【課題】原子層堆積方法および原子層堆積装置は、従来のような防湿性を維持しつつ、内部応力の小さな薄膜を形成する。
【解決手段】基板に薄膜を形成するとき、基板が配置された、減圧した成膜空間内に、原料ガスを一定期間供給する。この後、原料ガスの前記成膜空間への供給後、原料ガスの成分を吸着した基板に向けて、前記成膜空間内に反応ガスを供給し、プラズマ生成素子を用いて反応ガスを活性化させることにより、基板に吸着された原料ガスの成分と反応ガスの成分を反応させて、基板に所定の薄膜を形成させる。上記原料ガスの供給と反応ガスの供給を繰り返し行うことにより、所定の厚さの薄膜を基板に形成する。このとき、上記原料ガスの供給と反応ガスの供給の繰り返し回数が増えるに従って、段階的にあるいは連続的にプラズマ生成素子への供給電力を増加させる。 （もっと読む）

【課題】水分による劣化を抑制することが可能とする。
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置された有機半導体素子と、前記有機半導体素子を被覆するとともにシリコン（Ｓｉ）及び窒素（Ｎ）を主成分とする材料によって形成された第１保護層と、前記第１保護層の上方に配置されるとともに前記第１保護層よりも透湿度が高い材料によって形成された第２保護層と、前記第２保護層の上に積層されるとともにシリコン（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）、及び、窒素（Ｎ）を主成分とする材料によって形成された第３保護層と、前記第３保護層の上に積層されるとともに前記第３保護層よりも透湿度が高い材料によって形成された第４保護層と、前記第４保護層よりも上方であって且つ最外層をなしシリコン（Ｓｉ）及び窒素（Ｎ）を主成分とする材料によって形成された第５保護層と、を有する保護膜と、を備えたことを特徴とする有機半導体装置。 （もっと読む）

【課題】パネルの表面温度が低く、長寿命で信頼性の高いフレキシブル発光装置を提供することを目的の一とする。また、当該フレキシブル発光装置の簡便な作製方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】可撓性及び可視光に対する透光性を有する基板と、基板上に設けられた第１の接着剤層と、第１の接着剤層上に位置する絶縁層と、絶縁層上に形成された第１の電極、第１の電極と対向する第２の電極、及び第１の電極と第２の電極との間に設けられた発光性の有機化合物を含む層とを備える発光素子と、第２の電極上に形成された第２の接着剤層と、第２の接着剤層上に設けられた金属基板と、金属基板上に形成された放熱材料層とを有するフレキシブル発光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタのオン電流の安定を図る。
【解決手段】ＥＬパネル１において、駆動素子として用いるスイッチトランジスタ５、駆動トランジスタ６などの薄膜トランジスタにおけるソース電極６ｉ（５ｉ）と不純物半導体膜６ｇ（５ｇ）の積層体と、ドレイン電極６ｈ（５ｈ）と不純物半導体膜６ｆ（５ｆ）の積層体が、チャネル保護膜６ｄ（５ｄ）に重ならない構造にすることで、チャネルとなる領域を覆うチャネル保護膜６ｄ（５ｄ）に作用するバックゲート効果を抑制するとともに、薄膜トランジスタ６（５）のチャネル長を短くすることができるので、薄膜トランジスタ６（５）のオン電流（Ｉｄ）を従来のものより増加させ、好適な値に安定させることを可能にした。 （もっと読む）

【課題】長寿命のフレキシブル発光装置を簡便に提供することを目的の一とする。また、表示ムラが生じず、良好な表示特性を有し、歩留まりが高く、信頼性の高いフレキシブル発光装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】可撓性及び可視光に対する透光性を有する基板と、基板上に設けられた接着剤層と、接着剤層上に形成された可視光に対する透光性を有する導電層と、導電層上に位置する絶縁層と、絶縁層上に設けられたトランジスタと、トランジスタを覆う層間絶縁層と、層間絶縁層上に形成され、トランジスタのソース電極又はドレイン電極と電気的に接続する第１の電極、第１の電極と対向する第２の電極、及び第１の電極と第２の電極との間に設けられた発光性の有機化合物を含む層とを備える発光素子と、発光素子を覆う封止層と、を有するフレキシブル発光装置を提供する。 （もっと読む）

本発明は、２つの区画を備えた容器を有する気相蒸着供給源について記載する。第１の区画は、蒸気を生成するためのものである。この区画は、材料のための入れ物およびその入れ物の中に置かれる材料を加熱するための手段を備えている。第２は、生成区画と連通している拡散区画である。この拡散区画は、少なくとも１つのオリフィスを備え、その結果、気相状態の材料がこのオリフィスを通って容器の外側に向かって送られる。この供給源の特徴は、オリフィスを閉じるための手段、およびその閉じるための手段を、有効閉位置とオリフィス開位置との間で動かす手段を含んでいることである。
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基板を取り扱う特にコーティングする装置において、プロセスチャンバ1と、その中で処理される基板12を格納するべく搭載開口6,7を介してプロセスチャンバ1に接続された、又は、処理プロセスで用いるマスク10,10'、10"、10'"を格納する少なくとも１つの格納チャンバ2,3と、搭載開口6,7を通して基板又はマスクをプロセスチャンバ1に搭載し又は取り出す搬送装置13と、開始物質をキャリアガスとともにプロセスチャンバ1に導入するべく温度制御可能なガス入口要素4と、処理される基板12を受容するべくガス入口要素4に対向して位置するサセプタ5と、遮蔽位置にあるときガス入口要素4とサセプタ5又はマスク10の間に位置して基板12又はマスク10をガス入口要素4からの熱の影響から遮蔽する遮蔽プレート11と、遮蔽プレート11を基板12の処理前にガス入口要素4に相対する遮蔽位置から格納位置へ移動させ基板12の処理後に格納位置から遮蔽位置に戻す遮蔽プレート移動装置15,16と、を有する。格納位置では遮蔽プレート11が格納チャンバの内部にある。
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【課題】異物やＴＦＴ基板のバンクなどの段差があっても、第二電極層に欠陥が生じることがなく、ダークスポットが発生・拡大することがなく、長期にわたり良好な発光表示特性を維持できる有機ＥＬ素子および製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、基材上に、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層がこの順に積層されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記第二電極層は、少なくともアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む第一金属層と、前記第一金属層上に積層される無機化合物層と、前記無機化合物層上に積層される第二金属層と、から成ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子としたもの。 （もっと読む）

【課題】 活性有機層と、電子デバイスの構成により生じる欠陥の悪影響を軽減する構造を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 有機電子デバイス（１０）のための複合電極（４０）は、第１導電性材料の薄い第１層（４２）と、該第１層上に配設された第２導電性材料からなる。一実施形態において、第２導電性材料は、複数の細長い部材（４４）に形成される。別の実施形態においては、第２材料は、第２層（４６）に形成される。細長い部材又は第２層は、第１層の厚さよりも大きい厚さを有する。第２層は、少なくとも第１層の材料よりも小さい導電率を有する導電性材料によって、第１層から分離される。複合電極は、有機電子デバイスの構造における短絡のような欠陥の悪影響を軽減することができ、発光デバイス又は光起電デバイス中に含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ工程時に高温でもバリア層の特性に変化がなく、基板のストレスを軽減させて工程安定性を高めることができるだけでなく、基板の量産が可能な、新規かつ改良された有機発光装置の製造方法及び有機発光装置を提供する。
【解決手段】有機発光装置の製造方法は、基板１０を用意する工程と、基板１０上にバリア層２０を形成する工程とを含み、バリア層２０を形成する工程は、基板１０上にバリア層側第１無機膜２１を形成する工程と、バリア層側第１無機膜２１上にポリイミド形成用モノマーを、熱蒸着法、プラズマ化学気相蒸着または原子層蒸着法を利用して蒸着させた後、熱処理することでポリイミドからなるバリア層側第１有機膜２２を形成する工程と、バリア層側第１有機膜２２上にバリア層側第２無機膜２３を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成されたディスプレイ部と、ディスプレイ部と前記ディスプレイ部周辺の非発光領域とを覆い、中央部からエッジ部に行くほど密度及び厚さが増大する封止膜と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。これにより、側面方向の水分や酸素の浸透を防止して有機発光ディスプレイ装置の寿命を延長させうる。 （もっと読む）

【課題】 保護層形成時の高エネルギーによるダメージが低減された、寿命特性がよい有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 第１の電極２と、発光層４を有する複数の層からなる有機化合物層と、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の金属薄膜からなる第２の電極７と、スパッタリング法あるいはプラズマＣＶＤ法で形成される保護層９を順に有し、発光層４の第１の電極７側の界面と第２の電極７の発光層４側の界面との距離が５５ｎｍ以上９０ｎｍ以下であって、第２の電極７と保護層９との間には、蒸着法で形成されるバッファ層８がある。 （もっと読む）

【課題】陰極に接して陰極を挟む、電子注入効率の高い電子注入層と有機キャップ層を備える有機ＥＬ素子において、電子注入性の低下による高電圧化や駆動特性の劣化を抑制することにある。
【解決手段】陰極５に接して、陰極５を挟む、アルカリ金属またはアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属またはアルカリ土類金属化合物を含有する電子注入層４と有機キャップ層６を備える有機ＥＬ素子において、有機キャップ層６が電子注入層４と同じ組成を有している。 （もっと読む）

【課題】封止部材を固着する密着タイプの封止方法を用いた有機ＥＬパネルを、屈曲させた状態で、高湿環境下に保存しても有機ＥＬ素子の性能劣化を生じず、安定した寿命を保つ有機ＥＬパネルを提供することにある。
【解決手段】基板上に一対の電極と、その間に発光層を含む少なくとも１層の有機化合物層を有する有機ＥＬ素子を、封止部材により覆ってなる有機ＥＬパネルにおいて、該有機ＥＬ素子と該封止部材の間に、該有機ＥＬ素子の面方向に組成の異なる２種以上の構成物を配置した層を有することを特徴とする有機ＥＬパネル。 （もっと読む）

【課題】陰極に接して陰極を挟む、電子注入効率の高い電子注入層と有機キャップ層を備える有機ＥＬ素子において、電子注入性の低下による高電圧化や駆動特性の劣化を抑制することにある。
【解決手段】陰極５に接して、陰極５を挟む、アルカリ金属またはアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属またはアルカリ土類金属化合物を含有する電子注入層４と有機キャップ層６を備える有機ＥＬ素子において、有機キャップ層６が非へテロ炭素環化合物からなる有機化合物で構成されている。 （もっと読む）

有機発光デバイスは、カソードおよびデバイスの外部にあるオプションの基板を含む。デバイスはさらに、カソードまたは基板の少なくとも１つの上に配置される少なくとも１つの膜層を含む。少なくとも１つの膜層は、磁性材料、混合磁性材料、およびそれらの組合せの少なくとも１つを含む。デバイスはさらに、アノードおよびカソードとアノードとの中間にある少なくとも１つの有機層を含む。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）

【課題】水分による劣化を抑制することが可能な有機ＥＬ装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、前記画素電極の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、前記画素電極の上において前記有機層及び前記対向電極が欠落した第１凹部、及び、前記有機層の上において前記対向電極が欠落した第２凹部の少なくとも一方と、前記対向電極と、前記第１凹部及び前記第２凹部の少なくとも一方とを覆う保護膜と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】簡素な工程で、異物等に起因した短絡を低減することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子および表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１に、第１電極１４、発光層を含む有機層１６、第２電極１７および抵抗層１８を順に形成する。抵抗層１８，第２電極１７および有機層１６には、異物等５３の逆テーパ状側面５３Ａの下に、途切れ部分５１が生じている。抵抗層１８の上に、窒化ケイ素などの絶縁材料よりなる埋込み層を形成し、途切れ部分５１以外の埋込み層を異方性エッチングにより除去して、途切れ部分５１に絶縁材料よりなる埋込み部５２を設ける。抵抗層１８および埋込み部５２の上に第３電極１９を設ける。途切れ部分５１で第１電極１４と第３電極１９とが接触して短絡を生じることが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】ガラスに替わる電極フィルムとしての、耐熱性、透明性、カール、寸法変化、耐久性をすべて兼ね備えたガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】環状オレフィンとエチレンとの共重合比率が、８０：２０〜９０：１０であり、ガラス転移温度が１７０℃以上の環状オレフィンの付加（共）重合体よりなるフィルムシート１０の少なくとも片面に、プラズマ化学気相成長法によって厚み３０〜３００ｎｍの酸化珪素膜１２を形成することによって、水蒸気透過度が０．３ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下にされたガスバリアフィルム。 （もっと読む）