【課題】ガラスフィルムの損傷を防止すると共に、取り扱い性を向上させることができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるガラスフィルム積層体１０は、支持フィルム１１と、支持フィルム１１に粘着層１３を介して積層されたガラスフィルム１２と、を備えている。ガラスフィルム１２は、支持フィルム１１の幅および粘着層１３の幅より小さい幅を有している。ガラスフィルム１２が、ガラスフィルム１２の両側から支持フィルム１１および粘着層１３がはみ出すように配置されて、ガラスフィルム１２の両側に、支持フィルム１１および粘着層１３の側部領域１４が形成されている。側部領域１４において、粘着層１３上に非粘着層１５が設けられており、非粘着層１５は、ガラスフィルム１２に接している。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ照明パネルの透明電極に形成される開口部の割合を大きくする。
【解決手段】素子基板１１の表面全面にＩＴＯ膜を真空蒸着法で積層した透明電極１３の上に、素子基板１１の四辺に沿ってクロムからなる第１給電部としての正電極給電部２０を形成し、正電極給電部２０の上にアクリル系フォトレジスト材料を用いて塗膜・パターン形成を行い、層間絶縁膜１４を形成する。続いて、有機ＥＬ発光層１５を形成するが、層間絶縁膜１４及びレジストパターン２２がマスクの役割を果たすため、アライメント精度の高いシャドーマスクは必要ない。さらに、アルミニウムを真空蒸着して金属電極１６を形成する。金属電極１６の四辺にアルミニウム膜を厚く積層して、第２給電部としての負電極給電部２１を形成し、金属電極１６の上に封止基板１２を積層する。 （もっと読む）

【課題】 耐久性により優れた有機電界発光素子を提供しえる、ハロゲン不純物の少ないホスト材料を高い収率で提供する、ホスト材料の昇華精製方法、該ホスト材料の昇華精製方法により精製されたホスト材料、該ホスト材料を用いた有機電界発光素子、並びに、該有機電界発光素子を用いた発光装置、表示装置及び照明装置を提供する。
【解決手段】 フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群より選択される少なくとも一種のハロゲン元素を含有する不純物を含むホスト材料を、第２族元素の酸化物及び第２族元素の炭酸塩からなる群より選択されるアルカリ性無機吸着材料、並びに、非アルカリ性無機吸着材料と混合して昇華精製する工程を含む、有機電界発光素子の発光層を形成するホスト材料の昇華精製方法。 （もっと読む）

【課題】マルチカラーの発光が可能であって、消費電力が低減された発光パネルを提供する。
【解決手段】４００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の波長を有する光と６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満の波長を有する光とを含む光を発する、一対の電極に挟持された発光性の有機化合物を含む層を、光学距離を６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満とする一対の反射膜と半透過・半反射膜の間に設けて、明度が高く淡い色を呈する光を発する第１の発光素子と、光学距離を６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満８００ｎｍ未満とする一対の反射膜と半透過・半反射膜の間に設け、更に赤色を呈する光を透過する層を該半透過・半反射膜に重ねて備える第２の発光素子と、光学距離を４００ｎｍ以上６００ｎｍ未満８００ｎｍ未満とする一対の反射膜と半透過・半反射膜の間に設けて、彩度が高く赤色とは異なる色を呈する光を発する第３の発光素子を有する発光パネル。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡易なプロセスで製造することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置１Ａは、基板１１上にゲート電極１２ａを形成した後、積層膜２４の形成工程において、ゲート電極１２ａ上にゲート絶縁膜１３を介して、半導体層１４、第１保護膜１５、第２保護膜１６、平坦化膜１７、ソース・ドレイン電極層１８および画素分離膜１９を、フォトリソグラフィ技術を用いて形成する。この後、有機ＥＬ層を含む機能層２０と共通電極２１とをこの順に形成する。積層膜２４のうちの少なくとも一部において２層以上を一括してパターニングすることにより、各層毎にパターニングする場合に比べ、使用するフォトマスクの枚数が減る。フォトレジストなどの使用材料が少なくなり、工程数も削減される。 （もっと読む）

【課題】十分な反射防止性を有しながら耐傷性の向上した反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】透明支持体上に、低屈折率層形成用塗布組成物を塗布し光照射して最外層に低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記低屈折率層形成用塗布組成物が、含フッ素ポリマー及び外殻の内部に１つの空孔を有する屈折率１．１７〜１．４０の中空シリカ微粒子を含有し、
該含フッ素ポリマーが、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位とを構成成分とする含フッ素共重合体であり、かつ
前記中空シリカ微粒子の平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ層と上部電極層との形成に用いるメタルマスクを削減可能な構成の発光装置及びその作製方法を提供すること。または上部電極層の抵抗に起因する電位降下が抑制され、且つ信頼性の高い発光装置を提供すること。またはこのような発光装置が適用された照明装置、及び表示装置を提供すること。
【解決手段】基板上に設けられた共通配線上に接して、絶縁性を有し底部よりも上部が基板面方向にせり出した形状の分離層を設ける発光装置とすればよい。当該共通配線上に設けられた分離層上に形成されたＥＬ層は当該分離層で物理的に分断され、また、同じ位置に形成された上部電極層は当該分離層で物理的に分断されると共に、当該分離層のせり出した部分と重なる領域において、当該共通配線と接触する構成とすればよい。またこのような共通配線を補助配線として用いればよい、また、このような発光装置を照明装置、及び表示装置に適用すればよい。 （もっと読む）

【課題】側壁スペーサを形成することなく、且つ、工程数を増やすことなく、自己整合的にＬＤＤ領域を少なくとも一つ備えたＴＦＴを提供する。また、同一基板上に、工程数を増やすことなく、様々なＴＦＴ、例えば、チャネル形成領域の片側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴと、チャネル形成領域の両側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴとを形成する作製方法を提供する。
【解決手段】回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にＬＤＤ領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】端子における十分なコンタクト領域を確保可能な電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての有機ＥＬ装置１は、発光素子２１が設けられた発光領域４と、発光領域４の外側に設けられた端子部２１０と、発光領域４の全面および端子部２１０の少なくとも一部を覆うように設けられた封止膜５３と、端子部２１０に設けられ、発光素子２１と電気的に接続された第１配線５１と、端子部２１０における封止膜５３および第１配線５１上に設けられ、第１配線５１と電気的に接続された第２配線５２と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造により広い視野角を得ることができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１０は、有機ＥＬ光源用基板２１と、有機ＥＬ光源用基板２１の観察側の面に設けられた有機ＥＬ層２２とを有する有機ＥＬ光源２０と、有機ＥＬ光源２０の観察側に設けられたカラーフィルタ３０と、を備えている。カラーフィルタ３０は、カラーフィルタ用基板３１と、カラーフィルタ用基板３１上に所定パターンで設けられたブラックマトリクス層３２と、カラーフィルタ用基板３１上のブラックマトリクス層３２間に設けられた赤色着色層３３Ｒ，緑色着色層３３Ｇおよび青色着色層３３Ｂと、を有している。これら各着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂの表面３４には、複数の凹部３５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】オフ電流が低減できる半導体装置及び半導体装置を提供する。
【解決手段】絶縁表面上に形成され、ソース領域、ドレイン領域、及びチャネル形成領域を含む単結晶半導体層と、単結晶半導体層を覆うゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜を介して、チャネル形成領域に重畳するゲート電極と、ソース領域に接続されるソース電極と、ドレイン領域に接続されるドレイン電極と、を有し、ソース領域及びドレイン領域のうち、少なくともドレイン領域は、チャネル形成領域に隣接する第１の不純物領域と、第１の不純物領域に隣接する第２の不純物領域と、を含み、第１の不純物領域の深さ方向の不純物濃度分布の極大は、第２の不純物領域の深さ方向の不純物濃度分布の極大よりも絶縁表面側にあり、ドレイン電極は、ドレイン領域に含まれる第２の不純物領域の一部と接続する半導体装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、隣の画素に光が出射することによる損失を低減して光取り出し効率を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置用対向基板および有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子基板に対向するように配置される有機ＥＬ表示装置用対向基板であって、透明基板と、上記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁とを有し、上記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、上記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置用対向基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】剥離工程を簡略化し、且つ大型基板に対する剥離・転写を均一に行う半導体装置
の方法を提供する。
【解決手段】第１の基板上に金属膜を形成し、金属膜に接して珪素を有する絶縁膜を形成
すると金属膜の表面には酸化金属膜が形成されている。そして、絶縁膜上に薄膜トランジ
スタ等の半導体素子を形成する。第１の接着剤を用いて、半導体素子上に第２の基板を固
定し、かつ第１の基板を分離し、第２の接着剤を用いて、半導体素子下にフィルム基板等
の第３の基板を固定し、かつ第２の基板を分離するときに、紫外線を照射することによっ
て、第１の接着剤の粘着性の低下又は剥離と、第２の接着剤の硬化とを同時に行う。 （もっと読む）

【課題】高精細化に対応でき、組立後の光学調整を不要にすることが可能な発光装置、発光装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】第１発光素子が設けられた第１ベース基板３１と、平面的に第１発光素子と重ならないように第２発光素子が設けられた第２ベース基板３２と、第１ベース基板３１と第２ベース基板３２との間に配置され、第１発光素子の光を透過する第１マイクロレンズ４１が設けられた第３ベース基板３２ａと、第２ベース基板３２上に配置され、第２発光素子の光を透過する第２マイクロレンズ４２が設けられた第１レンズ基板３３と、第１レンズ基板３３上に配置され、第１発光素子及び第２発光素子の光を透過する第３マイクロレンズ４３が設けられた第２レンズ基板３４と、を有し、各基板は、それぞれ所定の距離をおいて積層配置されていると共に、支柱５１，５２に支持及び固定されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性の優れた酸化物半導体を用いた半導体装置を提供する。又は、信頼性の優れた酸化物半導体を用いた発光装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体を用いた半導体素子と共に封止される第２の電極は、その活性が損なわれ難い。活性な第２の電極と半導体装置に残存および／又は装置外から浸入する水分が反応して生じる水素イオンおよび／又は水素分子が、酸化物半導体のキャリア濃度を高め、半導体装置の信頼性を損なう原因となる。一方の面を有機層と接する第２の電極の他方の面の側に、水素イオンおよび／又は水素分子の吸着層を設ければよい。また、第２の電極に水素イオンおよび／又は水素分子が透過する開口部を設ければよい。 （もっと読む）

【課題】マスク利用回数が低減してコストダウンができ、かつ製造の容易な有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極と絶縁されたソース電極及びドレイン電極と、ゲート電極と絶縁されてソース電極及びドレイン電極にそれぞれ接する半導体層と、を備える薄膜トランジスタ；ソース電極及びドレイン電極のうちいずれか一つに電気的に連結された画素電極を備え、ゲート電極は、第１導電層と第１導電層上の第２導電層とを備え、画素電極は、第１導電層と同一物質で同一層に形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】光取り出し構造として必要な、互いに屈折率の異なる材料を周期的に配列した構造を、高分子材料を残留させることなく容易に形成することができるようにする。
【解決手段】高分子を含む捕捉層２１上に、無機粒子１２を液体分散媒２２中に分散させた無機粒子分散液の塗膜を形成し、前記液体分散媒２２を揮発させて、前記捕捉層２１上に前記無機粒子１２の堆積層を形成する。次いで、前記捕捉層２１を加熱して、前記堆積層の最下層の無機粒子１２を前記捕捉層２１中に埋め込んで捕捉し、捕捉されていない余剰の無機粒子１２を除去してから焼成し、前記捕捉層２１を除去すると共に前記捕捉層２１に捕捉されていた前記無機粒子１２を前記透明基板８へ接着し、前記無機粒子１２とは屈折率の異なる無機バインダー１３で埋め込んで光取り出し構造９とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、電界効果移動度が大きい酸化物半導体層を用いた半導体装置の作製方法を提供することを課題の一つとする。また、高速動作可能な半導体装置の作製方法を提供することを課題の一つとする。
【解決手段】酸化物半導体層をハロゲン元素により終端化させて、酸化物半導体層と、酸化物半導体層と接する導電層のコンタクト抵抗の増大を抑制することで、酸化物半導体層と導電層のコンタクト抵抗が良好になり、電界効果移動度が高いトランジスタを作製することができる。 （もっと読む）

【課題】新規のＩＩ−ＩＩＩ−Ｖ化合物半導体を提供する。
【解決手段】本願は、Ｚｎ−（ＩＩ）−ＩＩＩ−Ｎにて示される新規の化合物半導体の形態の新たな組成物を提供する。このとき、上記ＩＩＩは、周期表のＩＩＩ族に属する１つ以上の元素であり、上記（ＩＩ）は、任意の元素であって、周期表のＩＩ族に属する１つ以上の元素である。上記化合物半導体の例としては、ＺｎＧａＮ、ＺｎＩｎＮ、ＺｎＩｎＧａＮ、ＺｎＡｌＮ、ＺｎＡｌＧａＮ、ＺｎＡｌＩｎＮ、および、ＺｎＡｌＧａＩｎＮを挙げることができる。このタイプの化合物半導体は、従来、知られていないものである。 （もっと読む）

【課題】支持体によってガラスフィルムを適切に保護することが可能となると共に、ガラスフィルムと支持体とを容易に剥離することを可能とするガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】ガラスフィルム２に支持体３を積層したガラスフィルム積層体１であって、前記支持体３は、前記ガラスフィルム２から食み出して積層され、前記支持体３には、前記ガラスフィルム２の少なくとも１つのコーナー部２１を前記支持体３から露出させる剥離開始部４が、前記支持体端辺３２から離間して設けられていることを特徴とするガラスフィルム積層体１とする。 （もっと読む）