【課題】半導体の量産工場での純水の製造量を増加させることなく、溶存ガスをほとんど含まない純水と、溶存ガスを含む純水を供給できるシステムを提供する。
【解決手段】溶存ガス濃度０．４ｐｐｍ以下の純水を製造する純水製造手段と、前記純水製造手段から純水を供給可能な第１の純水供給手段と、前記純水製造手段と連結部により連結され、該連結部を介して前記純水製造手段から移送された前記純水に気体を溶存させる溶存手段と、前記溶存手段で気体を溶存させた純水を供給可能な第２の純水供給手段とを有することを特徴とする純水供給システムにより、純水を供給する。 （もっと読む）

【課題】凝集剤を添加しないために凝集剤によって処理液が汚染されることがなく、被処理液中の微粒子を凝集させることのできる微粒子の凝集装置及びその凝集方法を提供する。
【解決手段】微粒子を含む被処理液と接触する光により励起する物質と、前記光により励起する物質に励起光を照射して前記光により励起する物質の表面に親水性基を形成させる光照射装置と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題を解決できる、浄水再循環ループを備えるタイプの水浄化システムを提供する。
【解決手段】本発明は、水浄化システム１００に関し、この水浄化システム１００は、水入口１０１によって１つのポイントで浄化されるべき水が供給され、浄水の少なくとも１つの出口ユースポイント１０２（を有する）、閉じた水再循環ループ１０６を含み、水の流れ方向に、入口ポイントの下流側にポンプ輸送手段１０３および少なくとも１つの出口ポイント１０２の上流側に水浄化手段１５０をループ上に（さらに）含み、水浄化システム１００が、２つの独立の弁、すなわち、ポンプ輸送手段１０３の上流側にループ上の第１の弁１３０と、少なくとも１つのユースの出口ポイント１０２の上流側に第２の弁１２０とを含むことを特徴とする。本発明は、また水浄化方法に関する。 （もっと読む）

【課題】被処理水中の過酸化水素を迅速かつ確実に除去することができ、特に半導体、液晶などの電子材料を扱う産業において用いられる超純水製造装置における超純水中の過酸化水素の除去に適した過酸化水素の除去方法及び除去装置を提供する。
【解決手段】過酸化水素を含む被処理水を、平均粒子径１〜５０ｎｍである白金族の金属ナノコロイド粒子を担体に担持させた過酸化水素分解触媒に接触させることを特徴とする水中の過酸化水素の除去方法、及び、平均粒子径１〜５０ｎｍである白金族の金属ナノコロイド粒子を担体に担持させた触媒を充填した過酸化水素分解装置と、過酸化水素を含む被処理水を該装置に供給する給水手段と、該触媒と接触した水を該装置から排出する排水手段とを有することを特徴とする過酸化水素の除去装置。 （もっと読む）

【課題】超純水中のＮａ⁺イオン濃度を０．１ｐｐｔ以下に抑制するとともに、ＴＯＣ濃度を低減して、高純度の超純水を安定に効率よく製造する方法、およびその装置を提供する。
【解決手段】一次純水１０を強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とで構成される混床を備えるイオン交換装置３に通して超純水を形成する超純水の製造方法であって、強酸性カチオン交換樹脂の交換容量が１．５〜２．５ｍｅｑ／ｍＬ、強塩基性アニオン交換樹脂の交換容量が０．５〜１．５ｍｅｑ／ｍＬ、強酸性カチオン交換樹脂および強塩基性アニオン交換樹脂の総体積に対するカチオン交換樹脂の体積の比率が、４０％以上７０％未満であることを特徴とする超純水の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、超純水を製造するため、特に、液浸リソグラフィ法にて使用されるシステム及び方法に関する。本発明の１つの実施の形態において、液浸リソグラフィ装置にて使用される超純水を均一に提供することのできる自己密閉型のユースポイントキャビネットが提供される。本発明は、また、液浸リソグラフィ装置に対して所定の屈折率を有する材料を提供するシステム及び方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】小型の逆浸透膜式純水生成装置を用いながらも洗顔や洗髪時には十分な量の純水を取り出すことを可能にした洗顔洗髪装置と洗面化粧台ユニットを提供すること。
【解決手段】逆浸透膜式純水生成装置１と、該装置１が生成した純水を貯水する貯水タンク２と、該貯水タンク２内が下限レベルになると逆浸透膜式純水生成装置１に原水を供給し、上限レベルになると原水の供給を停止させるレベルスイッチ１５と、貯水タンク２内の純水を殺菌処理する紫外線殺菌装置３と、混合水栓器具６の開閉に関連して駆動・停止制御されて貯水タンク２から純水を送出するポンプ装置４と、該ポンプ装置４から送出される純水を加熱して送出する加熱装置５と、該加熱装置５から送出される純水を高温水と低温水とに混合調節して出水する混合水栓器具６とを備え、貯水タンク２には少なくとも１回の洗顔・洗髪に使用する水量以上の純水を貯水可能とした。 （もっと読む）

【課題】レジスト上にナノサイズのバブル（気泡）や凹凸を発生させることのない液浸露光装置用超純水の製造方法及び製造装置を提供すること。
【解決手段】 超純水製造装置で処理され半導体製造工程へ洗浄水として供給される超純水を分取し脱気膜を通過させて溶存窒素ガス量が３ｍｇ／Ｌ以下、溶存酸素ガス量が５０μｇ／Ｌ以下になるまで脱気する。脱気した超純水をイオン交換装置、限外濾過膜に通過させて超純水中のイオン成分と微粒子を除去する。 （もっと読む）

【課題】電力コストが安価で、光源の交換が半永久的に不要なため維持管理負担が小さく、小型化された構造に形成可能で、有機化合物の分解効率の高い超純水製造装置を提供する。
【解決手段】被処理水の流路に沿って順に配置された有機質分解手段とイオン吸着手段からなる有機質除去装置を備えた超純水製造装置において、前記有機質分解手段は、被処理水の流路となる紫外線透過性材料からなる管体と、前記管体の被処理水と接する側に被着された光触媒層と、前記管体の光触媒の被着された側と反対側に前記光触媒層に向けて配置された紫外線を照射する発光ダイオードと、前記発光ダイオードを駆動させる電源装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】どのような水質であっても確実かつ安価にＩＭＯが定めるバラスト水基準を満たすように大量のバラスト水を処理できるバラスト水処理装置、および有害化学物質、汚染物質、汚泥等を含む大量の水に対して水中の有機物を分解することにより無害化処理できる水処理装置を提供する。
【解決手段】海水をろ過して水生生物を捕捉するろ過装置２と、海水中の細菌類を死滅させる薬剤をろ過された海水中に供給する薬剤供給装置４と、薬剤が供給されたろ過水の供給を受けて該ろ過水中にキャビテーションを発生させるベンチュリ管装置６と、を備え、該ベンチュリ管装置は複数のベンチュリ管を並列に配設してなる。 （もっと読む）

本発明は、液体／固体分離ステップ（１）と、前記ステップに続いて少なくとも１つの濾過ステップ（２）を含む水処理方法に関する。本発明は、液体／固体分離ステップ（１）が１５ｍ／ｈより多い表面速度にて実施される沈降ステップを含み、濾過ステップ（２）が少なくとも１つの精密濾過または限外濾過膜で直接実施されることを特徴とする。
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【課題】 マイクロナノバブルの発生状態の最適化を図る。
【解決手段】 超純水製造装置５,希薄排水回収装置３４,雑用水回収装置および排水処理装置の各前段に、第１処理槽１〜第４処理槽を設置している。そして、各処理槽１,２,…を、マイクロナノバブル発生槽６,２３,…と嫌気測定槽７,２４,…とで構成している。したがって、各マイクロナノバブル発生槽６,２３,…で発生されたマイクロナノバブルによって、各嫌気測定槽７,２４,…内の微生物が活性化されて低濃度有機物の処理効率が向上される。さらに、上記各嫌気測定槽７,２４,…における各溶存酸素計１３,３０,…または各酸化還元電位計１４,３１,…の測定値が夫々に定められた一定の範囲を越えると循環ポンプ９,２６,…の回転数が制御されて、マイクロナノバブルの発生が減少される。こうして、処理水中におけるマイクロナノバブルの含有量が適正に保たれる。 （もっと読む）

【課題】 ランニングコストが低くて、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌方法および殺菌装置を提供する。
【解決手段】 この超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水タンク１内に窒素マイクロナノバブル発生機３が設置されている。殺菌が必要な時は、二次純水タンク１内で窒素マイクロナノバブル発生機３が窒素マイクロナノバブルを発生させて、この窒素マイクロナノバブルにより過酸化水素等の薬品を使用することなく、二次純水タンク１から殺菌することができる。すなわち、二次純水製造装置の最初の設備が二次純水タンク１であるので、最初の設備から殺菌することができる。 （もっと読む）

本発明は、ガス放電ランプを駆動する適応ドライバと、永久的な最適化モードで、適応ドライバによって駆動されるガス放電ランプ、とりわけ容量性ガス放電ランプ、更にとりわけ誘電体バリア放電（ＤＢＤ）ランプを動作させる方法であって、ドライバの出力（電流、電力、電圧、周波数）の重要な値を表す信号を測定、検知及び／又は検出するステップと、ランプの放電の質に関して少なくとも１つの実際の基準値を計算するステップと、ランプの最適化動作モードに関する少なくとも１つの所定値と実際の基準値とを比較するステップと、その比較の結果に従って電源を調整するステップとを有する方法とに関する。
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【課題】原水の凝集処理工程に鉱酸を全く添加することなく、又はその添加量を著しく少なくして、凝集処理を適正ｐＨ条件下で行うことができる水処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】原水としての工業用水に無機凝集剤を添加して凝集反応槽１で凝集処理した後、加圧浮上装置２及び二層濾過装置３で固液分離し、次いでカチオン交換塔４でカチオンを除去する。このカチオン交換塔４からの脱カチオン水を脱炭酸塔５で脱炭酸処理し、アニオン交換塔６でアニオンを除去して脱イオン水とする。カチオン交換塔４からの処理水は酸性水であるので、その一部を凝集反応槽１又は原水に添加して凝集反応槽１のｐＨを調整する。 （もっと読む）

概して、本発明は、紫外線光を使用する液体および気体の処理のための方法および装置に関する。一実施形態において、反射性材料で被覆され、紫外線ランプと、それを通される液体の処理のためのチャンバを貫通する紫外線透過管とを含む、実質的に密閉されたチャンバが開示される。 （もっと読む）

【課題】半導体、液晶などの電子材料を扱う産業において行われるウェット洗浄工程に使用される窒素ガス溶解水を、窒素ガスの使用量を低減して、効率的かつ経済的に製造することができる窒素ガス溶解水の製造方法を提供する。
【解決手段】超純水に窒素ガスを溶解して窒素ガス溶解水を製造する方法において、超純水がパラジウム触媒による脱酸素処理を受けた超純水であることを特徴とする窒素ガス溶解水の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高圧、低温でのみ水クラスレートを生成させることができるという従来技術の制約を抜本的に改善し、常温常圧で平易に水クラスレートを生成し、クラスレートのサイズを任意に制御しクラスレートの持つ優れた性質を産業分野に簡易に利用できる水クラスレート生成方法を確立することを目的としている。
【解決手段】 本発明に係わる水クラスレート生成方法の特徴は、非加熱性赤外線（２μｍから１０μｍの赤外線）を水に照射し、水分子のＯＨ伸縮振動や変角振動を変化させることにより、水分子間の水素結合を切断し、水構造の再編を行うことにより水クラスレートを生成し、さらにそれによって生成された水クラスレートは非加熱性赤外線を遮断したＸ線回折法により容易に確認できることにある。 （もっと読む）

【課題】
光触媒を用いて水処理を行う場合において、光利用効率、光触媒効率及びガス利用効率に優れ、且つ、オゾン処理施設の不要な水処理装置および水処理方法を提供すること。
【解決手段】
有機物含有水を光触媒に接触させて処理する装置であって、酸化チタンなどの光触媒と、光触媒に光を照射する高圧水銀灯などの光照射手段と、有機物含有水に酸素含有ガスの気泡径１００μｍ未満の微細気泡を供給する微細気泡供給手段とを有する有機物含有水処理装置を用い、気泡径０．１〜５０μｍの酸素含有ガスの存在下で有機物含有水を光触媒反応によって分解除去する。
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【課題】 比抵抗が１８ＭΩ・ｃｍ以上、シリカを含むＴＯＣ（全有機炭素）が５０μｇ／ｌ以下で、水のクラスターが小さい状態が長時間にわたり維持され、幅広い用途に適応可能な洗浄液の製造方法と、該洗浄液の製造装置を提供する
【解決手段】 超純水製造装置で処理することによって得られた比抵抗値：１８ＭΩ・ｃｍ以上、ＴＯＣ・ＳｉＯ_２：１０ｐｐｂ以下の超純水を原水とし、該原水を密閉状態の超音波発信装置内に導入して超音波印加処理を施した後、得られた処理水の一部をアルカリイオン整水器内に導入して電気分解によって生成されたアルカリイオン水と、前記超音波発信装置内で超音波印加処理された残りの処理水とをそれぞれ各別に混合槽内に導入し、該混合槽内における混合処理水のＰＨを所定の値に調整したのち、該混合槽内に敷設された攪拌羽根の回転によって、該混合処理水に真空気泡を生じせしめることによって得られる洗浄液の製造方法およびその装置。 （もっと読む）