【課題】高い解像度を有し、かつ生産性が高い有機ＥＬ発光装置等の装置を製造するための成膜装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１１と、マスク部材１１を固定するフレーム１２と、からなるマスクユニット１０と、マスクユニット（１０）１基に対して１組設けられるアライメント機構と、を備え、マスク部材１１が、複数組の開孔パターン１３ａが並列して設けられてなる開孔部１３を有し、前記アライメント機構により、複数の成膜領域がマトリクス状に設けられている一枚の基板１に対して複数のマスクユニットが互いに干渉されることなく配置され、成膜時においてマスクユニット１０を交換し又は移動することなく、一括して薄膜を成膜することを特徴とする、成膜装置。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を有する有機ＥＬ発光装置が得られ、かつ生産性が高い有機ＥＬ発光装置の製造装置を提供する。
【解決手段】複数のマスク部材１０と、複数のマスク部材１０を固定するフレーム２０と、からなるマスクユニット２と、マスク部材１０と基板４０との相対位置を決めるアライメント機構と、蒸着源３０と、を備え、マスク部材１０が、複数組の開孔パターン１２が並列して設けられてなる開孔部１１と、マスク部材１０上であってマスク部材１０とフレーム２０とが接合している領域に設けられるアライメントマーク１４，１５と、を有し、マスク部材１０と、マスク部材１０と同一の形状の基板４０と、が、前記アライメント機構を用いて、マスク部材１０に設けられるアライメントマーク１４、１５と基板４０に設けられるアライメントマーク４２、４３とを合わせることによってアライメントが行われる。 （もっと読む）

【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機ＥＬ成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク８３とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機ＥＬ成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム８２の外枠に沿って設けられる、複数の固定板８４を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム２に有機ＥＬ層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと同形状の開口パターン４を設けたマスク１をフィルム２がＴＦＴ基板１９側となるようにして該ＴＦＴ基板１９上に位置決めし載置し、ＴＦＴ基板１９のＲ対応アノード電極２１Ｒ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｒ有機ＥＬ層１７Ｒを形成した後、マスク１を複数種の有機ＥＬ層１７Ｒ〜１７Ｂの配列ピッチと同寸法だけアノード電極２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの並び方向に移動し、ＴＦＴ基板１９のＧ対応アノード電極２１Ｇ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｇ有機ＥＬ層１７Ｇを形成する。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあわせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】大面積基板におけるロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に対して、精度良く着弾させることができるインクジェット装置を提供すること。
【解決手段】画素領域外にもインクを着弾させ、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置を認識カメラで認識して、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置からズレ量を算出し、吐出するノズルを切り替えて基板に塗布する。これより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、コストを軽減することが困難である。
【解決手段】ワークに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドに対する前記ワークの相対位置を変位させる変位装置と、前記相対位置の変位方向に沿って並ぶ複数の目盛り７５が設けられたリニアスケール７１と、前記相対位置の変位にともなって目盛り７５を検出し、目盛り７５を検出するごとに検出信号を出力するエンコーダー７３と、リニアスケール７１の一端７８ａ側を支持するビス８２と、リニアスケール７１の他端７８ｂ側からリニアスケール７１に張力を付与する引張りばね８３と、リニアスケール７１から独立した状態で、ビス８２から距離Ｄを隔てた位置に設けられ、他端７８ｂ側において、複数の目盛り７５のうちの一部の目盛り７５をエンコーダー７３から隠す隠し部材９１と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】表示素子の製造装置（１００）は、可撓性の基板（ＦＢ）を第１方向に搬送する搬送部（ＲＬ）と、可撓性の基板に基準マークを形成するマーク形成部（１０）と、可撓性の基板に隔壁を形成する隔壁形成部（１０）と、基準マークに基づいて隔壁に対して所定の位置に導電部材を塗布する塗布部（２０）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】２枚の基板を貼り合わせるためのシール剤の塗布パターンを硬化処理するに際して、効率的に硬化処理を行ってシール工程全体の所要時間を短縮させることができる。
【解決手段】シール剤の塗布パターンの一方向に沿った辺上に第１硬化処理ユニット３の処理部３Ａが位置するように、第１硬化処理ユニット３を基板の一端側から他端側に向けて順次相対的に移動させ、第１硬化処理ユニット３が塗布パターンの半分位置まで移動する迄の間、塗布パターンの他方向に沿った辺上に第２硬化処理ユニット４の処理部４Ａが位置するように、第２硬化処理ユニット２を基板の一端側から他端側に向けて順次移動させ、第１硬化処理ユニット３が塗布パターンの半分位置まで移動した後は、塗布パターンの他方向に沿った辺上に第３硬化処理ユニット５の処理部５Ａが位置するように、第３硬化処理ユニット５を基板の一端側から他端側に向けて順次移動させる。 （もっと読む）

【課題】有機層蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着工程中に基板と有機層蒸着装置との精密な整列の可能な有機層蒸着装置である。有機層蒸着装置は、第１マーク及び第１整列パターンを撮影する第１カメラアセンブリーと、第２整列マーク及び第２整列パターンを撮影する第２カメラアセンブリーと、を備え、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンの映像が同一であり、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンの映像が同一であるように、前記基板の移動速度と前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーの撮影速度とを同期化する。 （もっと読む）

【課題】稼動前の準備作業を簡易化することができるＦＰＤモジュール組立装置を提供する。
【解決手段】ＦＰＤモジュール組立装置は、第１の処理ユニットと、第２の処理ユニットと、検知部と、制御部とを備えている。第１の処理ユニットは、処理位置に配置された表示基板に対して所定の処理を行う。第２の処理ユニットは、第１の処理ユニットから表示基板を受け取る搬送部を有しており、表示基板に対して第１の処理ユニットとは異なる処理を行う。検知部は、第１の処理ユニットにおける処理位置の位置情報を検知する。制御部は、検知部で検知された位置情報に基づいて第２の処理ユニットの搬送部の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】
伝導性異物による有機発光素子のピクセルの不良領域を再生して製品の信頼性を確保し、歩留まりを向上させるピクセルの再生方法及びこれを具現する再生装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板１０上に有機発光層３１，３２，３３を挟んで互いに交差するように形成された第１の電極２０と第２の電極４０とを含む有機発光素子をステージ上にアラインする第１のステップと、前記第１の電極２０及び第２の電極４０間の有機発光層３１，３２，３３に存在する伝導性異物存在領域にピクセル再生装置Ｌを用いてレーザを照射する第２のステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アライメントによる製膜の中断なしに製造することが可能な有機発光素子を提供する。
【解決手段】基板（１）上に形成された第一の電極（２）および第二の電極（３）と、第一の電極および第二の電極の上に形成された有機層（６）と、有機層の上に形成された絶縁層（７）と、を有する有機発光素子であって、第二の電極は第一の電極に対向しており、絶縁層は、絶縁層内の分極により有機層に電界を印加する有機発光素子，有機層および絶縁層がアライメントなしで製膜される有機発光素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】異物噛みこみ等による局所的な押し込み量過多によるアライメントパターンの崩壊や、発光材料の転位が不均一なことで生じる不明瞭なアライメントパターンの印刷物が生ずることや、印刷画像の凸部やアライメントマークが押し込まれ、印刷が均等に全面にかからなかったために明瞭な被印刷物が得られなかった欠点を解消することが求められていた。
【解決手段】印刷画像領域外にアライメントマークを有するとともに、印刷画像を形成する領域内凸部が形成されている凸版印刷版において、印刷画像領域外に領域外凸部を形成し、前記領域外凸部中に凹形状のアライメントマークが設けられていることを特徴とする印刷用凸版とその製造方法並びに有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高精度な蒸着ができ、長時間の連続稼動も可能な蒸着装置並びに蒸着方法の提供。
【解決手段】成膜室30において、蒸発源１から蒸発した成膜材料を、蒸着マスク２のマスク開口部を介して基板４上に堆積して、この蒸着マスク２により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板４上に形成されるように構成した蒸着装置であって、前記蒸発源１から蒸発した蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部５を設けた飛散制限部を有し、前記蒸着マスク２が付設されたマスクホルダー６を備え、この蒸着マスク２が付設された前記マスクホルダー６が前記成膜室30と往来できるロードロック室32、前記マスクホルダー６が前記ロードロック室32と往来できる待機室33及び装置外部に前記マスクホルダー６を取り出し可能な取出し室34を有する交換室31を備えたことを特徴とする蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬパネルの輝度測定において、セル単位での発光強度測定をシェーディングの影響を除去することで高精度かつ簡便に行うことが出来る測定装置および測定方法を提供すること。
【解決手段】アクティブマトリックス方式の有機ＥＬパネルをＸＹ平面上を移動させる移動手段と、前記有機ＥＬパネルを発光させるための発光手段と、該発光を電気信号に変換してデータ化する撮像手段と、該撮像手段により得られた画像データを演算処理する画像処理手段と、前記有機ＥＬパネルを構成する最小単位（セル）の発光強度の測定値に対して補正処理する手段を具備することを特徴とする有機ＥＬパネル輝度測定装置である。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスク引張用整列基板、それの製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法を提供する。
【解決手段】有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板であって、本発明による蒸着マスク引張用整列基板１０は透明基板１１と、前記透明基板１１の一面にコーティングされて光を反射させる反射膜パターン１３を含み、前記反射膜パターン１３は前記開口部と対応する位置にのみ形成される。 （もっと読む）

【課題】第４世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置の提供。
【解決手段】直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室１を備えた成膜装置であって、成膜室１に、マスク３が基板２に対して適正位置となるようにマスク３と基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、基板２若しくはマスク３の搬送方向に沿って移動可能な蒸発源100と、蒸発源100と対向する複数の成膜位置に基板２及びマスク３を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、一の成膜位置において蒸発源100により成膜を行いながら他の成膜位置においてアライメント駆動機構によりマスク３と基板２との位置合わせを行えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】基材に形成される各層の移動方向及び該移動方向と垂直方向のアライメントを調整して、効率的に有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源を用いて、有機層を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、シャドーマスクを、前記キャンロールに当接した前記基材と前記ノズルとの間に介入させるように供給し、シャドーマスクとして、長手方向に配列された複数の貫通孔が設けられたものを用い且つ前記キャンロールとして、前記貫通孔に係合する係合突起部が設けられたものを用い、それらを係合させて前記基材及びシャドーマスクを移動させることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）