反応性表面領域（ＲＳＡ）材料を電子デバイスの基体上に気相堆積するための装置および方法。本発明の気相堆積は、周囲圧力において空気中で行われ、ＲＳＡおよびプロセス中に使用される他の成分の環境への放出を最小限にするために残留蒸気が捕捉される。
（もっと読む）

【課題】インラインによる連続搬送成膜にて保護層を作製する際に、光学的性能の優れた保護層を効率良く作製する方法を提供する。
【解決手段】シャワーカソード表面から原料ガスを放出する工程と、該シャワーカソード上にプラズマ放電を発生させる工程と、該シャワーカソードの基板搬入側縁部上方から、該シャワーカソードの中央部上方を経由して、該シャワーカソードの基板搬入側縁部上方へ有機ＥＬ素子用基板を移動させる工程と、を含み、連続搬送プラズマＣＶＤ法を利用して保護層を形成する保護層の形成方法において、該シャワーカソードの基板搬入側縁部にはシリコン原子を含まないガスのみが放出され、該シャワーカソードの中央部にはシリコン原子を含むガスと、シリコン原子を含まないガスとが放出され、該シャワーカソードの基板搬出側縁部にはシリコン原子を含まないガスのみが放出されることを特徴とする、保護層の形成方法。 （もっと読む）

【課題】安価でかつ新たな技術課題を伴わない平易な構成により、信頼性の高い有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】マトリクスアレイ基板上に形成された有機平坦化層４上にアノード電極５を形成する工程と、隣り合うアノード電極５の間に真空紫外光化学気相成長法を用いてＳｉＯアノード平坦化層１１を形成する工程と、を含んで有機ＥＬ素子を形成する。ＳｉＯアノード平坦化層１１を形成する酸化ケイ素膜は、高い平坦化性を有しているため、フォトリソ工程を必要としないローコストなプロセスを実現できる。 （もっと読む）

【課題】陰極配線抵抗を低減せしめた有機ＥＬディスプレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板２上に、ストライプ状に形成された第一電極６と、有機ＥＬ層１０と、有機ＥＬ層１０上に第一電極６と交叉するようにストライプ状に配置された第二電極１２と、第一電極６および有機ＥＬ層１０上の面のうち、第一電極６と第二電極１２とが交叉する部分以外を被覆した画素分離膜８と、第二電極間を分離するために画素分離膜８上に第二電極１２と平行に配設され、該第二電極１２の長手方向に対して垂直な断面が逆テーパーとなっている、少なくとも構造の一部が導電性の第二電極分離隔壁２２とを備えた有機ＥＬディスプレイであって、各第二電極１２と各第二電極を両側から挟む第二電極分離隔壁２２との間に形成された２つの間隙の一方少なくとも２箇所以上に金属２６が堆積され、第二電極と第二電極分離隔壁とが点接触されている有機ＥＬディスプレイ。 （もっと読む）

光透過性デバイス用導電性構造、および光透過性デバイス用導電性構造を形成する方法が提供される。この構造は、第１のプロセス条件を用いて形成される第１の透明導電性材料層と、直接第１の層上に形成される少なくとも１つの他の透明導電性材料層であって、第１のプロセス条件とは異なる第２のプロセス条件を用いて形成される少なくとも１つの他の透明導電性材料層とを備え、前記少なくとも１つの他の透明導電性材料層の形成中に、第１の層が、光透過性デバイスに対する悪影響を低減させるためのバッファ層として機能する。 （もっと読む）

【課題】結晶構造を含み、かつ平坦な酸化モリブデン層を具備することによって、抵抗率やイオン化ポテンシャルを最適化し、キャリア注入性や輸送性を向上させ、高発光効率、高発光輝度、長寿命、かつ欠陥が無い有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供すること。
【解決手段】正孔注入電極である陽極と、陽極に対向するように設けられた電子注入電極である陰極と、陽極と陰極との間に設けられた有機発光層と、を備え、陽極と有機発光層との間に設けられ、結晶とアモルファスとが混合または積層した酸化モリブデン層とを備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

【課題】高い封止性を有し、且つ、割れにくい封止膜を設けることで厚さを薄くしたＥＬ装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子２は、ガラス基板１の表面上に形成された陽極３と、陽極３の上に形成された有機発光層４と、有機発光層４の上に形成された陰極５とを有している。そして、有機ＥＬ素子２を覆うように有機ＥＬ素子２の表面上に第１の封止膜６が形成され、さらに第１の封止膜６を覆うように第１の封止膜６の表面上に第２の封止膜７が形成されている。第１の封止膜６は、乾式法により形成される無機材料膜が用いられる。第２の封止膜７は、塗料組成物を用いた湿式法により形成される。塗料組成物は、水酸基またはシリル基を有する高分子及びポリシラザンを含む原料高分子と、原料高分子を溶解する乾燥溶媒との混合物からなり、第２の封止膜は、高分子からなる有機部と、シリカからなる無機部とをもつ有機−無機ナノコンポジット膜として構成される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の層形成において、先に形成された層に対しダメージを与えにくい、有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを課題とするものである。また、層形成過程においてダメージを受けにくい構造を備える有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。
【解決手段】支持基板上に第一電極層を形成する工程と、前記第一電極層より上層に発光層を形成する工程と、前記発光層より上層に電荷注入層を形成する工程と、前記電荷注入層より上層に、アルミニウム、銀、錫、銅およびこれらの２種以上を含む複合金属材料からなる群より選ばれる材料を含有する金属層を形成する工程と、前記金属層より上層に、透明導電性酸化物、透明導電性窒化物及びこれらの複合材料から選ばれる電極材料を、低ダメージスパッタリング法、イオンプレーティング法、またはＣＶＤ法により積層させて前記第二電極層を形成する工程とを経て、有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】光学的品質の薄膜を製造することに関し、特に非線形光学デバイス及び有機発光デバイスで利用されるそのような薄膜の低圧製造を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を減圧下で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】大面積化が可能で、放熱性、絶縁性に優れるフラットパネルディスプレイ用の紫外ＥＬ発光素子に使用される基板を提供する。
【解決手段】単結晶状のＡｌ板の表面に、厚さ５〜８０nmの配向性に優れた結晶質のＡｌＮ層を設ける。
このＡｌＮ層としては、酸化物層を介することなくＡｌ板上に直接形成されていることが、さらには、Ａｌ板表面の酸化物除去後に、気相法で形成されたものが好ましい。
導電性を有する単結晶状Ａｌ板を基材としているため透明導電膜を形成する必要はなく、また、Ａｌ板の表面に形成したＡｌＮ層は絶縁耐圧性に優れるばかりでなく、放熱性にも優れる。
したがって、性能に優れたＥＬ発光素子用基板が安価に提供できる。 （もっと読む）

【課題】簡便な製法により従来よりもバリア性が高い有機無機積層型のバリア性積層体を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とを有するバリア性積層体を製造する方法において、支持体にバイアスを印加しながら前記有機層をスパッタリング法によって成膜する。 （もっと読む）

【課題】 酸化珪素膜をバリア層に用い、透明性、バリア性に優れた透明バリアフィルム、およびこの透明バリアフィルムを効率的に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の透明バリアフィルムは、プラスチック基材の片面または両面に、少なくとも２層以上の酸化珪素膜を第１層から第ｎ層まで順次積層してなるバリア層を有する透明バリアフィルムであって、前記第１層目の酸化珪素膜の膜密度が、第１層目以外の酸化珪素膜の膜密度に比べて高密度であることを特徴とする。（ここで、ｎは２以上の整数を表す） （もっと読む）

【課題】簡便な方法により従来よりもバリア性が高い無機層を成膜すること。
【解決手段】無機層を成膜する面の面積がａ（単位：ｃｍ²）である支持体を、容積が１００ａ（単位：ｃｍ³）以下である第１真空槽へ搬入して真空状態とし、真空状態を維持したまま支持体を第２真空槽へ搬送して、第２真空槽内にて支持体上に無機層を真空成膜する。 （もっと読む）

本発明は一般に、基板が処理チャンバを通って移動するときに基板上に層を堆積させる方法および装置に関する。基板は、ロールツーロールシステムに沿って移動することができる。ロールツーロールシステムは、基板を第１のロールから繰り出すことができ、したがって基板を処理にかけ、次いで処理後に第２のロール上に巻き直すことができるシステムである。基板が処理チャンバを通って移動するとき、プラズマ源はプラズマを発生させることができる。基板に電気的バイアスを印加すると、プラズマを基板へ引き寄せることができ、したがって、基板がチャンバを通って移動するときに基板上に材料を堆積させることができる。
（もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタの光リーク電流の発生が起こりにくい有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ表示装置８００は、有機エレクトロルミネセンス発光層１４０を一対の電極で挟んで形成されている有機エレクトロルミネセンス素子と、半導体層２６０とゲート電極２１０とがゲート絶縁膜２２０を介して対向配置された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上に形成されたオーバーコート膜１５０と、前記オーバーコート膜１５０の上に形成された、前記有機エレクトロルミネセンス発光層１４０からの発光が前記薄膜トランジスタの半導体層２６０に到達することを防止する遮光膜３１０と、を有する。遮光膜３１０はアモルファスシリコンで形成されている。遮光膜３１０は、前記薄膜トランジスタＴｒの半導体層２６０の上部に位置するようにパターニングされている。 （もっと読む）

【課題】 有機発光装置が備える有機発光素子の特性の経時的な劣化を抑制または防止することができる有機発光装置、および、かかる有機発光装置を備える電子機器を提供することにある。
【解決手段】有機ＥＬ装置１は、基板２と、基板２上に設けられた有機ＥＬ素子５と、有機ＥＬ素子５を封止する封止部材４と、基板２と封止部材４とを接合する接合膜３とを有し、接合膜３は、金属原子と、該金属原子と結合する酸素原子と、前記金属原子および前記酸素原子の少なくとも一方に結合する脱離基とを含み、この接合膜３は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、接合膜の表面付近に存在する前記脱離基が、前記金属原子および前記酸素原子の少なくとも一方から脱離し、前記接合膜の表面の前記領域に発現する接着性によって、封止部材４と基板２とを接合している。 （もっと読む）

【課題】有機層と無機層の密着性が十分に高くて、バリア性に優れている有機無機積層型の積層体を簡便な方法で提供する。
【解決手段】少なくとも１層の無機層と少なくとも１層の有機層を含む積層体の製造法であって、無機層の表面に、珪素原子またはチタン原子を含む有機カップリング剤を気相分子堆積法によって吸着させる工程と、珪素原子またはチタン原子を含む有機カップリング剤を吸着させた無機層上に有機層を設置する工程を含む積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】無色透明で、かつ酸素、水蒸気などに対してバリア性が高い窒化シリコン膜を高い成膜レートで形成することができるガスバリア膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明のガスバリア膜の成膜方法は、容量結合型ＣＶＤ法を用いて窒化シリコン膜を基板にガスバリア膜として成膜するに際し、原料ガスとして、シランガスおよびアンモニアガスを用い、放電ガスとして、窒素ガスを用いる。窒化シリコン膜の成膜に要する高周波電力をＰ（Ｗ）とし、シランガス、アンモニアガスおよび窒素ガスの総流量をＱ（ｓｃｃｍ）とするとき、高周波電力とガスの総流量との比Ｐ／Ｑが０．４〜４０である。 （もっと読む）

構成素子をカプセリングするバリア層を有する電子構成素子を作製する本発明の方法には殊に以下のステップが含まれる。すなわち、− 少なくとも１つの機能層（２２）を有する基板（１）を準備するステップと、− プラズマ支援原子堆積法（ＰＥＡＬＤ）を用いて上記の機能層（２２）に少なくとも１つの第１バリア層（３）を被着するステップと、− プラズマ支援化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）を用いて前記の機能層（２２）に少なくとも１つの第２バリア層（４）を被着するステップとを有する。
（もっと読む）

構成素子をカプセリングするバリア層を有する電子構成素子を作製する本発明の方法には殊に以下のステップが含まれる。すなわち、− 少なくとも１つの機能層（２２）を有する基板（１）を準備するステップと、− プラズマレス原子堆積法（ＰＬＡＬＤ）を用いて上記の機能層（２２）に少なくとも１つの第１バリア層（３）を被着するステップと、− プラズマ支援化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）を用いて前記の機能層（２２）に少なくとも１つの第２バリア層（４）を被着するステップとを有する。
（もっと読む）