【解決手段】表面に多数の微細凹凸を有した半導体基板に対し液状の塗布剤を塗布し乾燥して上記表面を塗布剤で覆う際、液状の塗布剤の塗布後に基板の塗布面を下向きにした状態を保持したまま乾燥したことを特徴とする塗布膜形成方法。
【効果】本発明の塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置を用いることで、表面に凹凸を有した基板に対し面内均一な塗布膜を形成することができ、太陽電池製造工程への利用が有効である。拡散剤を塗布する場合に用いれば、テクスチャ頂点を含め基板を塗布剤で覆うことができるため形状因子が改善するだけでなく、汚染物質の混入量も低減し短絡電流及び開放電圧も改善し、変換効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】 塗布ブース内の被塗物に引火性の塗材を安全かつ衛生的に自動で塗布できる安価な塗布方法と装置を提供する。
【解決手段】 固定した下面開放箱３と、第２の駆動源１５又は第２の駆動軸１６で移動する上面開放箱４で箱状塗布ブース３０を形成し、該塗布ブース上部から吸気又は給気し、下部から排気する構成にして、上面開放箱内に被塗物搭載手段１１を設け、塗布ブースの上部より塗布器１を露出させ、被塗物１４を塗材で塗布する。 （もっと読む）

【課題】印刷品質の低下を防止できる印刷方法を提供する。
【解決手段】第１方向Ｘに配列された複数のノズル５２を有するノズル列６０Ｂ〜６０Ｅが第１方向と直交する第２方向Ｙに間隔をあけて複数配置された吐出ヘッド４９と基材とを第２方向に相対移動させて、ノズルから活性光線で硬化する液体の液滴５７を基材に吐出する吐出工程と、基材上の液滴に活性光線を照射する照射工程とを有する。吐出ヘッドの第２方向の一方側への相対移動時と、第２方向の他方側への相対移動時との間で、基材に液滴が着弾してから活性光線が照射されるまでの時間が同一となるように、複数のノズル列から液滴を吐出させるノズル列をそれぞれ選択する選択工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 部材と他の部材、例えばリブとＬＳＩとの接着において、上記セル内の現像残渣や現像液汚染等の問題が無く、且つ接着剤の部材接合部における食み出しやセル内への染み出し等がなく、更に生産性に優れ、アライメントの重ね合わせも容易となるような、部材への接着剤の塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベース基材１２表面に活性エネルギー線・熱硬化型接着剤層４を積層する工程、活性エネルギー線・熱硬化型接着剤層４に部材３を密着させる工程、ベース基材１２の当該表面側から活性エネルギー線６を照射する工程、及び活性エネルギー線・熱硬化型接着剤層７が熱硬化しない温度に加熱されたベース基材１２から部材３を剥離する工程から少なくとも成ることを特徴とする部材への接着剤の塗布方法。 （もっと読む）

【課題】複数の不良ノズルが存在する場合でも、容易に制御可能で、かつ、確実に描画可能なインクジェット記録装置およびその描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の描画方法は、不良ノズルの検出情報を取得する不良情報取得工程と、副走査における記録媒体のホーム位置からの、相対的な逆移動の移動規制量情報を取得する規制量取得工程と、取得した不良ノズルを外して、描画ラインを短くした短描画ラインを設定する短ライン設定工程と、記録媒体を相対的に逆移動させる逆移動量が、移動規制量以内である否かを判定する判定工程と、移動規制量以内であると判定された場合に、描画ラインを構成する主走査吐出データを、短縮描画ラインに合せて副走査方向に位置ずらしするように各ノズルに割り当てるデータずらし工程と、移動規制量以内であると判定された場合に、副走査改行データを変更するデータ変更工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機電子装置において有用な活性表面上に活性材料を塗布する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、活性材料および適切な液体媒体を含む液体組成物を選択するステップであって、それによって、液体組成物が所望の活性表面に堆積されるとき、液体媒体が約４０°以下の接触角を有するステップと、所望の活性材料を含む液体組成物の堆積物がそこに堆積される前、その表面張力を増大させるため活性表面を処理するステップと、これらの組合せとを含む。本発明はまた、少なくとも２つの活性層を有する有機電子装置を提供し、少なくとも１つの活性層が、本発明の方法の、少なくとも１回の実施を使用して堆積される活性材料を含む。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性、耐湿熱安定性に優れ、高導電性の導電性体、またその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と、カルボキシメチルセルロース［Ｂ］とが、［Ａ］に対する［Ｂ］の質量比（［Ｂ］の含有量／［Ａ］の含有量）が０．５〜９で含まれる、水［Ｃ］を分散媒とした分散液を、基材上に［Ａ］を１〜４０ｍｇ／ｍ^２の範囲となるよう塗布し乾燥した塗布面に、酸触媒［Ｄ］とアルコール［Ｅ］とを、［Ｅ］に対する［Ｄ］の質量比（［Ｄ］の含有量／［Ｅ］の含有量）が０．００５〜０．１である処理液を２５℃〜１００℃、５秒〜２０分の条件で接触させた後、乾燥させることを特徴とする導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材４１の表面に加熱により圧力を発生する圧力発生部材４２を積層し、その層の上に複数の射出孔４６を設けたノズルプレート４５を接着している。複数の射出孔４６には被射出材たる金属ペースト４３を装填している。そして、レーザー光照射部６０が基板Ｗに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして複数の射出孔４６のうちの一部に対応する圧力発生部材４２を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材４２の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、射出孔４６に装填された金属ペースト４３を基板Ｗに向けて射出し、基板Ｗの表面に金属ペースト４３のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ポリシラザンからなり、耐擦傷性、透明性、基材との密着性に優れるとともに、上高屈折率膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１２と、前記基材１２上に形成されたシリコン含有膜１６と、を備える積層体であって、前記シリコン含有膜１６は、珪素原子と窒素原子、または珪素原子と窒素原子と酸素原子とからなる窒素高濃度領域１８を有し、前記窒素高濃度領域は、基材１２上に形成されたと遷移金属化合物を混合した膜１４に酸素または水蒸気を実質的に含まない雰囲気下でエネルギー線照射を行い、当該膜の少なくとも一部を変性することにより形成される、積層体。 （もっと読む）

【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材４１の表面に昇華性材料として樟脳を含む圧力発生部材４２を積層し、その上に高粘度材料である金属ペースト４３を積層して積層体Ｓを形成している。その積層体Ｓと処理対象となる基板Ｗとを相対向させて配置する。そして、レーザー光照射部６０が基板Ｗに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして圧力発生部材４２の一部を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材４２の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、その直上の金属ペースト４３を基板Ｗに向けて射出し、基板Ｗの表面に金属ペースト４３のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜を基板の面内に均一に形成することができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の表面にノズルから基板の中心部に塗布膜を形成するための塗布液を供給すると共に、第１の回転速度で基板を回転させて、塗布液を基板の周縁部に遠心力によって広げ、次いで、前記塗布液の供給を続けたまま、当該基板の中心部側の液膜を周縁部側の液膜に比べて盛り上げて、液溜まりを形成するために、前記第１の回転速度よりも小さい第２の回転速度で基板を回転させた状態で塗布液の供給位置を基板の中心位置から前記偏心位置に向けて移動させ、次いで、液溜まりの厚さを大きくして、ノズルの液切れ時に当該液溜まりに垂れる液滴を馴染ませるために、基板の回転速度を前記第２の回転速度よりも小さい第３の回転速度に減速させた状態で、ノズルから前記偏心位置への塗布液の供給を停止する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の除去精度の向上、塗布膜除去時間の短縮及び溶剤の使用量の削減が図れる塗布膜除去方法及び装置を提供すること。
【解決手段】溶剤吐出部及び不活性ガス吐出部により基板表面の端部から溶剤及び不活性ガスを吐出しながら、塗布膜除去部を基板の辺縁の所定の幅に沿って基板の一端側から他端側まで移動させ（除去工程：Ｓ−１）、濃度測定部により、排出路から排出される溶剤及び溶解物の混合排液中の溶解物の濃度を検出し（濃度検出工程：Ｓ−２）、濃度測定部により検出された混合排液中の溶解物の有無を判別し（濃度判別工程：Ｓ−３）、濃度測定部による溶解物の濃度検出値に基づいて塗布膜の除去条件を変更設定する（除去条件変更工程：Ｓ−６）。溶解物の濃度判別工程において、混合排液中の上記溶解物の無が確認されるまで、塗布膜除去工程を続行し、溶解物の無が確認された後、変更設定された除去条件により、塗布膜の除去を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置は、基板（Ｗ）の周縁を保持する保持プレート（３０）と、基板を下方から支持するリフトピン（２２）を有するリフトピンプレート（２０）と、保持プレートを回転させる回転駆動部（３９）と、保持プレートおよびリフトピンプレートの貫通穴を通る処理流体供給管（４０）と、基板の下面に処理流体を吐出するノズル（６０）と、処理流体供給管、ノズルおよびリフトピンプレートを連動させて昇降させる昇降機構（４４，４６，５０，５２）を備える。ノズルは、基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列されている複数の吐出口（６１）を有する。 （もっと読む）

【課題】導電パターンを高精度に形成することのできる導電パターン形成方法および導電パターン製造装置を提供すること。
【解決手段】導電性を有するノズルプレート２６に形成されたノズル２６１から帯電性を有する液状材料１０を液滴Ｄとして吐出する液滴吐出ヘッド２と、液滴吐出ヘッド２と液状材料１０の吐出方向に対向配置された電極３１との間に、基材Ｓを配置し、ノズルプレート２６と電極３１との間に電位差を生じさせた状態でノズル２６１から液状材料１０を液滴として吐出することにより、液滴を該液滴よりも小さな複数の微小液滴に分裂した霧状にして基材Ｓに供給する第１吐出方法と、ノズルプレート２６１と電極３１との間の電位差を第１吐出方法よりも小さな状態としノズル２６１から吐出した液状材料１０の液滴を基材Ｓに供給する第２吐出方法とを選択でき、第１吐出方法によって端子を形成し、第２吐出方法によって配線を形成する。 （もっと読む）

【課題】ノズルから吐出される液滴の状態を変化させることができ、高精度に、受容物上に液状材料からなる膜を形成することのできる液滴吐出方法および液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】導電性を有するノズルプレート２６に形成されたノズル２６１から帯電性を有する液状材料１０を液滴Ｄとして吐出する液滴吐出ヘッド２と、液滴吐出ヘッド２と液状材料１０の吐出方向に対向配置された電極３１との間に、基材Ｓを配置し、ノズルプレート２６と電極３１との間に電位差を生じさせた状態でノズル２６１から液状材料１０を液滴として吐出することにより、液滴を該液滴よりも小さな複数の微小液滴に分裂した霧状にして基材Ｓに供給する第１吐出方法と、ノズルプレート２６１と電極３１との間の電位差を第１吐出方法よりも小さな状態としノズル２６１から吐出した液状材料１０の液滴を基材Ｓに供給する第２吐出方法とを選択する。 （もっと読む）

【課題】スピン塗布法により塗布液が塗布される塗布面の裏面がその塗布液により汚染されることをより確実に防止すること。
【解決手段】ウェハチャック２と回転装置３とノズル８と裏面保護円盤２１とを備えている。回転装置３は、ウェハチャック２に保持されているウェハ７を回転させる。ノズル８は、ウェハ７の塗布面１０に塗布液を供給する。裏面保護円盤２１は、裏面保護円盤２１のウェハ対向面２２とウェハ７の塗布面１０の裏側のウェハ裏面２３とに挟まれた隙間２４に気体２０が流れるように、ウェハチャック２に固定されている。このようなスピン塗布装置１は、気体２０を用いてその塗布液が隙間２４に侵入することを防止することにより、ウェハ７のウェハ裏面２３がその塗布液により汚染されることをより確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】より被塗布材表面の汚染を防止などした塗布物被塗布材の製造方法および製造装置の提供をする。
【解決手段】塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物被塗布材の製造方法は、第一の表面マスクを被塗布材表面に覆い、前記被塗布材表面へ塗布後、前記被塗布材表面の前記第一の表面マスクを外し、第二の表面マスクを覆うことで塗布してなる塗布物被塗布材の製造方法および製造装置である。 （もっと読む）

【課題】支持基材上に基材を仮固定して基材を加工する際に、これら支持基材と基材との間に仮固定剤を用いて均一な膜厚の薄膜を形成して精度に優れた基材の加工を行い得る基材の加工方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基材の加工方法は、仮固定剤を基材および支持基材のうちの少なくとも一方にスピンコート法を用いて供給したのち乾燥させて薄膜を形成する第１の工程と、薄膜を介して、基材と支持基材とを貼り合わせる第２の工程と、基材の支持基材と反対側の面を加工する第３の工程と、薄膜を加熱して樹脂成分を熱分解させることで、基材を支持基材から脱離させる第４の工程とを有し、第１の工程において、仮固定剤の粘度（２５℃）を３０００〜３００００ｍＰａ・ｓとし、かつ仮固定剤を供給する基材および／または支持基材の回転数を４００〜４０００ｒｐｍとすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】クロストークを防止し、インクを安定して吐出して、所望の描画パターンを精度良く形成することが可能なインクジェット描画方法を提供すること。
【解決手段】本発明のインクジェット描画方法は、複数の振動板と、当該振動板に対応する位置に設けられた複数の液滴吐出ノズルとを有する液滴吐出ヘッドを備えたインクジェット装置を用いてインクを吐出して描画するインクジェット描画方法であって、描画する際に、前記複数の液滴吐出ノズルのうち、前記インクを吐出する液滴吐出ノズルに対応する振動板にインクを吐出する振動を印加するとともに、前記複数の液滴吐出ノズルのうち、前記インクを吐出しない液滴吐出ノズルに対応する振動板にインクの吐出が生じない振動を印加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スピンコーティング法において基板上に形成される塗布膜の膜厚について高い面内均一性が得られる技術を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハＷの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。そこで、予めＬＥＤ４１の照射を含まない処理レシピを用いてウエハＷにレジスト塗布処理を行い、このウエハＷの面内の膜厚分布を求める。このようにして、ウエハＷの面内の膜厚分布における凹部８を事前に把握しておき、その上で、この膜厚分布における凹部８の位置にＬＥＤ４１を照射してウエハＷ上の当該部位を局所的に加熱する。 （もっと読む）