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Fターム[4D075DB14]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 被塗体の材料 (19,592) | 無機物 (3,671) | 陶磁器、素焼、セラミック (964)

Fターム[4D075DB14]に分類される特許

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【課題】基材の表面に塗装層が形成された建材において、塗装層に劣化が生じていることを好適に確認する。
【解決手段】外壁材10は、基材11と、基材11の表面に形成された塗装層12とを備えている。基材11の表面には、円錐状に形成された頭部21と、頭部21の底面から延びる軸部22とを有する劣化マーカ20が、軸部22が基材11に打ち込まれることにより取り付けられている。この取付状態において、頭部21は基材11の表面から突出しており、その突出高さが塗装層12の膜厚よりも小さくなっている。そして、頭部21が設けられている部位の塗装層12の膜厚が、他の部位における膜厚よりも小さくなっている。これにより、塗装層12の経年劣化等により塗装層12の膜厚が小さくなった場合には、基材11の表面が露出するよりも先に頭部21が露出する。 (もっと読む)


【課題】金属塗工層の剥離が抑制され、かつ、優れた意匠性を有する塗工物の製造方法、及び塗工物を提供する。
【解決手段】本発明は、[A]重合体を含有する定着層形成用組成物により基材上に定着層を形成する定着層形成工程と、[B]金属ナノ粒子を含有する金属塗工層形成用組成物を上記定着層上に塗工し、金属塗工層を形成する金属塗工層形成工程とを有する塗工物の製造方法である。また、上記重合体は、漆、ポリウレタン樹脂、スチレンブタジエンゴム、及びアクリロニトリルブタジエンゴムからなる群より選択される1種又は2種以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】双方向印刷を行う液体吐出装置において、ヘッドのサイズ及び構成部品点数を増やさずに、印刷媒体上の液体重なり順に起因する濃淡ムラを抑制する。
【解決手段】インクの階調率分布が異なる2種類の間引き用マスクパターンを準備し、双方向印刷中、ヘッドユニットの往路及び復路において、インクごとに設けられた記録ヘッド122のノズル列からのインクの吐出回数を、インクの濃淡に応じて異なるマスクパターンを用いて制御する。


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【課題】屋外に曝露された際、大気中の塵芥や油性物質の吸着による塗膜表面の汚染が少なく、特に塗膜形成直後からの汚染を防止し、降雨後の雨筋跡が残り難い耐汚染性が長期的に維持可能な塗膜及び該塗膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】(A)水性樹脂分散体、
(B)アミド基、アミノ基、ヒドロキシル基又はオキシアルキレン基より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する両親媒性ポリマーを有する水性樹脂組成物及び
(C)水分散コロイダルシリカ
を含む塗料被覆組成物を塗布し、乾燥及び硬化させることを特徴とする塗膜、該塗膜の製造方法及び該塗膜を有する塗装物。 (もっと読む)


【課題】太陽電池パネル・電子パネル等の複層板製品Aにおいて、要部である電子プレートの収納エリヤ(合わせ面)への湿気浸入を確実に阻止すること。および電子プレートの収納エリヤ(合わせ面)の湿気浸入阻止対策としてのシール構造を、複層平板製品の周辺部にシール剤を塗布することの単一作業として製造作業の効率化でコスト低減をはかることを課題とする。
【解決手段】下板B2の周辺部に、ホットメルト接着剤を、環状(ループ状)に塗布してなる環状シール剤層Mを設けて、電子プレートCを上板B1と下板B2との間に密封状態として、上板B1と下板B2とを環状シール剤層Mを介して固定一体化する。環状シール剤層Mのシール剤層として、ゴム系ホットメルト接着剤(ホットブチル)を使用する。 (もっと読む)


【課題】この発明は基板に溶液を所定のパターンで塗布したときに、そのパターンの周辺部の膜厚が他の部分よりも厚くなるのを防止する塗布装置を提供することにある。
【解決手段】基板に溶液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、
溶液を基板に噴射する複数のノズル14を有するヘッド7と、基板がヘッドの下方を所定方向に沿って通過するようこれら基板とヘッドを相対的に移動させるテーブル3と、ノズルから基板の幅方向の端部に噴射塗布される溶液の量が、端部よりも幅方向の内方に噴射される量の方が多くなるよう制御する制御装置100とを具備する。 (もっと読む)


【課題】基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。

【解決手段】基板の回転により基板上の液を振り切るときには、外カップの下縁部をベース部の上方の第1の高さ位置に位置させ、装置が待機状態にあるときには前記外カップの下縁部の下方側から外部の気体を排気空間に流入させるために当該下縁部を第1の高さ位置よりも高い第2の高さ位置に位置させる昇降部と、前記処理液を案内するために、前記外カップの下縁部から内側に下向きに傾斜しながら伸び出す傾斜面部とを備えるように液処理装置を構成する。スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 (もっと読む)


【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の(A)工程乃至(E)工程を含む光導波路の製造方法:(A)工程:ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、(B)工程:配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、(C)工程:前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、(D)工程:放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び(E)工程:クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 (もっと読む)


【課題】断線、ショート等の発生を防止し、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法等を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターンの形成方法は、ノズル検査工程、描画データ作成工程、導体パターン前駆体形成工程、焼成工程を有し、前記描画データ作成工程は、ビットマップデータ作成工程、仮描画データ作成工程、仮描画データを補正して描画データを得る描画データ補正工程を有し、ビットマップ8のピクセル81のピッチは、導体パターン形成用インクの液滴の基材への着弾後の直径の1/2以下(但し、0は含まない)であり、前記描画データ補正工程では、前記描画データとして、前記ノズル検査工程で特定された不良ノズルの使用を禁止することを示す情報を付加し、前記導体パターン前駆体形成工程では、前記描画データに基づいて、前記不良ノズルを使用せずに主走査を行う。 (もっと読む)


【課題】スロット塗布による塗膜形成において、ダイと基材との間隙の許容範囲を大きく取ることができる塗膜形成方法、および塗膜積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】直径D(mm)のロール上にシート状の基材を配置し、ロールを回転させ、ロールに追随して回転する基材表面にダイから塗布液を供給して塗膜を形成する方法であって、ダイは、基材との間に塗布液を保持可能な面である上流側リップ面と、上流側リップ面よりも回転の方向下流側に配置され、基材との間に塗布液を保持可能な面である下流側リップ面と、を有し、上流側リップ面と下流側リップ面との間には塗布液が吐出する間隔が形成されており、上流側リップ面の、ロール回転方向の長さが2.0(mm)以上、0.02D(mm)以下であるものとする。 (もっと読む)


【課題】クラック、断線等の発生を防止し、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法等を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターンの形成方法は、液滴吐出法により基材上にインクの液滴を吐出し、乾燥して基材上にパッド部とパッド部に接続する配線部とを有する導体パターンの前駆体を形成する導体パターン前駆体形成工程と、焼成工程とを有し、パッド部形成領域は、配線部形成領域の延長線上に位置する第1の領域と、第1の領域を介して第1の領域の両側に位置する第2の領域と、各第2の領域の第1の領域と反対側の側部に位置する第3の領域とを有し、導体パターン前駆体形成工程では、パッド部形成領域内に、インクの液滴を付着させる付着点の密度が、第1の領域および第3の領域のいずれよりも第2の領域の方が低くなるようにインクの液滴を吐出する。 (もっと読む)


【課題】パターンニングされたコロイド結晶膜を効率よく製造するコロイド結晶膜製造方法を提供する。
【解決手段】モノマー及びポリマーからなる分散媒成分と、平均粒径が0.01〜10μmの範囲で且つ[単分散度(単位:%)]=([粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100で表される単分散度20%以下のコロイド粒子を含有し且つコロイド粒子が反射ピークを有する分散液を準備する工程、コロイド分散液が0°から40°の範囲の接触角の基材を準備する工程、基材表面の一部の領域のコロイド分散液に対し接触角を0°から40°の範囲に表面処理を施し、表面処理後の前記一部の領域の接触角との差が4°以上となる領域にする工程、表面処理後コロイド分散液を塗布する工程、塗膜中の成分を重合させてコロイド結晶を固定化し、異なる接触角を有する領域の凹凸が形成されたコロイド結晶膜を得る工程、を含むコロイド結晶膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】塗布液の省量化及び装置の小型化を図り、基板である半導体ウエハW上の塗布膜の膜厚について高い均一性を得ること。
【解決手段】ウエハWを基板保持部であるスピンチャック2に略水平に保持させ、塗布ノズル4の吐出口41を、前記ウエハWに対して近接させた状態で相対的に移動させながら、前記吐出口41から毛細管現象により塗布液を引き出してウエハWに塗布する。毛細管現象を利用して塗布液を塗布しているので、塗布液の省量化及び装置の小型化を図ることができる。この後ウエハW上の塗布液がウエハWから飛散しない回転数で当該ウエハWを回転させることにより、ウエハW上の塗布膜の膜厚の面内均一性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】液滴吐出法により吐出する液滴の着弾精度を飛躍的に向上させ、微細でかつ精度の高いパターンを基板上に直接形成することを可能にする。もって、基板の大型化に対応できる配線、導電層及び表示装置の作製方法を提供することを課題とする。また、スループットや材料の利用効率を向上させた配線、導電層及び表示装置の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】液滴吐出法による液滴の吐出直前に、所望のパターンに従い基板表面上の液滴着弾位置に荷電ビームを走査し、そのすぐ後に該荷電ビームと逆符号の電荷を液滴に帯電させて吐出することによって、液滴の着弾位置の制御性を格段に向上させる。 (もっと読む)


【課題】銅フリの発生が少ない、金属銅膜の製造方法及び金属銅パターンを提供する。
【解決手段】金属銅膜となる層として銅酸化物粒子堆積層を基板表面に形成する工程と、0.1g/L以上の高濃度のガス状のギ酸を含むガス雰囲気中で前記銅酸化物粒子堆積層を140℃以上で加熱処理する工程とを有する金属銅膜の製造方法であって、前記加熱処理工程の前に、ギ酸ガスを含まないガス雰囲気中で前記銅酸化物粒子堆積層を140℃以上で予備加熱する工程、及び/又は、0.02g/L以下の低濃度のガス状のギ酸を含むガス雰囲気中で前記銅酸化物粒子堆積層を140℃以上で予備加熱する工程を行う、金属銅膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】断線、ショート等の発生を防止し、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法等を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターンの形成方法は、ノズル検査工程、描画データ作成工程、導体パターン前駆体形成工程、焼成工程を有し、前記描画データ作成工程は、ビットマップデータ作成工程、仮描画データ作成工程、仮描画データを補正して描画データを得る描画データ補正工程を有し、前記描画データ補正工程では、前記描画データとして、前記ノズル検査工程で特定された不良ノズルの使用を禁止することを示す情報を付加すると共に、正常ノズルが補完対象ピクセルと同じ主走査方向のライン上に位置するときの主走査の際、前記補完対象ピクセルに対し、正常ノズルから導体パターン形成用インクの液滴を吐出することを示す情報を付加する。 (もっと読む)


本発明は、基体をコーティングする新規なアセンブリに関する。液体コーティング媒体によって担体を完全にまたは部分的にコーティングする装置であって、前記担体が各々、円筒軸、2つの端面、周面および軸方向長さLを有し、多数の流路が前記第1端面から前記第2端面まで横切り、前記担体が、その前記円筒軸を垂直に位置合わせし、前記コーティング媒体を前記担体の前記端面の少なくとも一方から前記流路内に導入することによって、所望の量の前記コーティング媒体でコーティングされ、前記担体がコーティング装置に配置され、前記コーティング装置の液体収容部が、弁によって上昇管に接続され、前記弁が、前記上昇管において前記担体におけるものと同じ圧力状態を、したがって実質的に同じ液体の上昇を確実にし、したがって前記上昇管が、前記担体内の前記コーティング媒体の充填レベル(FH)を監視するのを可能にすることを特徴とする装置。
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【課題】環境への負荷の少ない、エネルギー消費の少ない製造工程で得られる安全で有効な抗菌材を提供する。
【解決手段】、シュウ酸銀、アルキルアミン、アルキルジアミンとを反応させることにより、銀、アルキルアミン、アルキルジアミン、およびシュウ酸イオンを含む錯化合物を調製し、極性溶剤を含む有機溶剤に良好に分散し、この分散液を用いて各種材料に銀超微粒子を塗布および/または含浸し、120℃以下で銀超微粒子同士が低温焼結することにより簡単に環境への負荷の少ない、エネルギー消費の少ない製造工程で得られる安全で有効な銀超微粒子被着抗菌材を得ることができた。 (もっと読む)


パルスレーザ溶発に基づいて太陽光吸収化合物材料のナノ粒子をつくる方法が開示されている。この方法は、太陽光吸収化合物材料のターゲット材料を、10フェムト秒〜500ピコ秒のパルス幅のパルスレーザビームで照射して、ターゲットを溶発し、ターゲットのナノ粒子をつくる。ナノ粒子を集めて、ナノ粒子溶液を基板に塗布して、薄膜太陽電池をつくる。この方法は、出発ターゲットの組成と構造的な結晶相とを保持する。この方法は、薄膜太陽電池を非常に廉価に製造する方法になる。
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【課題】多層膜形成時間の短縮と、膜厚の制御、及びプロセスの簡略化を可能とする、自己組織化多層膜の形成方法を提供する。
【解決手段】表面に金属酸化物からなる層を有する基板を、自己組織化膜形成用化合物の溶液中に浸漬することにより、該基板上に自己組織化多層膜を形成する方法において、自己組織化膜形成用化合物として、分子の両端にホスホン酸基又はカルボン酸基を持つ有機化合物を用いるとともに、該化合物の溶液のpHを制御することにより、自己組織化多層膜を短時間に形成することができる。 (もっと読む)


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