本発明は、光触媒作用を有し、厚さが少なくとも２ｍｍであり、均質でありかつ肉眼で見える穴のない濾過媒体であって、光触媒作用を有する触媒を含むコーティングで繊維が被覆された無機繊維のフェルトを含み、該フェルトの単位面積当たりの質量が３０〜８０ｇ／ｍ²であり、前記コーティングが前記濾過媒体の５〜８０ｗｔ％であり、前記濾過媒体がひだのない状態において１ｍ／ｓで１５０Ｐａ未満の気体の損失水頭を示す濾過媒体に関する。この媒体は、よりきれいな気体（例えば空気）を含むためのものであり、また、当該媒体のＵＶ照射のための装置も備える。この媒体は優れた清浄効率と非常に低い損失水頭を有する。 （もっと読む）

本発明は、気体清浄器であって、光触媒作用を有する濾過媒体と、該媒体をＵＶ照射する装置と、遅延手段又は揮発性有機化合物の分析器と、清浄器を通過する気体の速度を自動的に調節するか又はＵＶ照射の強度を調節する手段を備え、該調節が遅延手段によって決定される時間又は分析器によって分析される揮発性有機化合物の含有量に基づいてなされる気体清浄器に関する。本発明はまた、光触媒作用を有する濾過媒体と、該媒体をＵＶ照射する装置を備えた清浄器を用いた気体の浄化方法であって、気体中の化合物の濃度がＶ１値よりも大きい場合には、清浄器の作動モードを気体中の化合物の濃度がＶ１以下であるＶ２値よりも小さい場合の作動モードよりも小さくする方法に関する。本発明はまた、清浄器を用いた気体の浄化方法であって、清浄器が光触媒作用を有する濾過媒体と、該媒体をＵＶ照射する装置と、清浄器のモードを制御する遅延手段を備えた方法に関する。 （もっと読む）

【課題】高い比表面積と良好な導熱性を同時に備え、安定した付着性を供給できる触媒担体を提供すること。
【解決手段】触媒層を表面に有する多孔性担体を含む、比表面積の高い多孔性触媒構造である。本発明の多孔性触媒構造は電気めっき法により多孔性金属担体の表面に金属層を蒸着させ、及び状況に応じて該金属層を金属酸化物層に酸化して作製される。あらゆる導電多孔性金属担体を本発明中に用いることができ、かつ前記金属層は所望する触媒機能を有するあらゆる好適な金属及び／又は金属酸化物を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】長期間にわたって一酸化炭素等の有害物質を除去可能な触媒体及びこれを用いた空気調和機を提供する。
【解決手段】基体と、基体上に形成された吸湿性を有する吸湿性コート層と、吸湿性コート層に保持され、気体中に含まれる反応目的分子と他の物質との反応を触媒するＰｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｉｒ等の触媒物質と、を有する触媒体。好ましくは、前記吸湿性コート層として、平均細孔径が５０ｎｍ以下の多孔質シリカを用いる。 （もっと読む）

開示されているのは、汚染物質を除去するために、流動床において、光触媒酸化、及び、紫外線光源を利用した、室内空気清浄のための装置、及び、この装置に関する方法である。触媒床は、紫外線が直接照射されるように、触媒床内に埋め込まれた紫外線光源を備える。触媒床の循環を促進して反応速度を高めるために、振動型ミキサあるいは静止型ミキサといった、流動化を支援するものを使用することも可能である。上記装置内における光触媒酸化は、現行の業界基準と比較して、より活性が高く、より流動化に優れ、耐磨耗性が１０倍になるよう考案された光触媒粒子を用いる。上記装置によって、紫外線光源を最も効率的に使用し、紫外線光源の寿命を延ばすことをもたらし、それにより運転コストの削減をもたらす。
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【課題】 異臭や触媒の性能低下原因となる有機化合物分解時の中間生成物の放出を、効果的に抑制することのできる光触媒材料、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 原料Ｒを用いて過程Ｐ１により調製されたチタンゾル溶液をシリカフィルター上に担持し（過程Ｐ２）、乾燥固化処理（過程Ｐ３）、ついで熱処理（過程Ｐ４）を施して、最終的に光触媒材料Ｍを得る。熱処理は、７００℃以上８００℃以下にて行うが、望ましくは７４０℃以上７６０℃以下、より望ましくは７４５℃以上７５５℃以下の温度範囲が最適である。 （もっと読む）

【課題】過熱水蒸気と有害ガスを効率よく接触させることにより過熱水蒸気と有害ガスの反応効率（処理効率）を高め、かつ安全に有害ガスを無害化処理できる有害ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】飽和水蒸気発生部１０と、有害物質を含む有害ガスを飽和水蒸気中に導入するための有害ガス導入部２０と、飽和水蒸気と有害ガスとを混合させた混合ガスを加熱することにより、混合ガス中の飽和水蒸気を過熱水蒸気に変える過熱水蒸気発生部３０と、過熱水蒸気によって有害物質を無害化した物質として外部に排出する排出パイプ４０とを備えた有害ガス処理装置を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】排気中の窒素酸化物を還元する還元触媒に、アルコールを容易に供給できる動力装置を提供する。
【解決手段】内燃機関１と、還元触媒４を備える排気浄化手段３とを備える。液体炭化水素とアルコールとの混合燃料に水を混合し、アルコール−水混合液と、液体炭化水素とに分離する分離手段１１と、アルコール−水混合液を排気浄化手段２に供給するアルコール供給手段１７とを備える。排気浄化手段３は、還元触媒４にアルコール−水混合液を供給する第１のアルコール供給手段１８ａと、還元触媒４の温度を検知する温度検知手段８と、酸化触媒５ａと、温度検知手段８により検知される還元触媒４の温度が還元温度未満のときに酸化触媒５ａにアルコール−水混合液を供給する第２のアルコール供給手段１８ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】有機塩素化合物を含む揮発性有機化合物を迅速に分解する揮発性有機化合物の除去方法の提供。
【解決手段】白金化合物が担持された光触媒粒子とオゾンと紫外線の存在下で、オゾンを供給しながら紫外線を無機繊維剤に照射して有機塩素化合物を含む揮発性有機化合物を除去することを特徴とする揮発性有機化合物の除去方法。 （もっと読む）

金／二酸化チタン光触媒／熱触媒被覆は同時に、その被覆上に吸着する揮発性有機化合物と一酸化炭素とを、水、二酸化炭素および他の物質に酸化する。金は、３ナノメートル未満のサイズを有する。紫外光の光子が金／二酸化チタン被覆により吸収されると、反応性ヒドロキシルラジカルが形成される。汚染物質が、金／二酸化チタン被覆上に吸着されると、このヒドロキシルラジカルが、汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。金は、一酸化炭素の障壁エネルギーを低下させ、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化触媒である。したがって、金／二酸化チタン被覆は同時に一酸化炭素を二酸化炭素に酸化することもできる。 （もっと読む）

酸化マンガン／二酸化チタン光触媒／熱触媒被覆は同時に、その被覆上に吸着する揮発性有機化合物を酸化し、オゾンを分解して、水、二酸化炭素および他の物質にする。酸化マンガンは、ナノサイズである。紫外光の光子が酸化マンガン／二酸化チタン被覆により吸収されると、反応性ヒドロキシルラジカルが形成される。汚染物質が、酸化マンガン／二酸化チタン被覆上に吸着されると、このヒドロキシルラジカルが、汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。酸化マンガンは、オゾン分解に必要なエネルギー障壁を低下させて、オゾンを分子状酸素に分解する。したがって、酸化マンガン／二酸化チタン被覆は同時にオゾンを酸素に分解することもできる。 （もっと読む）

【課題】 白金等の第８族元素を担持したナノ多孔性酸化チタン膜、およびこれを用いてメタノール等の揮発性有機化合物を除去する方法を提供する
【解決手段】 白金が担持されている本発明に係るナノ多孔性酸化チタン膜は、メタノール供給濃度に関わらずメタノールをほぼ完全に分解し、二酸化炭素生成率もほぼ１００％を示した。また、メタノール分解量も増加し、二酸化炭素生成量も大きく増加した。 （もっと読む）

【課題】 アンモニアガスの吸着・分解効率を選択的に向上させたセラミック光触媒フィルタ及び光触媒フィルタユニットを提供する。
【解決手段】 セラミック光触媒フィルタ２０は、３次元網目構造の基材層をＳｉＯ_２を主成分としＡｌ_２Ｏ_３を約２１重量％含んで形成し、この基材層の表面に形成した光触媒層を、ＴｉＯ_２を主成分とし、かつＴｉＯ_２とＳｉＯ_２の重量比率を約８：２として形成し、光触媒層の表面を弱酸性に調整したものである。セラミック光触媒フィルタ２０を使用した光触媒フィルタユニットＦは、半導体や液晶、有機ＥＬ等の製造工程を行うクリーンルーム１に空気を供給する空気出口２に配設されている。この光触媒フィルタユニットＦは、側面枠１１に回動可能に取付けたトップパネル１２の開閉により、側面枠１１の内部に収納したセラミック光触媒フィルタ２０及び光源ランプ３１を交換可能とされている。 （もっと読む）

【課題】可視光を照射されたときに水素及び酸素を良好に発生できる光触媒を提供する。
【解決手段】 ＩｎＴａＯ_４の少なくとも一部が、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＨｇのうち少なくとも１つの元素で置換されている。 （もっと読む）

【課題】 窒素酸化物（ＮＯｘ）濃度が短時間で急激に変動する排ガス発生源からの排ガスについて、排ガス中のＮＯｘを還元除去すると共に、添加した還元剤が未反応のまま排出されることを防止できる排ガス浄化方法を提供する。
【解決手段】 排ガス中の窒素酸化物濃度変動が激しい排ガス発生源からの排ガス中の窒素酸化物を除去する方法であって、メタノール及び／又はジメチルエーテルの存在下で排ガスをプロトン型βゼオライト触媒に接触させてＮＯｘを還元除去し、引き続いてその排ガスを酸化触媒に接触させて未反応の還元剤を酸化除去する。 （もっと読む）

層状光触媒／熱触媒被覆は、その被覆上に吸着する汚染物質を、水、二酸化炭素および他の物質に酸化する。層状被覆は、揮発性有機化合物を酸化する二酸化チタンの光触媒外層を含む。被覆はさらに、低極性有機分子を酸化するＶＩＩＩ族貴金属ドープ二酸化チタンの中間層を含む。二酸化チタン上の金の内層が一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する。紫外光の光子が、被覆により吸収されると、反応性ヒドロキシルラジカルが形成される。汚染物質が被覆上に吸着されると、ヒドロキシルラジカルが汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。
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光触媒／熱触媒被覆は、ハニカム上に付与された金属／二酸化チタンまたは金属酸化物／二酸化チタンの内層と、内層上に付与された二酸化チタンまたは金属酸化物ドープ二酸化チタンの外層とを含む。内層は、金／二酸化チタン、白金／二酸化チタンまたは酸化マンガン／二酸化チタンとすることができる。二酸化チタンまたは金属酸化物ドープ二酸化チタンの外層は、揮発性有機化合物を二酸化炭素、水および他の物質に酸化する。外層は、薄く、多孔質であるので、空気中の汚染物質は、外層を通って拡散し、内層上に吸着できる。紫外光の光子が、被覆により吸収されると、反応性ヒドロキシルラジカルが形成され、この反応性ヒドロキシルラジカルが汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。
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【課題】 本発明は、好ましくはウォールパネル（１）の形態をとった、居住室の空気の連続式光触媒浄化装置であって、金属製の好ましくは鋼鉄製の外側構造体、ウォールの前部（１０）の底部に配置された、処理すべき空気の取入れ開口（１１）、直列の紫外線Ａ電灯（３）が取り付けられている内部金属製フレーム（４）、光触媒の二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を含有する皮膜で被覆された支持体を含むフィルター（２）、ウォールの前部（１０）の頂部に配置された、浄化された空気の出口開口（１２）を備え、かつ装置内の空気流が、少なくとも一つのファン（５）による自然循環又は強制循環によって保証されてなるものに関し、紫外線Ａ光が照射される光触媒の表面積を最大限にするため、主としてアナターゼ相の二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を含有する皮膜で被覆されたエキスパンドメタル製の格子（２）を少なくとも一つ備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、有害物質を含む廃気を浄化するための装置であって、光酸化原理に係る反応段を有するものに関する。この反応段は、管状紫外発光素子が廃気の流れ方向に沿って内側に配置された、少なくとも１つの空気路を含む。廃気路内における分解効率を簡単な方法で高めるために、前記少なくとも１つの空気路の断面が、少なくとも５つの辺を有する正多角形として具体化される。

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酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆は、その被覆上に吸着する空気中の汚染物質を、水、二酸化炭素および他の物質に酸化する。酸化タングステンは、二酸化チタン上に単分子層を形成する。紫外光の光子が酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆により吸収されると、電子は価電子帯から伝導帯へ上げられて、価電子帯に正孔が生成される。価電子帯内の正孔は、酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆上に付与される水と反応して、反応性ヒドロキシルラジカルを形成する。空気中の汚染物質が酸化タングステン／二酸化チタン光触媒上に吸着されると、ヒドロキシルラジカルは、汚染物質に作用して、水素原子を汚染物質から引抜く。ヒドロキシルラジカルは、汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆は、湿度変動に対する感受性が低い。 （もっと読む）