説明

Fターム[3K107GG03]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 製造方法、装置 (15,131) | 成膜方法 (6,048) | 乾式 (2,141) | CVD (250)

Fターム[3K107GG03]に分類される特許

201 - 220 / 250


【課題】連続成膜に適した高生産性を有する高ガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム上にガスバリア性積層体を有してなるガスバリア性フィルムにおいて、該ガスバリア性積層体が、珪素酸窒化物層、有機中間層、珪素酸窒化物層の順に互いに隣接して配置された3層からなるユニットを少なくとも1つ有するように構成する。 (もっと読む)


【課題】 低透湿性の透明封止方法を提供することにより、上面発光パネルの封止にも使用することができ、狭額縁パネルでも長期にわたり劣化しない有機エレクトロルミネッセンスパネルおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 複数のボックス状隔壁3のうち少なくとも最外周部に位置するボックス状隔壁3には有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されず、それら有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されない最外周部に位置するボックス状隔壁3により最外周ボックス状隔壁群3Aが構成されている。 (もっと読む)


【課題】上面への発光効率が優れた発光素子の構造を提供する。
【解決手段】発光層を挟んで基板面に平行な方向に2つの電極を並べる構造とする。発光層の下方にも電極が配置されない。従って、発光層の下方に反射膜を設けて、上面への発光効率を向上させることもできる。例えば、発光層よりも屈折率の低い膜を設け、屈折率に差がある積層の界面で発光層の下方への発光を反射し、上面への発光効率を向上させることができる。また、発光層の下方に反射率の高い金属膜(固定電位またはフローティング状態の反射金属膜)を配置することもできる。 (もっと読む)


【課題】短絡部分の発生を未然に防止し、より長寿命の有機EL素子を提供する。
【解決手段】陽極層、陰極層及びこれらに挟持された有機発光層を含む積層体が封止された状態で基板上に設けられてなる素子であって、少なくとも前記陰極層上にポリパラキシレン系絶縁層が形成されていることを特徴とする有機電界発光素子に係る。 (もっと読む)


【課題】リフトオフ法の問題点を克服することができる、マスキング手段を用いた無機絶縁膜の形成方法、およびそれを用いた有機ELディスプレイの製造方法の提供。
【解決手段】透明電極基板、透明電極、絶縁膜、有機EL層、および反射電極を含み、該絶縁膜は透明電極と反射電極との交差部分に開口部を有する有機ELディスプレイの製造方法であって、透明電極上にメタル立体マスクを載置した状態で、絶縁膜を形成する工程を備えたことを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子に熱ダメージを与えることなく保護膜を成膜する。
【解決手段】一対の電極と、前記一対の電極の間に配置されている有機化合物層を有する有機EL素子に保護膜を成膜する工程で、基板1の有機EL素子が積層された第1面に対向する面を有するガス供給手段11の配管11aを、冷却水通路17によって冷却する。配管11aからの熱輻射によって基板1を冷却すると同時に、基板1の有機EL素子が積層された第1面の反対側の第2面に対向するアース14を、冷却水通路16によって冷却する。保護膜成膜中に、基板1を両面側から効果的に冷却することで、有機EL素子に熱ダメージを与えるのを防ぐ。 (もっと読む)


【課題】基板とマスクを高いアライメント精度で互いに密着させる。
【解決手段】基板10の両端を、基板支持部材11と平面部材13の間に挟持し、基板10の中央部を基板押圧部材12によって凸形状に撓ませる。マスク20も、マスク置台21上でマスク押圧部材22によって基板10に向かって凸形状に撓ませる。マスク20と基板10の面方向のアライメントを行った後、両者を接近させて凸形状部を初期密着させ、基板押圧部材12およびマスク押圧部材22を後退させながら、マスク20と基板10の全面を互いに密着させる。マスク押圧部材22は省略してもよい。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能を有し、かつ接着剤との接着性が充分なガスバリア性樹脂基材を提供し、またこれを用いたガスバリア耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンスデバイス(以下、有機ELあるいはOLEDと称す)を提供する。
【解決手段】透明樹脂基材の少なくとも1面に、酸化珪素を含有するガスバリア層を有するガスバリア性樹脂基材において、該ガスバリア層が、炭素含有率が0.2〜4.9at%である酸化珪素を含有する第一の層3と、炭素含有率が0.1at%以下である酸化珪素を含有する第二の層4と、炭素含有率が0.2〜4.9at%である酸化珪素を含有する第三の層5を、物理気相成長法または化学気相成長法により、順次少なくとも1組以上形成した、積層構成を有していることを特徴とするガスバリア性樹脂基材。 (もっと読む)


【課題】気相成膜法により成膜する際に用いられるマスクに付着したアルカリ金属、アルカリ土類金属またはランタノイド系金属のフッ化物のうちの少なくとも1種を、容易かつ確実に除去し得るマスクの再生方法を提供すること。
【解決手段】本発明のマスクの再生方法は、シリコンで構成される部位を有し、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはランタノイド系金属のフッ化物のうちの少なくとも1種を気相成膜法により成膜するのに使用されるマスクから、使用後に付着した前記フッ化物を除去してマスクを再生する方法であり、前記フッ化物を、pH7以下の除去液に接触させることにより除去する除去工程と、マスクを洗浄する洗浄工程とを有する。 (もっと読む)


デバイスを製造する際に表面上に層を形成する方法であって、気化した材料を受け取る分配部材であって、チェンバーを規定する1つ以上の壁面を持ち、1つの壁面の中に複数の開口部からなる多角形二次元パターンが形成されていて、その開口部が気化した材料を分子流として上記表面上に供給する構成の分配部材を用意するステップと;開口部からなる多角形二次元パターンに少なくとも4つの頂部を設け、第1の開口部セット(80)をその頂部に配置し、縁部用の第2の開口部セット(78)を第1の開口部セットの2つの開口部の間に配置して多角形二次元パターンの縁部を規定し、内側用の第3の開口部セット(74)を、第1の開口部セットと第2の開口部セットによって規定される多角形二次元パターンの周辺部の中に配置するステップと;望む流速が得られるように開口部のサイズを決めるステップを含む方法。
(もっと読む)


【課題】封止特性および段差側壁の被覆性良好な保護膜によって発光素子を保護することが可能で、これにより発光素子の劣化を防止して表示特性を良好に維持することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】基板2上に設けられた有機電界発光素子3を保護膜4で覆ってなる表示装置1において、保護膜4は、アンモニアガスを用いた化学的気相成長法によって成膜された窒化シリコン膜4a,4b,4cを積層してなると共に、当該保護膜4の表面層に高密度窒化シリコン膜4cが設けられ、その下層にこれよりも低密度の低密度窒化シリコン膜4bが設けられていることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】蛍光体の輝度劣化や信頼性低下が少なく、グロー放電のような真空封入や高電圧印加、さらに高度な薄膜技術を必要としない発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の発光素子(1)は、空隙を有する絶縁体と無機蛍光体粒子(11)を含む多孔質発光体(13)と、発光体(13)の表面に接触するように設けた少なくとも2つの電極(14a,14b)を含み、少なくとも2つの電極(14a,14b)に電圧を印加し、放電を発生させ、前記放電により発光体(13)を励起発光させる。この発光素子(1)をマトリクス状に2次元配列することにより、簡単な構成で安価な平面ディスプレイデバイスを提供できる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機化合物を含む発光素子を製造するための装置および方法に関する。
【解決手段】これらの素子には、有機発光ダイオードが備えられており、ディスプレイまたはかかる発光ダイオードを有する照明素子であってもよい。本発明の目的は、製造のために使用する時間のコストに関する製造経費を低減することである。この場合、既に前処理された基板が連続式真空コーティングプラントにおいてさらに加工される。かかる基板上には、その上方に発光のために適合する有機化合物の少なくとも一つの層が蒸着することが意図されている電極が形成される。蒸着は相違する角度分布を備えて行われる。このためにはシャドーマスクが使用される。蒸着における角度分布は、シャドーマスクから基板までの間隔および/または上部電極および有機物層を蒸着するためのソースの基本圧を変化させることによって適応させることができる。 (もっと読む)


【課題】シリコン(Si)基板上に形成されたZnOナノチップ電界発光(EL)素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、Si基板を形成する工程1502と、Si基板を覆う下部接触部を形成する工程1504と、下部接触部を覆うシード層を形成する工程1506と、シード層を覆う、頭部を備えるZnOナノチップを形成する工程1508と、ZnOナノチップ覆う絶縁膜を形成する工程1510と、絶縁膜をエッチングする工程1512と、ZnOナノチップの頭部を露出させる工程1514と、ZnOナノチップの露出させた頭部を覆う透明電極を形成する工程1516とを含む。 (もっと読む)


基板1と、前記基板へ加えられ、第1電極3及び第2電極4間に構成される少なくとも一つの連続機能層2を含む層構造2,3,4と、1つ以上の粒子13のカプセル化のための、前記基板から離れた前記層構造の側に構成される、前記第2電極4へ加えられるマグネシウムカバー層15と、を有する電圧動作層回路が記載される。
(もっと読む)


【課題】半導体ナノ結晶粒子間の間隙を充填物質で満たした半導体ナノ結晶層を有する発光素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】正孔を注入する第1電極と、前記第1電極に対向する、電子を注入する第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に位置し、半導体ナノ結晶の粒子と、前記半導体ナノ結晶の粒子間の間隙を満たす充填物質とを含む半導体ナノ結晶層と、を含む発光素子である。 (もっと読む)


【課題】EL層上に陰極層を形成する際に、EL層が劣化する欠点を解消し、かつ、本来の機能の低下のないEL素子を提供すること、およびそのようなEL素子を製造するのに適した製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基材2上に陽極層3A、EL層4、電荷輸送性保護層5、および陰極層3Bが順に積層された積層構造を有しており、電荷輸送性保護層5を、例えば、TPDのような正孔輸送性材料を用いてEL素子1を構成することにより、課題を解決することができた。 (もっと読む)


本発明は、発光化合物に関し、特に電気光学用途に適した三重項発光体に関する。本発明による化合物は、中間の6員環によって、5員環又は6員環に連結する1つの5員環の主鎖を有する、金属、有利にはIrの有機金属錯体である。これらの化合物は、少なくとも1つの5員又は6員環構造内の原子又は基の適合によってUV〜NIR範囲の発光への適合に適している。 (もっと読む)


【課題】耐熱性が高く、線膨張係数が低く、ガスバリア性が高く、柔軟性も備えたディスプレイ用基板を提供する。
【解決手段】粘土薄膜層1と無機薄膜層2とをそれぞれ1層以上有する層構造体をディスプレイ用基板とする。粘土薄膜層1は、粘土を主要成分とし、粘土粒子が高度に配向して積層した構造を有する。無機薄膜層2は、シリコン及びアルミニウムの少なくとも一方を含む無機化合物を主要成分とする。無機薄膜層2は粘土薄膜層1に隣接して積層してもよいし、緩衝層3のような他層を介して積層してもよい。さらに、機械的強度を高める補強層4や表面の凸凹を平滑化する平滑化層5を積層してもよい。 (もっと読む)


【課題】酸素や水分などの不純物の侵入が防止されることによって、安定した性能を有する有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】正孔を供給する第1電極層と、電子を供給する第2電極層と、前記第1電極層と前記第2電極層との間に配置され、正孔と電子との再結合を通じて発光する有機薄膜層と、少なくとも前記第2電極層および前記有機薄膜層を外気から隔離させ、少なくともLaF(フッ化ランタン)層を備える密封保護層と、を含むことを特徴とする有機電界発光表示装置である。 (もっと読む)


201 - 220 / 250