表面を鉛直上向きとして配置する。次に単結晶半導体基板をトレイから離間し、単結晶半導体基板の側面を支持しつつ該基板の一部に圧力を加え、単結晶半導体基板と大判支持基板の表面との貼り合わせを行なう。またこのような処理に必要な、単結晶半導体基板の背面を持着し該基板表面を鉛直下向きにして保持し、該基板の側面部を支持するステージと、大判支持基板の表面を鉛直上向きにして持着するステージと、を近接させ、単結晶半導体基板の背面の一部に圧力を加える圧力付加機構とを有する装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】立体的な高さを持つ壁としての枠部を形成しなくて済む表示パネル及び表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板１２上に画素電極１３をマトリクス状に形成し、この透明基板１２をシラザン化合物溶液塗布して、ラザン化合物を加水分解重合させ、濡れ性可変層１４’を形成する。光触媒膜４３を透過した活性光線を囲繞領域１９及び画素電極１３の配列された範囲を囲繞する領域に照射する。濡れ性可変層１４’が親液性領域１４ａ，１４ｃと撥液性領域１４ｂ，１４ｄにパターン化される。親液性領域１４ａに有機化合物含有液を塗布することによって、ＥＬ層１５を成膜し、次にＥＬ層１５上に対向電極１６を形成する。その後、対向電極１６に水分遮断シート８１を接着し、水分遮断シート８１の外周部に樹脂を塗布し、樹脂シール８２及び水分遮断シート８１をガスバリア薄膜８３で被覆する。 （もっと読む）

【課題】高い光取り出し効率を有する有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板７の一方の表面上に、陽極４、正孔注入層６、発光層２、および陰極５がこの順に積層され、基板７の他方の表面上に、フィルム３が積層されて構成される。フィルム３は、発光層側とは反対側の表面が凹凸状であり、ヘイズ値が７０％以上、かつ全光線透過率が８０％以上である。フィルム３は、基台の表面上に、前記フィルム３となる材料を含む溶液を塗布する塗布工程と、塗布された溶液を、湿度が８０％〜９０％の範囲において保持した後に乾燥し、成膜化する成膜工程とを含んで成膜される。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ表示装置に搭載する薄膜トランジスタの作製工程を簡略化する。
【解決手段】第１の導電膜と、絶縁膜と、半導体膜と、不純物半導体膜と、第２の導電膜とを積層し、この上に第１のレジストマスクを形成し、第１のエッチングを行って薄膜積層体を形成し、該薄膜積層体に対してサイドエッチングを伴う第２のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、第２のレジストマスクを用いてソース電極及びドレイン電極層等を形成することで、薄膜トランジスタを形成し、該薄膜トランジスタを用いてＥＬ表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリックス型表示装置の生産性を向上させるとともに、接続不良を確実に防止し、発光素子の点灯不良を改善できるようにする。
【解決手段】第２金属層３６ｂ上に積層された絶縁保護膜６１及び絶縁保護膜上６１に積層された絶縁平坦化膜６２は、第２金属層３６ｂとアノード電極２１とを電気的に接続する接続コンタクト６３を上下方向に通す穴状のコンタクトホール６０ａを備え、コンタクトホール６０ａは、絶縁保護膜６１の内周面と絶縁平坦化膜６２の内周面とが段差なくつながって形成された下に凸の錐形状となっている。 （もっと読む）

【課題】キャリア輸送層の膜厚むらを低減する。
【解決手段】ＥＬパネル１００は、画素回路のソース電極６ｉを露出可能とするように離間して設けられた平坦化膜１２ｂを備えており、その離間した平坦化膜１２ｂ間に相当する第二開口部１２ｄ部分に設けられたバンク１３は上面が平坦な安定した形状を有しているので、そのバンク１３は、バンク１３間に塗布される有機発光材料が含有される液状体を好適に塞き止めることができ、バンク１３間に形成されるキャリア輸送層（正孔注入層８ｂ、発光層８ｃ）は安定した膜厚を有することとなって、そのキャリア輸送層の膜厚むらを低減することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】電極の間に有機物層とパターン状絶縁層とが形成されている有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極３と発光層５を含む有機物層１３が形成された陽極基板１１と、陰極７が形成された陰極基板８とを準備して、上記陽極基板１１の有機物層１３の表面に、絶縁層転写フィルムの転写層を転写してパターン状絶縁層６を設け、このパターン状絶縁層６が形成された陽極基板１１と上記陰極基板１２とを貼り合わせて有機ＥＬ素子１を製造した。 （もっと読む）

【課題】絶縁層が所定のパターンに形成された有機ＥＬ素子において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に発光層等の有機物層に対して悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陽極３と転写により形成されたパターン状絶縁層と発光層５を含む有機物層１３とが形成され、有機物層１３が表面に形成されている陽極基板１１と、陰極７が形成された陰極基板１２とを準備して、上記陽極基板１１の有機物層１３と陰極７が界面となるように陽極基板１１と陰極基板１２を貼り合わせて有機ＥＬ素子１とした。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子から放射される光により画素トランジスタが劣化することを防止する。
【解決手段】基板２の上面に形成された画素電極２０ａ及び画素トランジスタ２１，２２と、画素電極２０ａの外周部及び画素トランジスタ２１，２２を被覆するように形成された保護絶縁膜３２と、保護絶縁膜３２の上部に形成された隔壁６と、隔壁６の上部に形成された光吸収層８と、画素電極２０ａの上部に形成された有機化合物層２０ｂと、有機化合物層２０ｂ、隔壁６及び光吸収層８の上部に形成された対向電極２０ｅと、を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル１０である。 （もっと読む）

【課題】暗所でも視認性の高い透視性シートおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】第１透明基材２１と、第１透明電極層２２と、透明絶縁層２３とを積層してなる第１電極積層体２と、第２透明基材３１と、第２透明電極層３２とを積層してなる第２電極積層体３と、第１電極積層体２と第２電極積層体３との間に設けられたドット部４（発光層４１と、誘電体層４２と、透視制御層４３とを積層してなる）とを備えた透視性発光シート１。 （もっと読む）