【課題】トップエミッション型有機ＥＬ表示装置において有機ＥＬ層からの光の利用効率を向上させ、明るい画面の有機ＥＬ表示装置を実現する。
【解決手段】下部電極２１と上部電極２３の間に有機ＥＬ層２２が形成されている。上部電極２３の上には撥液層２４がＣＦｘあるいはシロキサン樹脂によって数ｎｍの厚さで形成されている。撥液層２４の上にはインクジェット法によってｙ方向に延在するシリンドリカルレンズ３０が形成されている。シリンドリカルレンズ３０はアクリル樹脂あるいはポリイミド樹脂によって形成される。シリンドリカルレンズ３０のｘ方向のピッチはｘ方向の画素ピッチと同様である。シリンドリカルレンズ３０によって有機ＥＬ層からの光を外部に効率よく取り出すことが出来、明るい画面の有機ＥＬ表示装置を実現することが出来る。 （もっと読む）

【課題】加圧エアーにより弁体を開閉するエアー駆動装置に加圧エアー及び電気を供給する小型化された連結部品を提供する。
【解決手段】エアー駆動装置３００に使用する連結部品６００は、内部で分岐することにより一の入口に対して複数の出口を持つ空間が形成された中間継手６０５と、中間継手６０５の入口ｉｎに取り付けられ、エアー駆動装置３００と連通する第１の継手６１０と、中間継手６０５の複数の出口ｏｕｔのうち、第１の出口ｏｕｔ１に取り付けられ、中間継手６０５及び第１の継手６１０を経由して加圧エアーをエアー駆動装置３００に供給するエアー供給経路Ｐａを形成する第２の継手６１５と、中間継手６０５の第２の出口ｏｕｔ２に取り付けられ、エアー供給経路Ｐａの少なくとも一部を利用して配線されたヒーター線Ｌをエアー供給経路Ｐａの気密を保ちながら貫通させる第３の継手６２０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過率が十分に低く、且つ、繰り返して屈曲してもバリア性能が低下しない有機無機積層型のガスバリアフィルムをおよびそれを用いたデバイス、特に、電子デバイス、さらには、有機ＥＬ素子（有機電界発光素子）を提供する。
【解決手段】有機層（ポリパラキシリレンを主成分とするものを除く）と、保護層と、無機層を該順に有し、前記保護層が、ポリパラキシリレンを主成分とすることにより、有機無機積層型の課題を満足するガスバリアフィルムが得られた。 （もっと読む）

【課題】高い白色発光効率を有し、輝度の低下が少ないエレクトロルミネッセンス材料、及び、簡便かつ局所的に非晶質薄膜を形成することができるエレクトロルミネッセンス材料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】所定の基板１１上又は該基板上に必要に応じて形成した中間層上に、非晶質のSiO_xC_y（ｘ≧0、ｙ≧0、ｘ＋ｙ＝2）薄膜１３を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】例えば銅などの高融点材料を含む原料粉体を加熱して得られる気体を用いてウェハにこの銅膜を成膜するにあたって、原料粉体中の化合物中に含まれる有機物などの不純物が銅膜に取り込まれることを抑えると共に、簡便に固体状の原料粉体から気体が得られるようにして原料粉体のコストを抑えること。
【解決手段】固体状の原料粉体を貯留する原料貯留部から粉体導入路を介してキャリアガスと共にこの原料粉体を処理容器へと供給し、この粉体導入路に介設された粉体気化部において原料粉体をプラズマ化して気体状の原料を得る。 （もっと読む）

【解決課題】 透明性が高いパッシベーション層を備え、短期だけでなく長期の寿命を保証する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 パッシベーション層を備える有機ＥＬ素子の製造方法であって、パッシベーション層をプラズマＣＶＤ法によって形成するに際し、２層以上のパッシベーション層を積層した構造からなり、各層の表面のうち少なくともひとつの層の表面をフッ素原子を含むガスで表面をフッ化処理を行う有機ＥＬ素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】水分を十分に除去した状態で成膜を行うことが可能な成膜装置を提供すること。
【解決手段】成膜装置１００は、クライオポンプ６３を含む第１排気手段６０と、ＭＢＰまたはＴＭＰを含む第２排気手段７０と、第１排気手段６０と第２排気手段７０とを切換えるバルブ切換部８２とを備えている。当該装置は、第１排気手段６０による水分除去が終わった後で、バルブ切換部８２によって第１排気手段６０から第２排気手段７０に切換えることにより、十分な水分除去と、成膜時におけるガスの排気とを両立させている。 （もっと読む）

【課題】より高いバリア性を有するガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有し、前記有機層は、環状炭素骨格を有する３官能以上の（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化させてなることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【目的】半導体デバイスに内蔵される水分ゲッター材であって、半導体デバイスの小型化が可能であり、且つこれの形成に専用の原料や専用の設備を必要としない水分ゲッター材を提供する。
【構成】テトラアルコキシシランを原料としてプラズマCVD法で生成される二酸化珪素薄膜であるが、緻密な薄膜を形成する条件に比べて原料ガスの流量を多くすることによってその膜質を多孔性とし、水分を吸収する性能を備えさせる。 （もっと読む）

【課題】電極に接触するように設けられた補助電極を備える、発光特性に優れた有機発光装置、およびかかる有機発光装置を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】表示装置１０は、ＴＦＴ回路基板２０と、陽極３と、陽極３上に設けられた有機半導体層７と、有機半導体層７を囲む隔壁部３５と、陽極３と対向配置された陰極８と、陰極８に接触して、陰極８全体の電気抵抗を低減する機能を有する補助電極４とを備え、補助電極４は、金属原子と、該金属原子に結合する酸素原子と、前記金属原子および前記酸素原子の少なくとも一方に結合する脱離基とを含み、補助電極４は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与したことにより、補助電極４の表面付近に存在する前記脱離基が前記金属原子および前記酸素原子の少なくとも一方から脱離して、補助電極４の表面の前記領域に接着性が発現し、この発現した接着性によって、陰極８と接合している。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程を減らすことによって、作製工程の煩雑さやコストが上昇することを抑制しつつ、電気特性を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板２０１と、ガラス基板２０１上に設けられたＴＦＴ回路２０３と、ＴＦＴ回路２０３の上を平坦化する平坦化膜２０６と、平坦化膜２０６の上に形成された第１電極２０８とを有する。平坦化膜２０６に設けられたコンタクトホール部２０７を介してＴＦＴ回路２０３のドレイン配線２０４と第１電極２０８とが接続されている。コンタクトホール部２０７において、複数の導電性の凸構造が平坦化膜２０６の中に設けられており、この凸構造によって、ＴＦＴ回路２０３のドレイン配線２０４と第１電極２０８とが接続されている。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能で、かつ、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置を提供する。
【解決手段】長尺の基板と、基板上に形成され、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極を有する積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するための有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。当該製造装置の有機発光層形成機構１５０ａは、有機発光層２６の幅に応じた幅を有する開口部１５２ａを有し、基板１０から開口部１５２ａまでの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、開口部１５２ａが第１真空チャンバ中に位置するように構成されており、開口部１５０ａは、開口部１５０ａの幅よりも狭い幅を有する流路補正部材１５５ａ，１５６ａによって２つの領域に分割されている。 （もっと読む）

【課題】 有機発光層を複数積層してなるマルチユニット型有機ＥＬ素子において、発光効率（光取り出し効率）を向上させること。
【解決手段】 透明基板上に透明電極が設けられ、該透明電極上に少なくとも１種類以上の発光層と導電性中間層が交互に複数層積層され、さらにその上に対向電極が設けられたマルチユニット型有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子において、導電性中間層として透明導電性カーボン層を含む１層以上の構成からなる中間層を用いることにより発光効率（光取り出し効率）の良好なマルチユニット型有機ＥＬ素子となる。 （もっと読む）

【課題】製造コスト及び製造効率が良好で、優れた発光効率を備えた有機ＥＬ表示装置３０及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１０は、絶縁性基板と、絶縁性基板上に形成された第１電極１１と、第１電極１１上に形成された正孔輸送部２０と、正孔輸送部２０上に形成された発光層１３と、発光層１３上に形成され、ルイス酸性金属化合物がドープされた有機層を備えた電子輸送部２１と、電子輸送部２１上に形成された第２電極１７と、を備える。 （もっと読む）

ＬＰＯＶＰＤによりＯＬＥＤを製造する方法が提供され、これには低い仕事関数の金属の有機複合体（例えばリチウムキノラートまたはリチウムシッフ塩基複合体）から電子注入層を形成するステップを含み、電子注入層は、不活性キャリアーガスの流れの下、ＯＬＥＤのその他の有機層、例えば正孔注入層、正孔輸送層、エレクトロルミネッセント層および電子輸送層と同一のリアクターにおいて堆積される。 （もっと読む）

【課題】発光デバイスにおいて、金属電極は発光層材料からの原子拡散や、金属電極から発光層への原子拡散によって発光特性が大きく低下することを防止する。
【解決手段】透明基板１上に透明電極２、無機化合物または／および有機化合物からなる発光層３、裏面電極６を積層した有機または無機発光デバイスデバイスにおいて、裏面電極６が銀からなり、裏面電極６と発光層３との間にカーボン薄膜４と酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物薄膜５が、発光層３側からカーボン薄膜４−透明導電酸化物薄膜５の構造で存在することを特徴とする発光デバイス用電極。また、裏面電極６と発光層３の間に発光デバイスの劣化を予防する樹脂が封止されており、且つ裏面電極６がリードフレームとして機能し、リードフレームと発光層３を金属により接続されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】低いターン‐オン電圧にて動作可能な発光素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光素子１００の製造方法では、ドープされた半導体または金属の底部電極１０２を供給し、高密度プラズマ化学気相成長法を用いて、シリコン絶縁膜が３０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の厚さにて、上記半導体または金属の底部電極１０２上に堆積される。また、上記シリコン絶縁膜はアニール処理され、その結果、シリコンナノ結晶が上記シリコン絶縁膜内に形成され、ナノ結晶性シリコン含有シリコン絶縁膜１０４が形成される。その後、透明な金属電極１０８がナノ結晶性シリコン含有シリコン絶縁膜１０４上に形成される。上記ナノ結晶性シリコン含有ＳｉＯ_Ｘ膜は、６０ｎｍ未満の厚さおよび１８％のシリコン体積充填率を有する膜に対して、０．０３Ｗ／ｍ^２を超える表面放射出力に関して規定された２０ボルト未満のターン‐オン電圧を有する。 （もっと読む）

【課題】低いターン‐オン電圧にて動作可能な発光素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る製造方法は、中間バンドギャップ遷移層を有するシリコンナノ結晶含有酸化シリコン膜を有する電界発光素子の製造方法であり、高密度にドープされたシリコン底部電極を供給する工程と、上記シリコン底部電極上に、中間バンドギャップ絶縁性誘電体膜を形成する工程と、上記中間バンドギャップ絶縁性誘電体膜上に、シリコンナノ結晶含有ＳｉＯ_Ｘ膜を形成する工程と、上記シリコンナノ結晶含有ＳｉＯ_Ｘ膜上に、透明上部電極を形成する工程を含み、中間バンドギャップ絶縁性誘電体膜のバンドギャップは、シリコンナノ結晶含有ＳｉＯ_Ｘ膜のバンドギャップの半分である。 （もっと読む）

【課題】シリコンナノ結晶を含むシリコン酸化物ＥＬ装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＥＬ装置の製造方法は、基板底部電極の形成、および、基板底部電極上へのシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層（ＳｉＯｘ膜層：ｘは０より大きく２未満）の多層形成を含む。各シリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層は、約５〜３０％のシリコン過剰濃度を有する。シリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層は、外側の層が内側の層を挟持しており、内側の層ほど、シリコンナノ結晶が低濃度である。また、外側の層は、外側の層によって挟持された内側の層よりも、導電率が高い。シリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜上には、透明上部電極を形成する。多層のシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層は、ＨＤＰＥＣＶＤプロセスにより堆積する。ＨＤＰＥＣＶＤプロセスは、シリコン酸化膜層の堆積後、アニール処理を行う。 （もっと読む）

【課題】半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜を有するＥＬ素子を製造する方法を、高品質かつ信頼性の高い提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜を有するＥＬ素子を製造する製造方法は、下部電極を準備し、準備した下部電極を被覆するように、ＮおよびＣからなる群より選択される元素を含む半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜を堆積する。次いでアニール処理することにより、半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜は、波長６３２ｎｍでの０．０１〜１．０の範囲の減衰係数（ｋ）、３ＭＶ／ｃｍより小さい電場としたときに１Ａ／ｃｍ^２よりも大きい電流密度を示す。他の態様では、半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜は、波長６３２ｎｍでの１．８〜３．０の範囲の屈折率（ｎ）、３ＭＶ／ｃｍより小さい電場としたときに１Ａ／ｃｍ^２よりも大きい電流密度を示す。 （もっと読む）