【課題】スピンコーティング法において基板上に形成される塗布膜の膜厚について高い面内均一性が得られる技術を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハＷの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。そこで、予めＬＥＤ４１の照射を含まない処理レシピを用いてウエハＷにレジスト塗布処理を行い、このウエハＷの面内の膜厚分布を求める。このようにして、ウエハＷの面内の膜厚分布における凹部８を事前に把握しておき、その上で、この膜厚分布における凹部８の位置にＬＥＤ４１を照射してウエハＷ上の当該部位を局所的に加熱する。 （もっと読む）

【課題】ブロック状凸部の凸面と傾斜面との境界を目立たないようにすることができる塗装建築板を提供する。
【解決手段】周囲に傾斜面１を有するブロック状凸部２を表面に複数設けて形成された建築板３に印刷データ４に基づいてインクジェット印刷して形成された塗装建築板に関する。前記印刷データ４上において前記ブロック状凸部２の凸面５に比べて前記傾斜面１の明度及び輝度が小さい。 （もっと読む）

【課題】建築物等において、大理石等の天然石材に類似した模様が形成できる、簡便な塗装方法を提供する。
【解決手段】基材に対し、（１）着色塗料を筋状に塗付して、筋状模様面を形成する工程、（２）当該筋状模様面に対し、少なくとも１種以上の透明着色塗料を粒状に塗付する工程、を行う。基材に対し、少なくとも１種以上の着色粒状物が散在した下塗面を形成した後、前記工程（１）及び工程（２）を行うこともできる。 （もっと読む）

【課題】建築物等において、大理石等の天然石材に類似した模様が形成できる、簡便な塗装方法を提供する。
【解決手段】 基材に対し、（１）少なくとも１種以上の着色塗料を粒状に塗付して、着色粒状物が散在した下塗面を形成する工程、（２）当該下塗面に対し、透明着色塗料を筋状に塗付して、筋状模様面を形成する工程、を行う。 （もっと読む）

【課題】塗布処理装置により基板に対して塗布処理を行うにあたり、塗布液を供給するノズルの位置調整を作業員の熟練度によらず正確で且つ迅速に行う。
【解決手段】ウェハに塗布液を供給する塗布液ノズル３３の位置調整を行う方法であって、塗布液ノズル３３を、ウェハが保持されていない状態のスピンチャック２０の中心部の上方に移動させ、その後、スピンチャック２０の中心部に対応する吸引口２０ａ及び塗布液ノズル３３の先端部をＣＣＤカメラ５０、５１により撮像し、撮像された画像において、塗布液ノズル３３の先端部の中心の水平方向の位置とスピンチャック２０の中心部である吸引口２０ａの水平方向の位置とが一致するように塗布液ノズル３３の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】従来のペーストの供給方法では困難であった高アスペクト比のペーストを基板の電極上に供給することができるペースト供給装置及びペースト供給方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板２の電極３に対応して配置された開口部１４ａを有するブロック状のマスク１４を下端に備えてマスク１４の開口部１４ａからペースト４を圧出するヘッド部１３を有し、マスク１４の開口部１４ａと基板保持部１２に保持された基板２の電極３とが上下方向に合致するように基板２とヘッド部１３とを相対移動させて基板２とヘッド部１３との位置合わせを行った後、マスク１４の開口部１４ａのＭｔよりも高さの高いペースト４（ペースト柱４ａ）が電極３上に供給されるように、ヘッド部１３からマスク１４の開口部１４ａを介してペースト４を押し出させつつ基板２とヘッド部１３とを上下に離間させる。 （もっと読む）

【課題】塗布後のレベリング性に優れ、かつ塗膜のにじみやダレ、及び乾燥及び焼成時における塗膜のダレなどが生じにくく、膜厚が均一でしかも寸法精度の高い焼成膜及び焼成膜の製造方法の提供。
【解決手段】少なくともポリジメチルシロキサンを含むポリジメチルシロキサン組成物を含有し、２５℃での粘度が１０Ｐａ・ｓ〜２００Ｐａ・ｓの塗布液を、基板上にスクリーン印刷して平均厚みが１００μｍ以上の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を焼成する焼成工程とを含む焼成膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】加圧を始めてから液体が供給口から押出されるまでの時間遅れを防止して設定量の液体を正確に塗布でき、耐久性の向上を図ることができる流体供給装置及び液体供給方法を提供する。
【解決手段】液体Ｌの供給口５１が設けられたシリンジ１を備え、シリンジ内に空気圧回路２を介してエアを供給することにより液体Ｌを供給口５１から押出す液体供給装置である。空気圧回路２は、シリンジ１に設定圧のエアを供給する第１エア供給部５と、設定圧のエアよりも高圧のエアを供給する第２エア供給部６とを備える。シリンジ１に所定の設定圧のエアを負荷する通常供給状態と、シリンジ１に前記設定圧よりも高圧エアを負荷する高圧供給状態との切換を行う切換手段４を備え、初期段階において第２エア供給部６による高圧供給状態として、設定圧に達した際に、第１エア供給部５による通常供給状態に切換える。 （もっと読む）

【課題】線パターンの膜厚を幅方向に所望の一定厚に均一化し得る液体描画方法を提供する。
【解決手段】直線状に並んだ複数のノズルを有するインクジェットヘッドを用いて等間隔の線パターン１を描画する。線パターン１の幅方向のエッジ部３や中央部４について、その領域に塗布するノズルを選択し、線パターン１の膜厚が幅方向に一定化するように塗布量を調整して描画する。 （もっと読む）

【課題】自動溶射装置及びその方法において、高精度な溶射作業を可能として処理コストの増加を抑制可能とする。
【解決手段】動翼２４の表面に溶射材を溶射する溶射装置５１と、動翼２４の表面形状を３次元測定可能な３次元測定器５２と、３次元測定器５２が測定した動翼２４の表面形状に基づいて溶射装置５１を作動して動翼２４の表面にセラミック遮熱コーティング層を形成する制御装置５３と、溶射後に動翼２４の表面に形成されたセラミック遮熱コーティング層の膜厚を検出する膜厚検出装置５４と、膜厚検出装置５４が検出したセラミック遮熱コーティング層の膜厚が予め設定された所定膜厚範囲内にあるかどうかを判定する膜厚判定装置５５とを設ける。 （もっと読む）

【課題】貯蔵安定性が良く、微小液滴を安定噴射でき、ハジキやにじみがなく、色発現に優れたコーティング組成物を提供すること。
【解決手段】粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下、表面張力が２１〜３４ｍＮ／ｍのコーティング組成物において、
顔料分散体がＰＣ基含有ポリウレタン樹脂を含み、かつｄ５０が３０〜３００ｎｍであり、
樹脂成分としてｄ５０が３０〜１３０ｎｍのアクリル系ディスパージョンもしくはエマルションを含み、かつ樹脂成分の固形分がコーティング組成物中１〜２０重量％であり、
有機溶剤がコーティング組成物中５〜４０重量％で、有機溶剤として式（１）で示される化合物を１種類以上、
Ｒ_１Ｏ−（ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ_２）−Ｏ）_ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒ_１はＣ１〜６のアルキル基、フェニル基又はベンジル基、Ｒ_２はＨ又はＣＨ_３、ｎは１〜３の整数）
又は複素環化合物を１種類以上、あるいは両方の化合物を含むコーティング組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を実現し、ＰＤＰ製造のトータル的低コスト化が可能な白黒二層構造のバス電極パターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る白黒二層構造のバス電極パターン形成方法は、基材上に、耐熱顔料を含む塗膜を形成する工程と、上記塗膜の上に、導電性粉末を含む塗膜を形成し、二層塗膜を得る工程と、上記二層塗膜に対し、レーザー照射によりパターンを描画するレーザー照射工程と、上記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善する。
【解決手段】塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、基板に塗布液を吐出する吐出部と、前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、速度変更部とを備える。そして、前記速度変更部は、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して相対移動するノズルからパターン形成材料を含む塗布液を塗布して、基板上に所定のパターンを形成するパターン形成技術において、パターン幅および端部位置の安定したパターンを形成する。
【解決手段】基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置Ｘ1よりも内側の位置Ｘ0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値Ｇ0にして塗布液の吐出を開始する。その後、ノズルを基板から離間させながら基板外側に向けて移動させ、パターン始端位置Ｘ1で移動方向を反転させる。終端近傍においても、塗布液の吐出量を低下させながらノズルを基板に近接させてゆき、パターン終端位置Ｘ3においてノズルを離間させるとともに移動方向を反転させる。 （もっと読む）

【課題】パターン形成材料を含む塗布液を基板表面に塗布するにあたって、塗布液の端を正確に規定することを可能とする。
【解決手段】先端ＥＤを塗布範囲Ｒpに向けた状態において、塗布範囲Ｒp側に向けてマスク辺部ＳＤの先端ＥＤにまで下るスロープＳＬを有しており、マスク辺部ＳＤと基板Ｗ表面の段差が小さく抑えられている。そのため、塗布液と基板Ｗ表面の間に隙間が生じたとしても、その隙間は小さいものに抑えることができる。よって、基板Ｗ表面からマスクＭＫ（マスク辺部ＳＤ）を取り外した際の塗布液の切断位置を安定させて、基板Ｗ表面における塗布液の端の位置を正確に規定することが可能になっている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、塗装時の塗り残し、ムラ、ハジキ等を防止する水性被覆液の塗装方法に関するものである。
【解決手段】
第１族元素、第２族元素、遷移元素から選ばれる１種以上の金属元素を含む基材の上に、有機質樹脂（Ａ）、水性媒体（Ｂ）、退色性色素（Ｃ）を含み、前記退色性色素（Ｃ）の濃度が０．０１〜１００ｍｇ／Ｌである水性被覆液を塗装することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 塗布液微粒子の再付着を防止し塗布される膜厚を比較的簡単な構造で効果的に均一化することが可能な比較的小型なスピンコータを廉価に実現する。
【構成】 被塗布材である基板３を水平に保持して回転する回転テーブル１と、この回転テーブル１の周囲を覆うように構成され、基板３から飛散する塗布液を受け止めるカップ６とを備え、基板３の表面上に滴下される塗布液を基板３の表面上に遠心力で拡散させて塗布するスピンコータにおいて、カップ６の底部中心の開口部に接続されて排気を誘導する排気誘導ボックス７を設け、この排気誘導ボックス７を介してカップ６の内部の排気を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造することができるブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法の提供。
【解決手段】基板１上に芳香族環含有モノマー由来の構成単位を有する樹脂成分を含有する下地剤を塗布し、該下地剤からなる層２を形成する工程（１）と、複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層３を前記下地剤２からなる層表面に形成した後、前記ブロックコポリマーを含む層３を相分離する工程（２）と、前記ブロックコポリマーを含む層３のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相３ａを選択的に除去する工程（３）と、を有することを特徴とするブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物上に形成された塗布膜の膜厚の均一性の低下を抑制できる成膜装置、成膜方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、塗布対象物を載せるステージと、塗布対象物の表面の法線方向を回転軸としてステージを回転する回転機構と、塗布対象物の表面に塗布材料を供給する塗布ノズルと、ステージ上における塗布ノズルの位置を塗布対象物の表面に沿って移動させる塗布移動機構と、回転機構と塗布移動機構を制御して、ステージを回転させると共にステージの回転中心部と外縁部間で塗布ノズルの位置を移動させながら、塗布ノズルを制御して塗布対象物の表面に塗布材料を塗布させる制御部と、塗布対象物上に塗布材料を塗布して形成された塗布膜の表面に照射する音波を発生する音波発生装置とを備え、音波を塗布膜の表面に照射する。 （もっと読む）

【課題】横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐこと。
【解決手段】横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を抑えることができる。 （もっと読む）