【課題】一連の基板に塗布処理を行う際のタクトタイムを短縮する。
【解決手段】ステージ３に支持された基板９０について、スリットノズル４１で走査を行いつつ、レジスト液の塗布を行う。基板塗布装置１には、このような塗布のための走査を、第１走査方向（＋Ｘ）と第２走査方向（−Ｘ）とのいずれについても実行可能に構成された制御手段が設けられている。スリットノズル４１のリップ部は、２つの走査方向に関して鏡面対称な形状とされ、リップ部の下端高さも２つの走査方向の側で同一とされることにより、２つの方向のいずれの走査においても塗布性能が同等となる。往復走査によって一連の基板を順次に処理可能であるため、１回の走査が完了する都度、ひとつの待機位置にスリットノズル４１を戻すための空走期間がなく、往復用に個別のノズルを備える装置のような構成の複雑さを回避しつつタクトタイムを短縮できる。 （もっと読む）

【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に複数回塗布し前記基板上に複数の液状体層を積層する塗布ステップと、前記塗布ステップによって前記液状体の塗布される塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整ステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、塗工用ダイヘッドの先端傾斜側面に付着した塗工液を短時間で洗浄可能であり、ランニングコストの安価な塗工用ダイヘッドの洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】スリットから塗工液を吐出して塗工を行う塗工用ダイヘッドの先端傾斜側面に付着した塗工液を除去するための塗工用ダイヘッドの洗浄装置において、洗浄液を保持可能な洗浄ロールと、該洗浄ロールに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記洗浄ロールと前記塗工用ダイヘッドの前記先端傾斜側面が当接するように前記洗浄ロールと塗工用ダイヘッドを相対的に移動させる移動機構とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マニホールドの長さ方向全体にわたり塗工液中に空気が残るのを防止して、より高精度の均一塗工が可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１のダイヘッド２は、ダイヘッド本体５と、ダイヘッド本体の内部に水平方向に延びるように形成され、塗工液Ｅを収容するマニホールド６と、マニホールドが延びる延在方向Ｃの中間部に設けられ、塗工液が供給される供給口７と、マニホールドの下方に形成されて上端側がマニホールドに連通し、下端側がダイヘッドの底面に形成された吐出口１３に連通するスリット８と、第一の端部がマニホールドの延在方向のそれぞれの端部に連通し、第二の端部が開放された空気抜き管９、１０とを有し、各空気抜き管の内径がそれぞれ０．４ｍｍ以上８．０ｍｍ以下であり、各空気抜き管の第二の端部はその第一の端部より鉛直方向下方に０．２ｍ以上２．０ｍ以下の位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】塗布液の粘度が高い場合であっても流量調整を的確に行なって膜厚の均一化を図ることのできる塗布工具を提供する。
【解決手段】一対のヘッド部材１０，２０から構成された塗布ヘッド１を有し、ヘッド部材１０，２０における互いに対向する一対の内側面１１，２１同士の間にスロット３が画成され、塗布液がスロット３内を流通して塗布ヘッド１の先端から吐出される塗布工具において、一方の内側面１１側に突出する側に向かって他方の内側面２１の一部を弾性変形させて膨らませ、又は、一方の内側面１１から後退する側に他方の内側面２１の一部を弾性変形させて凹ませて、スロット３内の塗布液の流量を調整する内部流量調整機構６０を設ける。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルからインクを吐出させて基板上に被膜形成を行う塗布装置において、均一でかつ安定な塗布膜を実現することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するため、本発明の塗布装置は、スリットノズル先端に接触させるブレードと、ブレードを保持するホルダーと、ホルダーを被塗布基板上の塗布領域全域を可動な走行機構とを有し、走行機構によって、ブレードがスリットノズル先端に接触した状態で、可動することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方が閾値を超えたときに前記液状体を前記チャンバ内雰囲気から隔離させる隔離機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明はスリットノズルを有するガントリー型の塗布装置において、均一でかつ安定な塗布膜を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明の塗布装置は、被塗布基板に塗布インクを塗布するスリットノズルと、塗布インクを充填するタンクと、スリットノズルに塗布インクを送るチューブフラムポンプとを有した塗布装置であって、チューブフラムポンプはタンクおよびスリットノズルと、塗布インクを配送する配管によって接続され、チューブフラムポンプにおいて、タンクからインクが注入される注入口と、スリットノズルへインクを排出する排出口とを結ぶ方向が、水平方向に対して角度を有するように、チューブフラムポンプを回転させる機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】防湿剤を広範囲に効率的に塗布することと、塗布禁止領域への防湿剤の侵入を防止することとを両立できる基板塗布装置を提供する。
【解決手段】防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器１７と接続され、その防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器１８と接続され、その防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部１９と、吐出部１９と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部１９と基板とを相対的に回転させる移動部２０と、吐出部１９及び移動部２０を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部２１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウェブ状の基材に塗工液を塗工する塗工装置において、ウェブ状の基材上に精度良く塗工液を塗工することができる塗工装置を提供する。
【解決手段】塗工装置２０は、搬送されているウェブ状の基材１に塗工液７を塗工する。塗工装置は、基材を搬送する搬送手段３０と、搬送手段によって搬送される基材の搬送経路沿いに配置された吐出ヘッド４０と、搬送手段による基材の搬送方向に沿って移動可能に前記吐出ヘッドを支持する移動支持手段５０と、を有する。移動支持手段５０は、搬送手段によって搬送される基材と同期して吐出ヘッドを移動させ得る。 （もっと読む）

【課題】 被塗物に塗布するペーストの厚みを、被塗物の幅方向に均一にすることができる塗工機を提供する。
【解決手段】 長手方向ＤＬに搬送される帯状の被塗物１０にペースト１１を塗布する塗工機１は、幅方向ＤＷに延びるノズル３１Ｎからペーストを吐出させるリップ部３１を有するスロットダイ３０と、これを載置する載置部材４０と、スロットダイの幅方向ＤＷの傾きを調整する傾き調整機構５０，６０と、載置部材とスロットダイとの間ＪＫが小さくなる方向に付勢しつつ、両者を弾性的に連結する弾性連結手段７１，７２と、を備え、傾き調整機構５０，６０は、ノズルの幅方向の中心に対し両側に位置し、偏心カム５１の回動により、載置部材に対するスロットダイのなす角の大きさＫ１，Ｋ２を変更可能に構成されてなる。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、筒状包装体（シュリンクラベル）の糊代部の外側へ接着剤がはみ出さないようにするとともに、糊代部全体が確実に接着されるようにすることを課題とするものである。
【解決手段】上下に対面するフィルムＦの幅方向の両端縁を所定幅重ね合わせて封筒状に接着するフィルムの接着において、重ね合わされた上側のフィルムＦａの糊代部と下側のフィルムＦｂの糊代部の間へ配置されて上側のフィルムＦａのガイドとなる傾斜面２が形成され、その傾斜面２よりも低い位置に上側のフィルムの糊代部に向けて接着剤の吐出口４が上向きに設けらた接着剤塗布ノズル１を配置し、上側のフィルムＦａを傾斜面２に密接させることにより傾斜させ、その糊代部に向けて接着剤を吹き付けて塗布する。
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【課題】基板の端面及び端面に隣接する基板の面に液体を吐出するためのスロット部が形成された塗工ノズルを提供する。
【解決手段】液体供給弁から供給される液体を受け入れる入口開口と、液体を吐出する出口開口とを有するノズル本体１１と、ノズル本体に隣接して配置され、出口開口から吐出される液体を分配する溝穴を有する分配板１２と、分配板に隣接して配置され、分配板の溝穴と連通する切り取り部が設けられたシム板１３と、シム板に隣接して配置され、シム板の切り取り部を覆う遮蔽板１４とを有する塗工ノズル１０において、基板の端面及び端面に隣接する基板の面に液体を吐出するためのスロット部は、分配板と遮蔽板との間でシム板の切り取り部により形成されている。 （もっと読む）

【課題】ウエハ搬送機構やノズル移動機構等の各移動機構に対して、夫々の適切な時期に自動給脂を行うことができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】制御部８は、移動基体１１に対して給脂を行った後における当該移動基体１１の使用時間を計測し、移動基体１１のガイドレール１０の端部に、給脂機構３ａを設け、以下のタイミングで移動基体１１を給脂機構３ａ側に移動させて給脂を行う。即ち、移動基体１１の使用時間が予め定めた給脂の周期を越えたときに、移動基体１１が準備期間中、または、休止期間中であれば自動給脂を行う。またキャリアＣから一のロットの最終基板が払い出されたときにもキャリアＣから次のロットの先頭基板の払い出しを遅らせ、前記最終基板に関する当該移動基体１１の作業が終了した後、移動基体１１に対して給脂を行う。 （もっと読む）

【課題】ロールに巻掛されたウエブに対して、塗工液の膜厚がロールの長手方向（幅方向）に沿って均一となるよう塗工液を塗布することができ、また製造コストやメンテナンスコストを低減することができる塗工装置および塗工方法を提供する。
【解決手段】塗工装置は、塗工部と、ロール５０の長手方向に沿って設けられた複数の加熱部１０ａ〜１０ｉと、ロール５０の長手方向に沿って設けられ、ウエブに塗布された塗工液の膜厚等を検出する複数の検出部、を備えている。各々の加熱部１０ａ〜１０ｉは、その全体または少なくとも一部分がロール５０の回転方向および長手方向に対して斜めに延びるよう配置されている。制御部３０は、各検出部による検出結果に基づいて、各加熱部１０ａ〜１０ｉにおけるロール５０に対する加熱の度合いを加熱部１０ａ〜１０ｉ毎に制御する制御部３０を備える。 （もっと読む）

基材およびそれに塗布された材料を有する物品の製造方法が、供給すべき流体の供給源、少なくとも１つの供給ノズルを有する出力装置、供給源から少なくとも１つの供給ノズル（１８８）まで流体を圧送するための少なくとも２つのポンプ（１０４、１０６）を含む計量された流体の供給システムを準備することを含む。ポンプ（１０４、１０６）は供給ノズル（１８８）の近接に配置されている。出力供給通路によってポンプ（１０４、１０６）と供給ノズル（１８８）とが相互に連通され、流量制御装置がポンプ（１０４、１０６）から供給ノズル（１８８）までの流体の通過を選択的に制御する。
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【課題】良好な接液によって均一なレジスト膜を形成することができるフォトマスクブランク、フォトマスク及びそれらの製造方法並びに塗布装置を提供すること。
【解決手段】レジスト液２１を塗布装置に備えられたノズル２２の毛細管現象により上昇させ、上昇させたレジスト液２１を下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａに接液させ、ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて被塗布面１０ａにレジスト膜を形成することを含むフォトマスクブランクの製造方法であって、接液の際には、ノズルの一端が、他端より被塗布面に接近することにより、前記ノズル内の前記塗布液が、前記ノズルの一端において、被塗布面に最初に接液し、前記最初に接液した点を接液起点として、前記一定長さのノズルの全長にわたる、接液がなされるようにした。 （もっと読む）

【課題】塗布工程のタクト時間を短縮し、且つ、現状より長時間をフォトレジスト供給２に費やし、より微小な異物を捕捉するフォトレジストの塗布方法及びスリットコータを提供する。
【解決手段】奇数枚目の基板への塗布には、第１フォトレジスト供給系４０ＡのディスペンスポンプＤＰ−Ａからスリットノズル２３へのフォトレジストの供給と、フォトレジスト貯蔵容器４３から１次ポンプ１Ｐ−Ａへの供給、及び第２フォトレジスト供給系４０Ｂの１次ポンプ１Ｐ−ＢからディスペンスポンプＤＰ−Ｂへの供給を行い、偶数枚目の基板への塗布には、第２フォトレジスト供給系のディスペンスポンプからスリットノズルへのフォトレジストの供給と、フォトレジスト貯蔵容器から１次ポンプへの供給、及び第１フォトレジスト供給系の１次ポンプからディスペンスポンプへの供給を行うこと。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減と、乾燥処理時間の短縮化および洗浄処理用ツールおよび／または乾燥処理用ツールの長寿命化を図ること。
【解決手段】このプライミング処理装置は、プライミングローラ１４の周囲に回転方向に沿って、洗浄パッド２０を有する粗洗浄処理部１８と、２流体ジェットノズル４２を有する仕上げ洗浄処理部３８と、拭いパッド５２を有する液滴除去部４８と、隙間５８およびガスノズル６０を有する乾燥ブロー部５０とを配置している。洗浄パッド２０および拭いパッド５２は、洗浄パッド移動機構２４および拭いパッド移動機構５６によりプライミングローラ１４の外周面に接触する第１の位置とそこから退避する第２の位置との間で切り換えられる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に配線材料を含む塗布液を塗布することで配線を形成する技術において、高アスペクト比の配線を容易に形成する。
【解決手段】基板Ｗをクールプレート３１上に載置して例えば液体窒素温度まで冷却しておき、この状態で、吐出ノズル５２から配線材料を含む塗布液を吐出させながら基板ＷをＸ方向に移動させる。基板Ｗ上に塗布された塗布液は冷却されることで粘度が大きく上昇し吐出時の形状が維持される。基板上の塗布液にＵＶ光を照射して光硬化させることにより、吐出時の形状を保った高アスペクト比の配線を形成することができる。 （もっと読む）