【課題】パネル毎に熱履歴の管理と、存在する異物とパッシベーション膜の被覆率を管理できる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも透光性基材、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層からなる有機ＥＬ素子において、前記透光性基材上に隔壁状インジケータを有し、前記隔壁状インジケータ上には前記パッシベーション層のみ積層されていることを特徴とする有機ＥＬ素子としたもの。 （もっと読む）

【課題】成膜開始時、成膜時、及び成膜停止時における配管系、原料容器、及び吹き出し容器の圧力を制御することにより、高品質で長寿命の膜、特に、有機ＥＬ膜を得ることである。
【解決手段】原料を気化させ、気化した原料をガスで輸送してガス放出部から基板に放出して膜を成膜する成膜装置として、気化手段と、該気化手段とガス放出部との間に輸送ガス及び原料の流通経路を設けると共に、輸送ガスと同種のガスを気化手段を介さずに流通経路を用いてガス放出部に供給するガス供給手段を設け、成膜前および成膜停止時に原料をガス放出部に流通させない制御とガス供給手段からのガスをガス放出部に供給する制御とを成膜状態との遷移時に行なうと共に、ガス放出部と気化手段の圧力が成膜時の圧力となるようにガスを供給する制御を行う一方、成膜時にガス供給手段からのガスが流通させない制御と気化手段からガスを供給する制御とを行い、成膜する。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を示す高密度の非晶質窒化珪素膜を簡便な方法で提供すること。
【解決手段】高周波放電を利用したプラズマＣＶＤ法において、シランガスと、水素ガスと、アンモニアガスまたは窒素ガスの少なくとも一方とを含む混合ガスを用いて、電極間距離を５０〜１００ｍｍとし、シランガスに対する水素ガスの流量比（Ｈ₂／ＳｉＨ₄）を０．５〜３．０として非晶質窒化珪素膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイスを作製する際、大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】真空槽２内に設けられたプラズマＣＶＤ装置３と蒸着重合装置４とを備える。プラズマＣＶＤ装置３のプラズマ放出器１０は、原料ガス供給源３Ｂから原料ガスがそれぞれ供給され互いの雰囲気が隔離されたガス分岐ユニット６１〜６４と、ガス分岐ユニット６１〜６４において拡散された原料ガスのプラズマを形成するプラズマ形成室５１とを有する。蒸着重合装置４の蒸気放出器１１０は、原料モノマー供給源４Ｂから原料モノマーの蒸気がそれぞれ供給され互いの雰囲気が隔離された複数の蒸気分岐ユニット１０１Ａ、１０１Ｂと、蒸気分岐ユニット１０１Ａ、１０１Ｂにおいて拡散された複数の原料モノマーの蒸気を混合する蒸気混合室１５１とを有する。 （もっと読む）

【課題】端部からの水分等の浸入を効果的に抑制し、かつより簡素な方法で形成可能な封止構造を提供する。
【解決手段】基板上に配置された電子デバイスを覆う封止構造１は、無機物を主成分とするバッファ層２と；無機物を主成分とし、バッファ層２の密度よりも高い密度を有すると共に、バッファ層２に重ねられたバリア層３と；を含む。封止構造１は、外縁１１を含む傾斜部分１２を備え、傾斜部分１２の厚みは、外縁１１に近づくほど小さくなる。封止構造１の最外面は、バリア層３で覆われている。 （もっと読む）

【課題】演色性の良好な白色発光素子を、従来のように青色発光素子を用いることなく単一素子により作製することが出来、青色発光素子と黄色蛍光体からなる白色ＬＥＤに生じる構造の複雑化、高価化を回避する。
【解決手段】基板にはＳｉもしくはＧａＡｓ（１００）面を用い，その上に２層の水素化アモルファス窒化炭素を成長させる。まず，基板上に緑，赤色発光の水素化アモルファス窒化炭素を成長させる。その上に青色発光のアモルファス窒化炭素を成長させる。この２層成長後、熱処理をほどこして、赤色から青色の発光領域にわたりほぼ均一の強度で発光するようにさせて演色性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性（例えば、水蒸気バリア性）を有する電子デバイス用積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明樹脂で構成された基材フィルム２５の一方の面に、ビニル系モノマー及び／又はプレポリマーを含む重合性組成物の硬化物で構成されたアンカー層２４、金属又は金属化合物を含むバリア層２３、酸又はアルカリに対して耐性を有するエッチング保護層２２、無機化合物で構成された透明導電層２１をこの順序で順次形成する。前記ビニル系モノマー及び／又はプレポリマーは、少なくともシリコーン（メタ）アクリレートモノマー及び／又はプレポリマーを含む。この積層フィルム２０は、前記基材フィルムの他方の面に防眩層２６が形成されていてもよい。この積層フィルム２０は、電子ペーパーのインク層に対して表示面側に配置される。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板、基板上に形成された第１電極、基板上に形成され、Ａｇを含む第２電極、第１電極と第２電極との間に形成された発光層、発光層と第２電極との間に形成され、アルカリ金属含有化合物と第１金属との混合物を含む電子注入層、及び第２電極上に形成されたキャッピング層を備える有機発光素子である。 （もっと読む）

【課題】透明性を向上させたＳｉＮxＯyＣz膜、および成膜速度を向上させた薄膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】被成膜基材２にＲＦバイアスを印加し、１ターンのコイル６にＩＣＰ出力を印加して誘導結合プラズマを発生させ、誘導結合プラズマによって有機金属を含む原料ガスを分解するＣＶＤ法を用いることによりＳｉＮxＯyＣz膜を形成する。ＳｉＮxＯyＣz膜は、x、y及びzそれぞれが下記式（１）〜（３）の範囲である。０．２＜x＜１．５・・・（１）、０．３＜y＜０．８・・・（２）、０．０３＜z＜０．４・・・（３） （もっと読む）

【課題】樹脂部材がＰＥＣＶＤによってダメージを受けないよう、耐プラズマ性を向上させた部材を提供し、またそれを用いたガスバリア部材等を提供する。
【解決手段】一般式（１）の環状シロキサン化合物
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、炭素数１〜２０の炭化水素基等、ｍは１〜３の整数、ｎは０〜２の整数、ｍ＋ｎは３以下の整数。ｘは１以上の整数、ｙ及びｚは０以上の整数、ｘ＋ｙ＋ｚは３以上の整数。）を重縮合または重付加してポリ環状シロキサンを製造し、それを封止材としたり、また樹脂部材に塗布して耐プラズマ性を付与し、ＰＥＣＶＤによりガスバリア層を成膜したガスバリア性樹脂部材とする。 （もっと読む）

【課題】ロール状に巻き取ってもガスバリア層の損傷や劣化を抑制できる防眩性ガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】透明樹脂で構成された基材フィルムの一方の面に、１又は複数のポリマーと、１又は複数の硬化した硬化性樹脂前駆体とを含み、かつ表面に凹凸形状を有する相分離構造で構成された防眩層を形成し、かつ他方の面にバリア層が形成し、防眩性ガスバリアフィルムを製造する。前記防眩層は、液相からのスピノーダル分解により相分離可能な複数のポリマーを含み、複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基を有し、かつ硬化性樹脂前駆体が、複数のポリマーのうち、少なくとも一種のポリマーと相溶性を有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】正孔注入層の形成と隔壁上における撥液性の付与とを同時に行うことができ、高いパターニング精度で有機ＥＬ素子を形成することができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上における、隔壁１２により区画された画素領域２０ａに形成され、一対の電極層２１、２４間に正孔注入層２２と発光層２３とが積層された積層構造を有する有機ＥＬ素子を備えた、有機ＥＬディスプレイの製造方法において、画素領域２０ａに形成された一の電極層２１の上面をフルオロカーボンガスのプラズマにより処理することによって、一の電極層２１上に正孔注入層２２を形成する正孔注入層形成工程と、形成された正孔注入層２２上に、発光層２３の材料を含む液体２３ａを塗布することによって、発光層２３を形成する発光層形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】低いプロセス温度で形成でき、高い水蒸気バリア性と高い光透過性とを備え、かつ、プラスチック基板等のフレキシブルな有機材料からなる基板の封止に使用できる、ＳｉＮｘ膜のバリア膜を提供する。
【解決手段】
表面波プラズマＣＶＤ装置を用いて、窒素Ｎと珪素Ｓｉの原子比率を表す比率Ｎ／（Ｓｉ＋Ｎ）が０．６０から０．６５の間である窒化珪素（ＳｉＮ_ｘ）からなるバリヤ膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】大型基板であっても、基板とマスクとを精度良くアライメントを行うことができる技術を提供する。
【解決手段】プラズマCVD装置1は、真空処理槽2内に反応ガスを導入し、サセプタ4上に配置された基板10上にマスク7を介してCVD法で成膜するもので、マスク支持機構58と、駆動部53と、CCDカメラ51と、アライメント制御部6とを備える。真空処理槽2の本体部22には、マスク支持機構58の作動部材55を真空処理槽2の外部から内部へ貫通し且つアライメントの際マスク支持機構58の作動部材55が三次元的に移動可能な形状に形成された動作用孔部23を有する。マスク7を基板10から離間させた状態で、基板10とマスク7との重なり部分の像をCCDカメラ51で取り込み、アライメント制御部6にて得られた結果に基づき駆動部53を動作させ、マスク7のアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】エレクトロルミネッセンスを用いた発光装置を作製するにおいて、その寿命はいまだ数千時間から数万時間程度の寿命に止まっており、更なる長寿命化が望まれている。寿命を短くする要因として、水分や酸素への露呈および自身の発熱による劣化などが大きい。
【解決手段】基板上に第１の電極を形成し、第１の電極上に有機ＥＬ層を形成し、有機ＥＬ層上に第２の電極を形成する発光装置の作製方法において、基板と蓋体とを接着させることにより、基板と蓋体の間に閉空間を形成し、閉空間には不活性気体を満たし、蓋体の閉空間と接する面には不活性元素を添加する。閉空間には乾燥剤や酸素吸蔵物質を配置可能であるため水分や酸素の除去も効果的に行える。これにより不活性気体が微量に流出しても添加された不活性元素が補填されるため、長期にわたり特性の落ちない発光装置を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】第一保護層が防湿性を有すると共に、有機材料からなる第二保護層の形成時における濡れ性、密着性を高め、かつ硬化収縮を起こさず、有機発光素子への水分や酸素の浸入を防止できる有機発光装置を提供する。
【解決手段】有機発光素子が複数配列された画素エリア１９を覆う保護積層体を備える有機発光装置２０であって、保護積層体は、少なくとも、無機材料からなる第一保護層１２と、有機材料からなる第二保護層１３と、無機材料からなる第三保護層１４と、からなる積層薄膜であり、第一保護層１２は、水酸基を含まない無機膜１２１と、水酸基を含まない無機膜１２１表面に形成された、水酸基を含む無機膜１２２と、を有し、第二保護層１３は、シランカップリング剤を含む有機材料で形成されている。 （もっと読む）

【課題】接着不良による剥離または水分拡散による劣化を抑えることが可能な光学機能膜およびその製造方法、並びに視野角による輝度低下、色変化を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示パネル１０の有機発光素子の表面に、プラズマＣＶＤ法により、高密度の窒化シリコンよりなる下部層２２と、低密度の窒化シリコンよりなる中間層２３と、高密度の窒化シリコンよりなる表面層２４とを順に積層して光学機能膜２０を形成する。中間層２３の形成中または形成後にプラズマを停止したのち再開することにより、中間層２３の内部または上面にシリコン含有粒子２５を形成し、このシリコン含有粒子２５を核として表面層２４を形成することにより、表面層２４の上面に凹凸２１を形成する。 （もっと読む）

【課題】無機層の間に有機層が形成されているバリア性積層体であって、有機層と上下の無機層との密着性が良好であり、且つ曲げ耐性も良好で水蒸気透過率も低いバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）シランカップリング剤を含む第１の有機層用組成物を第１の無機層の上に適用し、硬化させる第１の有機層形成工程と、前記第１の有機層の上、または前記第１の有機層の上に設けた１層もしくは２層以上の有機層の上に、（Ｄ）重合性化合物および（Ｅ）シランカップリング剤を含む第２の有機層用組成物を適用し、硬化させる第２の有機層形成工程と、前記第２の有機層の上にプラズマ製膜法によって第２の無機層を形成する工程とを含むことを特徴とするバリア性積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造工程で混入した異物を除去し、異物除去部のダークスポットの拡大の抑制と非発光画素を低減させ、信頼性の高い有機ＥＬパネルの製造方法とそれを用いた有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも、基板と、前記基板上に第一電極層と、前記第一電極層上に有機発光層を含む有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層を挟んで第一電極層と対向するように第二電極層と、前記第二電極層上にパッシベーション層とを、この順に積層する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第二電極層の成層後に、前記第二電極層のドライエッチング工程と、前記ドライエッチング工程の後に前記第二電極層の表面に不活性ガスを吹き付ける工程とを有し、更に、前記パッシベーション層を前記第二電極層上に積層する工程とを有する。 （もっと読む）