【課題】液体の補給不足に起因する噴射不良を有効に抑制する。
【解決手段】液体噴射装置（複合機１）は、液体噴射ヘッド（ヘッドＨＤ）と、温度センサー（４２）と、ヘッド移動部（キャリッジ移動機構）と、コントローラ（主制御部７）とを有する。コントローラーは、移動噴射動作を制御し、時系列での液体の噴射率が過多であることを示す判断条件を満たす場合、或る範囲に対する移動噴射動作の回数を、判断条件を満たさない場合よりも多くする。そして、コントローラーは、環境温度が第１温度よりも低い第２温度では、第１温度よりも少ない噴射率で噴射率が過多であると定められた判断条件によって、或る範囲に対する移動噴射動作の回数を定める。 （もっと読む）

【課題】導電性又は半導電性塗布液の塗膜に交流電界を付与しない場合に比べ、コーヒーステイン現象の発生を抑制した導電性又は半導電性膜が形成される導電性又は半導電性膜の形成装置を提供すること。
【解決手段】基板１０の表面に、導電性又は半導電性塗布液の液滴を吐出する液滴吐出ヘッド２０と、導電性又は半導電性塗布液の液滴が基板１０の表面に着弾して形成された導電性又は半導電性塗布液の塗膜１１Ａに対して、交流電界を付与するための一対の交流電界付与電極４０と、一対の交流電界付与電極４０に交流電圧を印加するための交流電圧印加装置４１と、を備える導電性又は半導電性膜の形成装置。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出手段を用いて基板上に膜材料を含む材料液を塗布する際に材料液の膜厚変動を防止して、基板上に均一な膜厚の膜を形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐに材料液又は液滴としてのインクＬを塗布する塗布工程を少なくとも二回有し、第１の塗布工程において塗布する材料液又は液滴としてのインクＬの液滴の中心間距離Ｃ１が基板Ｐ上に着弾後の液滴の径Ｄと略等しくなるように塗布し、第２の塗布工程において塗布する材料液又は液滴としてのインクＬの液滴の中心間距離が第１の塗布工程において塗布される材料液又は液滴としてのインクＬの中心間距離Ｃ１より小さくなるように塗布する。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出手段を用いて基板上に配向膜材料を含む材料液を塗布する際に材料液の膜厚変動を防止して、基板上に均一な膜厚の配向膜を形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上に配向膜材料濃度が低い第１の材料液Ｌ１を塗布し、第１の材料液Ｌ１が塗布された基板Ｐ上に配向膜材料濃度が高い第２の材料液Ｌ２を塗布する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で圧力調整弁内のエアーを排出することができる圧力調整弁の初期充填方法等を提供する。
【解決手段】バルブハウジング６４内の１次室６７と２次室６８とを連通する連通流路に設けた弁体７０を、２次室６８の１の面を構成するダイヤフラムにより大気圧基準で開閉し、機能液供給手段から導入した機能液を、圧力調整して２次室６８から流出ポート８１を介して機能液滴吐出ヘッド２５に供給する圧力調整弁２７の初期充填方法であって、機能液滴吐出ヘッド２５に密接して１次室６７および２次室６８に機能液を吸引・充填する吸引充填手段を用い、圧力調整弁２７を、流出ポート８１が２次室６８の下部に位置する使用姿勢に維持して吸引を行う第１吸引工程Ｓ１と、第１吸引工程Ｓ１の後に流出ポート８１が２次室６８の上部に位置するエアー抜き姿勢に姿勢変更して吸引を行う第２吸引工程Ｓ２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】線径が６．５〜２００μｍの細線の被膜作成方法及びこれに使用する被膜作成装置を提供する。
【解決手段】細線材の周囲の塗布位置と塗布速度を決定して塗布手段によって塗布するステップからなり、該塗布手段の塗布部を前記線材の周方向一端側に接触させて長手方向に移動させ、さらに該線材の他の周方向から前記塗布手段の塗布部を接触させて長手方向に移動させることによって、前記線材の周囲に被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】微細な隔壁間の凹部に塗液を塗布する場合においても、塗液の隔壁上部への付着、混色、塗布ムラ等の塗布欠点を発生させず、高品位に塗布することが容易な塗液の塗布装置および塗布方法ならびにプラズマディスプレイパネルの製造装置および製造方法を提供することにある。
【解決手段】表面に隔壁が形成されている基板を固定するテーブルと、前記テーブルに対向して設けられ、基板の隔壁間の凹部に所定量の塗液を塗布する口金と、前記テーブルと前記口金とを３次元的に相対移動させる移動手段とを備えた塗液の塗布装置であって、前記口金の吐出孔の形状は、塗布幅方向よりも塗布方向に長い形状であり、塗布幅方向の長さをW、塗布方向の長さをLとした時、１．１≦Ｌ／Ｗ≦１．７の条件を満たすことを特徴とする塗液の塗布装置とする。 （もっと読む）

【課題】ヘッド保守装置のメンテナンスを容易且つ安全に行え、また液滴吐出ヘッドの保
守中であっても使用していない他のヘッド保守装置のメンテナンスが行える液滴吐出装置
および液滴吐出ヘッドの保守方法を提供すること。
【解決手段】ワーク１０を第１走査方向Ａに移動させるテーブル１９と、ワーク１０に液
滴を吐出する液滴吐出ヘッド１５を搭載するキャリッジ１７と、キャリッジ１７を取り付
けて第２走査方向Ｂに移動させるとともに第１走査方向Ａに移動するキャリッジガイド３
１と、液滴吐出ヘッド１５の保守を行う複数のヘッド保守装置６０−１〜４とを備える。
複数のヘッド保守装置６０−１〜４は、複数のヘッド保守装置６０−１〜４を個別にキャ
リッジガイド３１の移動範囲内にあるヘッド保守位置Ｐ２と移動範囲外にあるメンテナン
ス位置Ｐ１とにわたって移動させる保守装置移動手段５５に搭載される。 （もっと読む）

【課題】安価な製造設備でありながら大型基板に対して高精度に塗布することを可能にする。
【解決手段】ノズルヘッド１０に対して進行方向上流側に配置された第１の距離測定器５１によって該第１の距離測定器５１と基板１との距離６１を測定する。この測定された距離６１に基づいて、ノズルヘッド１０に対して進行方向下流側に配置された第２の距離測定器５２と基板１との距離６２を一定値に保ちながら、第２の距離測定器５２により基板表面までの距離および基板１上の塗布液面までの距離を測定する。そして基板表面までの距離と塗布液面までの距離との差から塗布膜厚を算出し、塗布膜厚を一定とするように塗布条件を制御して、基板１上に液を塗布する。 （もっと読む）

【課題】 塗布ヘッドのノズルから吐出される塗布液の液滴の量を高精度に測定すること。
【解決手段】 塗布ヘッド２０のノズル２６から塗布液を液滴Ｌとして吐出させて基板に塗布する液滴塗布装置１０において、塗布液とは混ざり合わず、塗布液の比重より小さい比重をもち、塗布ヘッド２０のノズル２６から吐出した塗布液の液滴Ｌを受止め球状にして捕獲する液状体Ｖと、液状体Ｖに捕獲されて球状をなす上記液滴Ｌを撮像する撮像部５０と、撮像した液滴Ｌの画像に基づいて、当該液滴Ｌの量を求める検査部６０とを有してなるもの。 （もっと読む）

【課題】液状体の配置むらを目立たなくして画質の低下を抑制する。
【解決手段】複数の凹部が配列された基板を有し、凹部に機能性液体が塗布されて画素部が形成される。第１の吐出量分布ＢＰ１を有する複数のノズルが形成された吐出ヘッドを用いてノズルから機能性液体の液滴を凹部に吐出する第１吐出工程と、第１の吐出量分布に対して逆の傾向の第２の吐出量分布ＢＰ２を有する複数のノズルが形成された第２吐出ヘッドを用いてノズルから機能性液体の液滴を凹部に吐出する第２吐出工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】給液用のポンプ２を連続運転しながら、塗工液を間欠塗工による吐出使用状態に応じて、応答性よく間欠的に給液できるようにする。
【解決手段】ポンプ２と塗工ヘッド３の間の給液路５に容量可変の液溜め部１０を設けておき、塗工ヘッド３での吐出使用状態及びポンプ吐出量に応じて液溜め部１０の容量を変化させ、非塗工時は容量を増大させることによりポンプ２からの吐出量に相当する液量を液溜め部１０に吸収して塗工ヘッドへの塗工液の給液を停止し、塗工時は液溜め部１０の容量を減少させることにより液溜め部１０に溜った塗工液を一定量ずつ給液路５に戻してポンプ２からの吐出液と共に塗工ヘッド３に給送する。 （もっと読む）

【課題】インクジェットノズルを用いた塗布動作を中断して待機するに際して、乾燥雰囲気中にあってもインクジェットノズル先端部に保持されているインクの乾燥を遅らせ、作業効率を低下させることなく、吐出不良を引き起こすことのない塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置は、複数のインクジェットノズル１３を有するインクジェットヘッド１２と塗布対象物を相対的に移動させて、前記塗布対象物にインクを塗布する塗布装置であって、前記インクジェットノズル１３にインクを供給するインクタンク１８、１９と、前記インクジェットノズル１３内のインクの負圧を制御する圧力調整手段１７と、塗布動作後に所定の信号が入力されると、前記圧力調整手段１３に塗布時の負圧より大気圧に近い負圧とする指示を出す制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッド内の気泡排出性を向上させることのできる流体排出方法および液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】インク排出方法は、液滴吐出ヘッドのノズル形成面にキャップを当接させ、液滴吐出ヘッドのノズルからインクを排出させるためのインク排出方法であって、吐出ノズルからインクを排出させる動作中に、インクの排出流量を高速P1から低速P2に連続的に変化させる期間を有する。 （もっと読む）

【課題】液滴の塗布ピッチの精度向上可能なインクジェット塗布装置及び塗布体の製造方法を提供すること。
【解決手段】インクジェット塗布装置１は、Ｘ方向ガイドレール２５に沿ってＸ方向に移動可能に形成されたＸ方向移動体２７と、インクを塗布するノズル３２を複数備えたインクジェットヘッド３１とを有するヘッド駆動装置２６と、Ｘ方向ガイドレール２５の移動によるヘッド駆動装置２６のθ方向の回転角度の補正値に基いて、インクジェットヘッド３１を回動させてノズル３２の塗布ピッチを補正する制御部５０を有する制御装置１２と、を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の膜厚変化を抑制し得るフォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び塗布装置を提供すること。
【解決手段】液槽２０と、該液槽２０に貯留されたレジスト液２１を毛細管現象により上昇させる塗布ノズル２２とを含む塗布手段２により上昇させたレジスト液２１を下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａに接液させ、塗布ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて基板１０の被塗布面１０ａにレジスト膜２１を形成する方法であって、基板１０へのレジスト液２１の塗布による該レジスト液２１の消費により低下する液槽２０のレジスト液２１の液面高さの低下量ｄと、基板１０の被塗布面１０ａに形成されるレジスト膜の膜厚変化との関係に基づいて決定された、レジスト膜の膜厚変化を許容範囲内に収めるための液槽２０のレジスト液２１の液面面積を少なくとも有する塗布手段２によりレジスト膜を形成することとした。 （もっと読む）

【課題】円筒面状の被塗布面を外周部に有する光学素子に塗料を塗布する塗布方法および塗布装置において、安定した層厚で迅速に塗布することができるようにする。
【解決手段】レンズ本体１をレンズ縁面１ｃの周方向に回転可能に保持し、レンズ縁面１ｃの中心軸Ｌ_Ｃに平行な軸回りの２方向に回転可能に設けられた、塗布ローラ７Ａ、７Ｂによって、レンズ本体１のレンズ縁面１ｃを弾性押圧状態に挟持し、塗布ローラ７Ａ、７Ｂのローラ面７ａに塗料２０を供給しつつ、塗布ローラ７Ａ、７Ｂを同方向に回転させることで、レンズ本体１を中心軸Ｌ_Ｃ回りに回転させて、ローラ面７ａ上の塗料２０をレンズ本体１のレンズ縁面１ｃに塗布し、その後、塗布ローラ７Ａ、７Ｂを互いに逆方向に回転させて、レンズ本体１を塗布ローラ７Ａ、７Ｂによって挟持された位置から退避させる。 （もっと読む）

【課題】円筒面状の被塗布面を外周部に有する光学素子に塗料を塗布する塗布方法および塗布装置において、安定した層厚で迅速に塗布することができるようにする。
【解決手段】レンズ本体１のレンズ縁面１ｃの外径よりも大径の拡径状態と、レンズ縁面１ｃの外径よりも小径の縮径状態とが切り替え可能な内周面７ｃを有する環状塗布機構７を用い、内周面７ｃが拡径状態とされた環状塗布機構７を、レンズ本体１のレンズ縁面１ｃの外周側に隙間を空けて対向配置する対向配置工程と、この対向配置工程によってレンズ本体１のレンズ縁面１ｃの外周側に配置された環状塗布機構７の内周面７ｃを縮径状態とする縮径工程と、この縮径工程によって縮径状態とされた環状塗布機構７の内周面７ｃを拡径状態に戻す拡径工程とを備え、縮径工程が終了するまでに、塗料２０を内周面７ｃに供給することで、縮径工程において、レンズ縁面１ｃに塗料２０を塗布する。 （もっと読む）

【課題】基材に塗布された塗布液の塗布厚不足領域の発生を再現性よく抑制し、材料および工程の無駄を減少させることが可能な塗工装置および塗工装置の制御方法を提供する。
【解決手段】塗布液７を吐出口１０から連続的に吐出して前記基材の表面に塗布するダイヘッド４と、ダイヘッドへ塗布液を供給するポンプ５と、吐出口１０と基材２表面の間の隙間への塗布液の吐出完了を検出する溜まり検出部１７，１８と、ダイヘッド４へ供給される塗布液７の性状を検出する性状検出部１３，１４と、制御部６と、を有する塗工装置１である。制御部６は、溜まり検出部からの検出信号を予め設定された閾値と比較することで、ダイヘッドの移動を開始させ、性状検出部から入力される検出信号に基づいて、基材に塗布される塗布液の厚さを一定に保つようにポンプからの塗布液の送液速度およびダイヘッドの移動速度の少なくとも一方を制御する。 （もっと読む）

【課題】接続基板の幅方向に均一に樹脂膜を形成する。
【解決手段】パネル部材３０の端部に貼り付けた接続基板４０に対してノズルＮをパネル部材３０の端縁に沿って平行移動させながら、ノズルＮから液状樹脂３５ｄを吐出させることにより、パネル部材３０の端縁の側面に当接する樹脂膜の形成方法であって、接続基板４０の幅方向の一方端から内方側の位置でノズルＮからの液状樹脂３５ｄの吐出を開始した後に、接続基板４０の幅方向の他方端から内方側の位置でノズルＮからの液状樹脂３５ｄの吐出を停止し、液状樹脂３５ｄの吐出が停止した位置から接続基板４０の幅方向の他方端の方に吐出させた液状樹脂３５ｄの一部をノズルＮの平行移動により引き延ばす樹脂供給工程と、樹脂供給工程で吐出させた液状樹脂３５ｄをその流動性により接続基板４０の幅方向の両端に展開させる樹脂展開工程とを備える。 （もっと読む）